复合材料及其制备方法、发光薄膜和显示器件技术

本发明专利技术属于显示技术领域，具体涉及一种复合材料及其制备方法、发光薄膜和显示器件。本发明专利技术所提供的复合材料，包括：介孔氧化物材料和量子点，介孔氧化物材料具有褶皱结构，量子点附着于褶皱结构上。如此，可避免量子点在成膜过程中发生团聚，保证其具有良好的光稳定性，并使得量子点发射的荧光能够被褶皱壁反射并通过该荧光发射通道并向外发射，可一定程度上提高复合材料的量子效率。上提高复合材料的量子效率。上提高复合材料的量子效率。

【技术实现步骤摘要】
复合材料及其制备方法、发光薄膜和显示器件


[0001]本专利技术属于显示
，具体涉及一种复合材料及其制备方法、发光薄膜和显示器件。

技术介绍

[0002]量子点是一类可发光半导体纳米颗粒，由于量子尺寸效应，激子在三维方向上都被限制，故量子点又称“零维材料”。量子点的最大特点是可通过调控材料的尺寸来调整发射光的颜色，具有连续较宽的激发谱和狭窄对称的发射光谱，因此，不同尺寸和颜色的量子点能被单一波长的光源激发，明显区别于传统的荧光染料。同时，对比与传统的荧光材料来说，还具有较高的荧光量子效率、较强的荧光强度和高的摩尔消光系数以及较大的斯托克斯位移，使其可以在显示、照明领域作为替代材料。
[0003]目前，将量子点应用于制备显示器件时，常常将基质溶解在某种特定的溶剂中制得基质溶液，然后加入量子点进行均匀混合，之后固化成膜，获得量子点薄膜。然而，现有的量子点的分散性能往往较差，在成膜过程中容易发生团聚，析出沉淀，从而降低显示器件的发光效率和稳定性。当前，解决这一技术问题的方法包括：对量子点进行表面修饰，提高其在有机溶剂中的分散性能；修饰量本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种复合材料，其特征在于，包括：介孔氧化物材料和量子点，所述介孔氧化物材料具有褶皱结构，所述量子点附着于所述褶皱结构上。2.根据权利要求1所述的复合材料，其特征在于，所述介孔氧化物材料和所述量子点的质量比为(2-4):(1-2)；和/或所述褶皱结构呈放射状。3.根据权利要求1或2所述的复合材料，其特征在于，所述介孔氧化物材料选自介孔二氧化硅、介孔二氧化钛、介孔氧化铝和介孔氧化锆中的至少一种；和/或所述量子点选自IV族半导体材料、II-VI族半导体材料、II-V族半导体材料、III-V族半导体材料、III-VI族半导体材料、IV-VI族半导体材料、I-III-VI族半导体材料、II-IV-VI族半导体材料和II-IV-V族半导体材料中的至少一种。4.一种复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供介孔氧化物材料、量子点和有机溶剂，所述介孔氧化物材料具有褶皱结构；将所述介孔氧化物材料和所述量子点分散于所述有机溶剂中，进行加热，使得所述量子点附着于所述介孔氧化物材料的褶皱结构上。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，进行加热的步骤中，加热温度为65-80℃，加热时间为3-8小时；和/或所述褶皱结构呈放射状。6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括制备具有褶皱结构的介孔氧化物材料的步骤，制备具有褶皱结构的介孔氧化物材料的步骤包括：将模板剂和尿素溶解在水中并加入挥发性溶剂，得到混合液；将所述混合液与所述介孔氧化物前驱体进行混合，进行加热，得到具有褶皱结构的介孔氧化物材料。7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，进行加热的步骤之后，挥发去除所述有机...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶炜浩，
申请(专利权)人：TCL集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：