一种特征确定方法、装置、电子设备以及存储介质制造方法及图纸

技术编号:29257047 阅读:34 留言:0更新日期:2021-07-13 17:29
本发明专利技术公开了一种特征确定方法、装置、电子设备以及存储介质,属于单分子定位成像技术领域。该方法包括:根据样本点的特征信息,构建贝塞尔曲线;根据贝塞尔曲线上的点、样本点与样本图像之间的关系和待定位图像,确定待定位图像的目标样本图像;将目标样本图像对应的样本点的特征信息,作为待定位图像所对应的点的特征信息。上述技术方案,相比于现有的高斯拟合和三次样条插值法,在获取了更多的成像信息的同时,减少了内存资源,为多维度单分子定位成像提供了一种新思路。

【技术实现步骤摘要】
一种特征确定方法、装置、电子设备以及存储介质
本专利技术实施例涉及单分子定位成像技术,尤其涉及一种特征确定方法、装置、电子设备以及存储介质。
技术介绍
随着光学设备工艺的精进,实际应用的显微镜已经达到了理论分辨极限,由于光学的衍射影响,对于光学系统的成像面上会出现像点模糊,其模糊程度与光波波长以及孔径数值有关。为了克服衍射极限,多种超分辨显微成像的方法被提出,其中有随机光学重建显微法(STORM)以及光激活定位显微(PALM),这两种成像手段利用荧光不同步闪烁的方式实现单个荧光分子成像,最终获取每个分子的三维位置。现有的超分辨显微成像的方法中,随机光学重建显微法(STORM)以及光激活定位显微(PALM),都是利用荧光不同步闪烁的方式实现单个荧光分子成像,最终获取每个分子的三维位置。在三维成像过程中,能够轻易地的得到与光轴垂直平面x-y平面上的上的位置信息,但是关于z轴上的位置还得需要利用点扩散函数工程(PSFEngineering)。一般是通过在光路上放置柱面镜对点扩散函数进行整形,令不同z轴距离上的荧光分子,经过光学系统在相机呈现不本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种特征确定方法,其特征在于,包括:/n根据样本点的特征信息,构建贝塞尔曲线;/n根据贝塞尔曲线上的点、样本点与样本图像之间的关系和待定位图像,确定待定位图像的目标样本图像;/n将目标样本图像对应的样本点的特征信息,作为待定位图像所对应的点的特征信息。/n

【技术特征摘要】
1.一种特征确定方法,其特征在于,包括:
根据样本点的特征信息,构建贝塞尔曲线;
根据贝塞尔曲线上的点、样本点与样本图像之间的关系和待定位图像,确定待定位图像的目标样本图像;
将目标样本图像对应的样本点的特征信息,作为待定位图像所对应的点的特征信息。


2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据贝塞尔曲线上的点、样本点与样本图像之间的关系和待定位图像,确定待定位图像的目标样本图像,包括:
从贝塞尔曲线上的点中取一点,作为目标点;
根据样本点与样本图像之间的关系,确定所述目标点的预测图像;
计算所述目标点的预测图像和所述待定位图像之间的距离;
根据所述距离,确定待定位图像的目标样本图像。


3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据所述距离,确定待定位图像的目标样本图像,包括:
若距离大于预设值,则基于所述目标点的特征信息,计算残差函数的导数,以确定下一预测点与所述目标点之间的位置关系;其中,残差函数根据贝塞尔曲线上的点、样本点与样本图像之间的关系和待定位图像构建;
根据下一预测点与所述目标点之间的特征关系,从贝塞尔曲线上的点中确定下一预测点,作为目标点,并返回执行计算所述目标点的预测图像和所述待定位图像之间的距离的过程,直至距离小于预设值;
将所述目标点的预测图像作为待定位图像的目标样本图像。


4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,计算残差函数的导数,包括:
计算残差函数的雅可比行列式或黑塞矩阵。


5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据贝塞尔曲线上的点、样本点与样本图像之间的关系和待定位图像,确定待定位图像的目标样本...

【专利技术属性】
技术研发人员:李依明李孟帆
申请(专利权)人:南方科技大学
类型:发明
国别省市:广东;44

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