一种脉冲电沉积Ni-B/B制造技术

本发明专利技术公开了一种脉冲电沉积Ni‑B/B

【技术实现步骤摘要】
一种脉冲电沉积Ni-B/B4C纳米复合镀层的制备方法
本专利技术涉及电镀
，尤其是一种脉冲电沉积制备Ni-B/B4C纳米复合镀膜的方法。
技术介绍
Ni-B镀层具有高硬度、高耐磨性、厚度均匀、高密度、低孔隙率和良好延展性等优良性能。这些特性使它们成为不同应用的有力候选者。与Ni-P涂层相比，Ni-B涂层具有一定的局限性和弱点，如耐腐蚀性低。在真实的工业环境中，腐蚀和磨损可以同时发生。因此，增强二元Ni-B涂层的特性是至关重要的，这样，它可以在更恶劣的条件下使用，同时提供抗腐蚀和磨损的保护。在这方面，本领域技术人员采用了不同的方法和填料进行了不同的尝试。通过引入脉冲电镀技术以及将纳米颗粒有效的掺入镀膜基体中是解决上述问题的简单而有效的方法。一方面，脉冲电镀与直流电镀相比具有降低浓差极化、增加阴极活性极化等特点，可以更加有效地控制合金镀膜的组分比例，降低镀膜孔隙率，对改善镀膜性能等方面起积极的作用，如提高硬度、耐蚀及耐磨性能。另一方面，粒径为0.1～100nm的纳米材料拥有独特物理及化学性能，在镀膜中加入均匀分散的纳米颗粒能够有效较低本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种脉冲电沉积Ni-B/B

【技术特征摘要】
1.一种脉冲电沉积Ni-B/B4C纳米复合镀层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1、钢片基体的预处理；
S2、配制电镀液，电镀液为Ni-B/B4C复合电镀液，电镀液中包括的组分以及各组分浓度如下：硫酸镍240g/L、氯化镍45g/L、硼酸30g/L、糖精0.5g/L、二甲胺硼烷3g/L、表面活性剂SDS0.1g/L、B4C纳米颗粒1-5g/L；
S3、电沉积过程：将预处理后的基体放入配制好的电镀液中进行电沉积；过程中控制温度50℃、pH为4±0.1、电流密度4A/dm2；脉冲电镀过程中的工艺参数为：脉冲频率为1000Hz，占空比为40％，时间为30min，磁力搅拌速率为400rmp；
S4、电沉积结束后，对镀件表面依次使用乙醇、纯水进行超声清洗。


2.如权利要求1所述的脉冲电沉积Ni-B/B4C纳米复合镀层的制备方法，其特征在于，步骤S1中，钢片基体的预处理包括依次进行的打磨除锈、超...

【专利技术属性】
技术研发人员：何毅，张意涵，范毅，李虹杰，何腾，田秋成，刘大红，张慧俐，张世红，
申请(专利权)人：西南石油大学，天津市精成伟业机器制造有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51