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高热效烧水壶制造技术

技术编号:291428 阅读:297 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术是一种利用壶底下面的热源将水加热的高热效烧水壶。公知的烧水壶具有整体上光滑的旋转面壶底,受热面积小热效低。如附图所示,本实用新型专利技术的特征是壶底1上辐射状地分布着一些凹陷的区域,例如喇叭状凹陷2,它们的两端可以与其它凹陷如环状凹陷3A、3B相交叉,这样既增加了受热面积又保证了热气流在辐射状凹陷中流动的充分、顺畅,实现高效率的加热。(*该技术在2006年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术是一种利用壶底下面的热源将水加热的烧水壶。为了将水加热,现在所使用的公知的由壶底及接合在壶底上面的壶体(壶把、壶嘴、壶盖等也包括在其中)构成的烧水壶,其壶底面是一个以通过壶底中心的垂线为轴的整体上光滑的旋转面,热源中的火焰等热气流沿壶底均匀地向四周流动,实现对壶内的水进行加热。由于这种烧水壶壶底与热源的接触面积相对较小,因此加热速度较慢,热能利用率较低。本技术的目的是制成一种加热速度快,热能利用率高的烧水壶。本技术的技术方案是这样的以这种烧水壶底端所在平面为壶底面,以壶底上的一点为基准,顺应火焰等热气流流动方向,在壶底上辐射状分布着若干朝向壶内方向凹陷的区域,另外,辐射状分布的凹陷的两端或其它区段与若干朝向壶内方向凹陷的区域相交叉。这样,当热源中的热气流上升到壶底时,一方面沿壶底面向壶四周流动,实现对壶内的水进行加热;另一方面,热气流通过辐射状凹陷本身及与其内端相交叉的凹陷,从而充分地流入到辐射状凹陷的内部,并沿辐射状凹陷内部向壶底四周流动,然后热气流在辐射状凹陷的外端进入到与此外端相交叉的凹陷中去,并在后续气流的推动下,由壶底四周流出,这样保证了热气流在辐射状凹陷内部流入和流出的充分和顺畅,实现了对壶内的水进行有效加热。由于本技术的受热面积比以整体上光滑的旋转面作为壶底的水壶大大增加,并且保证了热气流流动的顺畅和充分,能高效率地实现热交换,因此加热速度快,热能利用率高。以下将接合附图对本技术的实施例作进一步的祥细描述。附图说明图1是本技术第一个实施例的壶底正视图。图2是本技术第二个实施例的壶底正视图。如附图1所示,在本实施例的壶底1上,辐射状分布着的凹陷2是均匀分布的喇叭状凹陷,与其相交叉的分别是环状凹陷3A、3B,这些凹陷的深度可以酌情确定,而且壶底上辐射状分布的凹陷的数目是5的倍数--例如10条,因此对于常用的五个支撑爪的燃气灶而言,可以根据火势的大小,而有选择地将支撑爪支撑在凹陷2中或壶底面1上,这样可以使烧水壶平稳地实现高效率的加热。附图2所示的是本技术的另一种实施例,在本实施例的壶底1上,辐射状分布的凹陷2A、2B也是均匀分布的喇叭状凹陷,与其相交叉的是环状凹陷3A、3B、3C,并且凹陷2A、2B的数目是4的倍数--例如12条,这样对于常用的三个、四个、六个支撑爪的燃气灶而言,也可以使烧水壶平稳地实现高效率的加热。本文档来自技高网...

【技术保护点】
由壶底及接合在壶底上面的壶体构成的高热效烧水壶,其特征是:以烧水壶底端所在平面为壶底面,以壶底上的一点为基准,在壶底上辐射状分布着若干朝向壶内方向凹陷的区域。

【技术特征摘要】
1.由壶底及接合在壶底上面的壶体构成的高热效烧水壶,其特征是以烧水壶底端所在平面为壶底面,以壶底上的一点为基准,在壶底上辐射状分布着若干朝向壶内方向凹陷的区域。2.按照权利要求1所述的高热效烧水壶,其特征是辐射状分布的凹陷与若干朝向壶内方向凹陷的区域相交叉。3.按照权利要求2所...

【专利技术属性】
技术研发人员:阎忠文李国兴
申请(专利权)人:阎忠文李国兴
类型:实用新型
国别省市:91[中国|大连]

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