一种高性能NiZn铁氧体薄膜的制备方法技术

一种高性能NiZn铁氧体薄膜的制备方法，属于薄膜制备技术领域。包括：1)将亚硝酸钠、乙酸钠加入去离子水中，搅拌混合均匀，得到氧化反应液；2)将氯化亚铁、氯化镍、氯化锌、氯化钴加入去离子水中，搅拌混合均匀，得到还原反应液；3)将干净的基板放置于旋转喷涂设备的加热板中央，调节基板温度、旋转速度、氧化反应液和还原反应液的供应速率、超声雾化功率，沉积薄膜。本发明专利技术通过减少主配方中Fe含量并引入Co，降低了薄膜面内磁各向异性，提高NiZn铁氧体薄膜起始磁导率的同时还兼具高的截止频率和饱和磁化强度，为磁性薄膜应用于片上系统的电感器和高频开关电源提供了有效方法。高频开关电源提供了有效方法。高频开关电源提供了有效方法。

【技术实现步骤摘要】
一种高性能NiZn铁氧体薄膜的制备方法


[0001]本专利技术属于薄膜制备
，具体涉及一种高性能NiZn铁氧体薄膜的低温制备方法。

技术介绍

[0002]近年来，电子信息产品往高频化、小型化、集成化方面快速发展，特别是随着半导体工艺地不断进步，电子电路的集成度也日益提升。作为无源器件的电阻器和电容器已经能够进行薄膜化，从而在电子系统中集成应用。然而，作为三大无源器件之一的电感器，却因为传统磁性材料庞大的体积和质量，限制了其在电路系统中的集成化发展。因此，高性能软磁薄膜的发展需求变得日益迫切。NiZn铁氧体薄膜具有高电阻率、高居里温度、优良的机械耐磨性及稳定的化学性能等优点，是在高频磁性器件中广泛应用的软磁薄膜。
[0003]考虑到高频磁性器件的应用需求，NiZn铁氧体薄膜通常需要高磁导率和高截止频率，前者是磁性器件具有良好性能的前提，后者决定了磁性器件的工作频率。然而，一般情况下高磁导率和高截止频率很难同时兼顾，这也是制约NiZn铁氧体薄膜应用的因素之一。
[0004]目前，制备NiZn铁氧体薄膜的方法主要有磁控溅射法、激本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高性能NiZn铁氧体薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、配制氧化反应液和还原反应液：1.1将亚硝酸钠、乙酸钠加入去离子水中，搅拌混合均匀，得到氧化反应液，氧化反应液中，亚硝酸钠的浓度为0.1g/L～0.2g/L，乙酸钠的浓度为1.3g/L～1.5g/L；1.2将氯化亚铁、氯化镍、氯化锌、氯化钴加入去离子水中，搅拌混合均匀，得到还原反应液，还原反应液中，氯化亚铁、氯化镍、氯化锌和氯化钴的摩尔比为(12.83～13.97)：(0.61～2.83)：1：(0.11～0.67)，氯化亚铁的浓度为1.3g...

【专利技术属性】
技术研发人员：余忠，青豪，孙科，冉茂君，邬传健，刘海，蒋晓娜，兰中文，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：