一种贴膏剂基材清洁消毒设备制造技术

技术编号:29182433 阅读:26 留言:0更新日期:2021-07-06 23:55
本实用新型专利技术公开了一种贴膏剂基材清洁消毒设备,包括底座、消毒组件、驱动组件以及收卷组件,所述消毒组件安装在底座上方,所述驱动组件安装在底座上表面一侧,且所述驱动组件与消毒组件匹配安装,所述收卷组件安装在消毒组件一侧。本实用新型专利技术利用两组一号消毒灯、二号消毒灯共同作用下,可同步的对基材顶端、底端进行同步的消毒处理,提升了整体消毒精度,且在两组一号消毒灯、二号消毒灯对应分布在上腔体、下腔体内两侧,可同步的对基材进行双重消毒处理,进一步加强了整体消毒精度,该装置通过采用干式消毒方式,保证了良好消毒效果的同时规避了传统采用湿式消毒烘干不均匀、消毒不彻底的状况。彻底的状况。彻底的状况。

【技术实现步骤摘要】
一种贴膏剂基材清洁消毒设备


[0001]本技术涉及贴膏剂加工相关
,具体为一种贴膏剂基材清洁消毒设备。

技术介绍

[0002]贴膏剂系指将药物溶解或混合于天然或合成高分子材料基质中,摊涂于婊背材料上,供贴敷于皮肤的外用剂型,其中以水溶性高分子材料为基质的贴膏剂称为巴布剂,贴膏剂是指药材提取物、药材或化学物与适宜的基质和基材制成的供皮肤敷贴,可产生局部或全身性作用的一类片状外用制剂,贴膏剂基材是指用于贴膏剂类药品背衬材料的棉布、无纺布、纸等,同时贴膏剂在加工时需要进行消毒处理,但是传统的消毒设备大多采用湿式喷雾等对基材进行消毒,增大了整体消毒周期,同时基材极易存在烘干不均匀、消毒精度较差等状况发生,增大了二次消毒的劳动强度,同步加大了工作人员的劳动量。
[0003]现有技术有以下不足:传统的消毒设备大多采用湿式喷雾等对基材进行消毒,增大了整体消毒周期,同时基材极易存在烘干不均匀、消毒精度较差等状况发生,增大了二次消毒的劳动强度,同步加大了工作人员的劳动量,且无法批量的对基材进行消毒处理,存在诸多不便。
术内容
[0本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种贴膏剂基材清洁消毒设备,包括底座(1)、消毒组件、驱动组件以及收卷组件,所述消毒组件安装在底座(1)上方,所述驱动组件安装在底座(1)上表面一侧,且所述驱动组件与消毒组件匹配安装,所述收卷组件安装在消毒组件一侧。2.根据权利要求1所述的一种贴膏剂基材清洁消毒设备,其特征在于:所述消毒组件包括底端设有开口的上腔体(2)、顶端设有开口的下腔体(3)、两组一号消毒灯(4)以及两组二号消毒灯(5),所述下腔体(3)通过支架安装在底座(1)上方,所述上腔体(2)安装在下腔体(3)上方,且所述上腔体(2)、下腔体(3)匹配密封贴合连接,两组所述一号消毒灯(4)对应安装在上腔体(2)、下腔体(3)内部一侧,两组所述二号消毒灯(5)对应安装在上腔体(2)、下腔体(3)内部另一侧。3.根据权利要求2所述的一种贴膏剂基材清洁消毒设备,其特征在于:所述上腔体(2)、下腔体(3)尺寸相同,且所述上腔体(2)、下腔体(3)两侧壁均开设有与基材匹配的导向腔。4.根据权利要求1所述的一种贴膏剂基材清洁消毒设备,其特征在于:所述驱动组件包括支撑...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶小军
申请(专利权)人:江西金马生物科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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