一种浅灰色三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种浅灰色三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法，属于磁控溅射镀膜技术领域；本发明专利技术中，通过对镀膜玻璃镀膜层的优化设计，提高了镀膜玻璃透过率、耐磨耐氧化能力；一种浅灰色三银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十八个膜层，其中第一层和第二层第一电介质组合层，第三层为第一低辐射功能层，第四层为第一阻挡保护层，第五层为第一晶床介质层，第六层和第七层为第二电介质组合层，第八层为第二低辐射功能层，第九层颜色调节层，第十层和第十一层为第二阻挡保护层，第十二层为第二晶床介质层，第十三层和第十四层为第三电介质组合层。本发明专利技术玻璃具有透过率高、耐磨耐氧化等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种浅灰色三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法
本专利技术属于磁控溅射镀膜
，具体涉及一种浅灰色三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
现有技术的Low-E玻璃生产工艺是在优质浮法基片上镀制以Ag为功能层，包含介质层和其它金属层的多层膜系。若按照功能层，银的层数来进行划分，Low-E玻璃可以分为单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。目前，单银、双银都是建筑玻璃领域比较成熟的节能方案,三银节能玻璃节能效果优于双银和单银，但三银玻璃膜层结构复杂，工艺控制难度大，因而成本较高。近年来市场上真正能够量产三银的厂家不多，且可供选择的三银品种也不如双银、单银丰富。随着市场逐渐成熟，同质化竞争日趋明显，客户对幕墙的外观颜色的要求也越来越高，另一方面对于人口密集的城市来说如何用色彩营造更舒适的人居环境，使得灰色系列成为营造城市生态环境的新标杆。因而灰色调玻璃成为幕墙外观的主流色彩也不难理解，但是对于市场上大多数的Low-e三银而言，其外观颜色色系难以满足客户的深度需求，因此对现有灰色膜系三银颜色进行改良。<br>现有技术的缺点本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种浅灰色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层(G)和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(G)向外依次复合有十八个膜层，其中第一层(1)和第二层(2)第一电介质组合层，第三层(3)为第一低辐射功能层，第四层(4)为第一阻挡保护层，第五层(5)为第一晶床介质层，第六层(6)和第七层(7)为第二电介质组合层，第八层(8)为第二低辐射功能层，第八层(9)为颜色调节层，第十层(10)和第十一层(11)为第二阻挡保护层，第十二层(12)为第二晶床介质层，第十三层(13)和第十四层(14)为第三电介质组合层，第十五层(15)为第三低辐射功能层，第十六层(16)为第三阻挡保护层、第十...

【技术特征摘要】
1.一种浅灰色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层(G)和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(G)向外依次复合有十八个膜层，其中第一层(1)和第二层(2)第一电介质组合层，第三层(3)为第一低辐射功能层，第四层(4)为第一阻挡保护层，第五层(5)为第一晶床介质层，第六层(6)和第七层(7)为第二电介质组合层，第八层(8)为第二低辐射功能层，第八层(9)为颜色调节层，第十层(10)和第十一层(11)为第二阻挡保护层，第十二层(12)为第二晶床介质层，第十三层(13)和第十四层(14)为第三电介质组合层，第十五层(15)为第三低辐射功能层，第十六层(16)为第三阻挡保护层、第十七层(17)和第十八层(18)为第四电介质层。


2.根据权利要求1所述一种浅灰色三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层(1)为SiNx层，膜层厚度为15～40nm；所述第二层(2)为ZnAl层，膜层厚度为10～20nm；所述第三层(3)Ag层，膜层厚度为5～10nm；所述第四层(4)为AZO层,膜层厚度为5～8nm；所述第五层(5)为SiNx层,膜层厚度为40～50nm；所述第六层(6)为ZnSn层,膜层厚度为5～15nm；所述第七层(7)为ZnAl层,膜层厚度为5～20nm；所述第八层(8)为Ag层，膜层厚度为10～20nm；所述第八层(9)为Cu层，膜层厚度为1～5nm；所述第十层(10)为NiCr层，膜层厚度为1～3nm；所述第十一层(11)为AZO层，膜层厚度为8～15nm；所述第十二层(12)为SiNx层，膜层厚度为25～40nm；所述第十三层(13)为ZnSn层,膜层厚度为10～25nm；所述第十四层(14)为ZnAl层,膜层厚度为10～30nm；所述第十五层(15)为Ag层,膜层厚度为10～20nm；所述第十六层(16)为AZO层，膜层厚度为5～8nm；所述第十七层(17)为SiNx层，膜层厚度为20～40nm；第十八层(18)为Zrox层，膜层厚度为10nm。


3.一种制备如权利要求1所述的浅灰色三银低辐射镀膜玻璃的方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层(1)：
靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1.28:1；溅射气压为3～5×10-3mbar；
B、磁控溅射第二层(2)：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2；溅射气压为3～5×10-3mbar；
C、磁控溅射第三层(3)：
靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10-3mbar；
D、磁控溅射第四层(4)：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为AZO；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为3～5×10-3mbar；
E、磁控...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊建，宋宇，蒲军，杨清华，但小龙，
申请(专利权)人：咸宁南玻节能玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42