用于被污染气体的焚化的辐射式燃烧器制造技术

技术编号:29247970 阅读:17 留言:0更新日期:2021-07-13 17:15
公开了一种辐射式燃烧器和方法。该辐射式燃烧器用于处理来自制造加工工具的废气流且包括:多个处理室,每一个处理室具有排出流入口,以便将所述废气流的相应部分供应至该处理室以在其内处理。以这种方式,可以提供多个处理室,每一个处理室处理排出流的一部分。因此,处理室的数量能够被选定为匹配来自任意具体加工工具的废气流的流动速率。这提供一种架构,其能够可靠地缩放,以适应任意废气流流动速率的需要。

【技术实现步骤摘要】
用于被污染气体的焚化的辐射式燃烧器
本专利技术涉及辐射式燃烧器和方法。
技术介绍
辐射式燃烧器是已知的,且通常被用于处理来自在例如半导体或平板显示器制造业中所使用的制造加工工具的废气流。在此类制造期间,在从加工工具泵送的废气流中存在残留的全氟化化合物(PFC)和其他化合物。PFC难以从废气中去除,且其到环境内的释放是不期望的,因为已知其具有相对高的温室活性。已知的辐射式燃烧器使用燃烧以从废气流去除PFC和其他化合物,诸如在EP0694735中所描述的那些。通常,废气流是包含PFC和其他化合物的氮气流。燃料气体与废气流混合,且该气流混合物被输运至由有小孔的气体燃烧器的离开表面侧向环绕的燃烧室内。燃料气体和空气被同时供应到有小孔的燃烧器,以在离开表面处影响无焰燃烧,并且其中,穿过有小孔的燃烧器的空气的量不仅足以消耗至燃烧器的燃料气体供应,而且还消耗注入燃烧室的气流混合物中的所有易燃物。尽管存在用于处理废气流的技术,但是其中的每一个均具有其自己的缺点。因此,期望提供用于处理废气流的改善的技术。
技术实现思路
根据第一方面,提供一种用于处理来自制造加工工具的废气流的辐射式燃烧器,所述辐射式燃烧器包括:多个处理室,每一个处理室均具有排出流入口,以将所述废气流的相应部分供应至该处理室以便在其内处理。第一方面认识到,关于现有的辐射式燃烧器配置的问题在于,其不能够容易地缩放以应对不同的排出流速率。也就是说,每一个辐射式燃烧器配置通常被设计为应对特定排出流流动速率,且然后通过测试验证该设计。如果需要处理不同的排出流流动速率,那么通常需要新的设计,然后需要验证该设计。尽管能够重新使用一些标准零件,但是每一个辐射式燃烧器设计因此基本上是独特的,且现有布置的基础架构具有可缩放性限制。因此,提供燃烧器。燃烧器可以处理可以来自制造加工工具的废气流。燃烧器可以具有多个处理室。那些处理室中的每一个均可以具有接收待在该处理室内处理的一定比例的或者一定量的排出流的入口。以这种方式,可以提供多个处理室,其中每一个处理室处理排出流的一部分。因此,处理室的数量能够被选定为匹配来自任意具体加工工具的废气流的流动速率。这提供一种架构,其能够可靠地缩放以适应任意废气流流动速率的需要。在一个实施例中,所述多个处理室中的每一个均邻近所述多个处理室中的另一个。因此,处理室可以定位成靠近或接近彼此,以便提供紧凑布置。邻近彼此定位室还可以减少零件总数,因为邻近室可以共享共同的结构。另外,邻近彼此定位处理室可以使得一个室内的燃烧能够传播至邻近室,由此提供在来自单个点燃源的所有室内的可靠燃烧。在一个实施例中,所述多个处理室布置为一排处理室和处理室的阵列中的一种。因此,取决于约束辐射式燃烧器的尺寸的物理要求,处理室可被设置为单排,或者可被设置为处理室的排和列的矩阵。在一个实施例中,燃烧器包括分隔一对邻近处理室的分隔结构,所述分隔结构至少部分地限定邻近的每对处理室。因此,分隔或分离结构可以定位成分隔邻近的处理室。以这种方式,邻近处理室可以共享分隔结构,由此提供改善的架构的简单性和减少的零件总数。将认识到的是,分隔结构可以帮助提供分开或分立的邻近处理室,其中每一个邻近处理室均可以单独地加工其废气流的部分。在一个实施例中,所述多个处理室布置为一排处理室,且每个分隔结构定位在所述排内的邻近的每对处理室之间。因此,在处理室被形成为排的情况下,可以在该排内的邻近处理室之间设置分隔结构。在一个实施例中,所述排周向地布置。因此,所述排不需要必然是线性排,而是可以非线性地布置,且例如周向地布置。当周向地布置时,处理室的排可以提供完整或部分环。在一个实施例中,所述多个处理室布置为包括多排处理室的矩阵,且每个分隔结构定位在每一排内的邻近的每对处理室之间。因此,处理室可以设置为阵列。分隔结构还可以定位在该阵列的每一排内的邻近处理室之间。在一个实施例中,所述多个处理室布置为包括多排处理室的矩阵,且分隔结构定位在每一排内的邻近的每对处理室之间和不同排中的邻近的每对处理室之间两者。因此,处理室可以设置为排和列的阵列,且分隔结构可以定位在每一排内的邻近处理室之间,且也在每一列内的邻近处理室之间。在一个实施例中,每一排内的所述分隔结构和每一排之间的所述分隔结构垂直地取向。因此,列之间的分隔结构可以定位成垂直于排之间的分隔结构。在一个实施例中,所述分隔结构包括处理材料穿过其以便引入所述邻近的一对处理室的两个处理室内的一对有小孔的壁,每个有小孔的壁至少部分地限定所述邻近的一对处理室中的一个。因此,分隔结构可以是多孔的,以使得处理材料能够被引入两个处理室内。在一个实施例中,所述一对有小孔的壁包括相对的一对有小孔的壁。因此,壁中的一个可以限定处理室中的一个的一部分,同时另一个壁可以限定邻近处理室的一部分。在一个实施例中,所述一对有小孔的壁是形状互补的。因此,这一对壁可以具有匹配的形状。在一个实施例中,所述一对有小孔的壁是平面的。在一个实施例中,所述一对有小孔的壁是四边形的。在一个实施例中,所述一对有小孔的壁取向成具有关于彼此的平行的部件。因此,该对壁中的至少一个部件的取向可以是平行的。在一个实施例中,所述分隔结构沿所述排出流的所述部分的流动方向渐缩。通过使分隔结构渐缩,可以使分隔结构上的残留物沉积最小化,因为在处理室内加热废气流时,渐缩减少了膨胀废气流的力。在一个实施例中,所述一对有小孔的壁取向成使得由所述一对有小孔的壁中的每一个限定的平面相交。因此,一对有小孔的壁可以限定渐缩的分隔结构,因为壁被取向为会聚。在一个实施例中,所述分隔结构包括有小孔的连接部分,其沿边缘连接所述一对有小孔的壁。沿可以定位成远离排出流入口的边缘设置有小孔的连接部分帮助通过吹扫该区域减少残留物沉积。在一个实施例中,所述连接部分是弯曲的。提供弯曲部分帮助提供缺少不连续处的表面,且能够在其上传播处理室之间的点燃。在一个实施例中,所述分隔结构包括处理材料入口,以便将所述处理材料供应到由所述分隔结构限定的空隙内。因此,处理材料可以被泵送到分隔结构内的空隙内,以便流动通过有小孔的壁。在一个实施例中,所述分隔结构包括多个处理材料入口,以便将所述处理材料供应到由所述分隔结构限定的空隙内。在一个实施例中,每个处理材料入口均是圆形、细长形、四边形和长圆形形状中的至少一种。在一个实施例中,燃烧器包括至少部分地限定末端处理室的末端结构,所述末端结构包括有小孔的壁和没有小孔的壁,处理材料穿过所述有小孔的壁以便引入所述末端处理室内,所述有小孔的壁至少部分地限定所述末端处理室。因此,可以设置仅具有单个有小孔的壁的末端结构。此类末端结构可以定位在不存在邻近该末端结构的其他处理室的位置处。这确保处理材料仅被提供至末端处理室内。在一个实施例中,所述末端结构定位成与该末端处理室的每个分隔结构相对。在一个实施例中,所述有小孔的壁和没有小孔的壁包括相对的一对壁。在一个实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于处理来自制造加工工具的废气流的辐射式燃烧器,包括:/n多个处理室,每一个处理室均具有排出流入口,以便将所述废气流的相应部分供应至该处理室以便在其内处理,/n分隔一对邻近处理室的分隔结构,所述分隔结构至少部分地限定邻近的每一对处理室并且包括处理材料穿过其以便引入所述邻近的一对处理室的两个处理室内的一对有小孔的壁,所述分隔结构沿所述排出流的所述部分的流动方向渐缩并且包括弯曲的有小孔的连接部分,其沿边缘连接所述一对有小孔的壁,每个有小孔的壁至少部分地限定所述邻近的一对处理室中的一个,/n至少部分地限定末端处理室的末端结构,所述末端结构包括有小孔的壁和没有小孔的壁,处理材料穿过所述有小孔的壁以便引入所述末端处理室内,所述有小孔的壁至少部分地限定所述末端处理室,/n还包括配置成接收每一个分隔结构的壳体,所述壳体至少部分地限定每一个处理室,其中,所述壳体配置成接收每一个末端结构,并且所述壳体的至少部分地限定每一个处理室的所述部分有小平面以延伸到所述处理室内。/n

【技术特征摘要】
20150330 GB 1505448.91.一种用于处理来自制造加工工具的废气流的辐射式燃烧器,包括:
多个处理室,每一个处理室均具有排出流入口,以便将所述废气流的相应部分供应至该处理室以便在其内处理,
分隔一对邻近处理室的分隔结构,所述分隔结构至少部分地限定邻近的每一对处理室并且包括处理材料穿过其以便引入所述邻近的一对处理室的两个处理室内的一对有小孔的壁,所述分隔结构沿所述排出流的所述部分的流动方向渐缩并且包括弯曲的有小孔的连接部分,其沿边缘连接所述一对有小孔的壁,每个有小孔的壁至少部分地限定所述邻近的一对处理室中的一个,
至少部分地限定末端处理室的末端结构,所述末端结构包括有小孔的壁和没有小孔的壁,处理材料穿过所述有小孔的壁以便引入所述末端处理室内,所述有小孔的壁至少部分地限定所述末端处理室,
还包括配置成接收每一个分隔结构的壳体,所述壳体至少部分地限定每一个处理室,其中,所述壳体配置成接收每一个末端结构,并且所述壳体的至少部分地限定每一个处理室的所述部分有小平面以延伸到所述处理室内。


2.根据权利要求1所述的辐射式燃烧器,其特征在于,所述多个处理室布置为一排处理室,且每个分隔结构定位在所述排内的邻近的每一对处理室之间。


3.根据权利要求1或...

【专利技术属性】
技术研发人员:AJ西利DM普赖斯
申请(专利权)人:爱德华兹有限公司
类型:发明
国别省市:英国;GB

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