用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施技术方案

本发明专利技术公开了一种用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施，用于考古遗址的排水配电系统，包括：遗址保护层，设置在所述考古遗址本体上方；模拟展示装置结构层，所述模拟展示装置结构层内设置有排水装置以及配电装置；遗址模拟面层设置在所述模拟展示装置结构层上方。通过上述模拟展示装置结构层与遗址保护层和遗址模拟面层其二者的布置方式可以有效地解决现有技术中的考古遗址模拟展示设施其配电系统和排水系统需要裸露在展示区域，严重影响考古遗址模拟展示设施其展示效果，导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。

【技术实现步骤摘要】
用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施


[0001]本专利技术涉及土木建筑工程
，具体涉及一种用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施。

技术介绍

[0002]考古遗址模拟展示设施是为解决土遗址露天模拟展示而设计的一种复合建筑系统，该建筑系统在满足遗址保护的前提下并真实传达遗址的信息，在有限的埋深空间范围内，尽可能将排水、配电等多种设施集合一体，减少与遗址历史信息无关的展示设备裸露于展示界面，避免带来干扰历史信息传递的问题。
[0003]现有技术中只是简单地在考古遗址本体上方搭建保护建筑，从而实现对考古遗址进行保护的功能。考虑到考古遗址本体的保护要求，防止直接展示考古遗址本体可能对遗址本体造成破坏，往往通过在考古遗址本体上方搭建考古模拟层从而实现对考古遗址的展示。但是，现有的考古遗址模拟展示设施其配电系统和排水系统需要裸露在展示区域，严重影响考古遗址模拟展示设施其展示效果，导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。

技术实现思路

[0004]因此，本专利技术旨在提供一种用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施，以解决现有技术中的考古遗址模拟展示设施其配电系统和排水系统需要裸露在展示区域，严重影响考古遗址模拟展示设施其展示效果，导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。本申请提供一种用于考古遗址的排水配电系统，包括：
[0005]遗址保护层，设置在所述考古遗址本体上方；
[0006]模拟展示装置结构层，设置在所述遗址保护层上方；所述模拟展示装置结构层内设置有排水装置以及配电装置；遗址模拟面层设置在所述模拟展示装置结构层上方。
[0007]可选的，所述配电装置设置在所述排水装置侧部；且，所述排水装置包括：垂直高度位置低于所述配电装置的局部下沉式集水坑。
[0008]可选的，所述排水装置还包括：
[0009]支撑框架，所述支撑框架为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体上方；
[0010]导水面层，设置在所述支撑框架内且表面具有排水孔，所述导水面层将所述支撑框架分隔成上下两层，所述导水面层和所述支撑框架围成与所述局部下沉式集水坑相连通的排水空间；所述局部下沉式集水坑位于所述排水空间下方。
[0011]可选的，所述排水空间通过排水沟与所述局部下沉式集水坑相连通。
[0012]可选的，所述局部下沉式集水坑内还设置有用于容置潜水泵的局部下沉式泵坑，所述潜水泵的排水管延伸至所述排水空间内并与排水系统相连通。
[0013]可选的，所述导水面层为GRC面层；所述排水孔设置在所述导水面层其凹陷位置，所述排水孔设置在所述支撑框架其中间位置和/或内腔侧壁位置。
[0014]可选的，所述局部下沉式集水坑内还具有用于容置所述潜水泵的凹陷区。
[0015]可选的，用于考古遗址的排水配电系统，还包括：
[0016]骨架层，设置在所述模拟展示装置结构层上方，用于支撑所述遗址模拟面层；且所述骨架层为透水结构。
[0017]可选的，所述骨架层为钢结构骨架。
[0018]一种考古遗址模拟展示设施，包括：
[0019]用于考古遗址的排水配电系统；以及，
[0020]考古遗址本体，所述考古遗址本体搭建在所述模拟展示装置结构层下方。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1为本专利技术提供的排水装置其内部结构示意图；
[0023]图2为本专利技术提供的局部下沉式集水坑其内部结构示意图；
[0024]图3为本专利技术提供的考古遗址模拟展示设施组成结构示意图；
[0025]图4为本专利技术提供的考古遗址模拟展示设施其排水装置和配电装置的相对位置示意图。
[0026]附图标记说明：
[0027]1‑
遗址保护层；2
‑
考古遗址本体；3
‑
模拟展示装置结构层；4
‑
排水装置；5
‑
配电装置；6
‑
遗址模拟面层；7
‑
局部下沉式集水坑；8
‑
支撑框架；9
‑
导水面层；10
‑
排水孔；11
‑
排水空间；12
‑
排水沟；13
‑
潜水泵；14
‑
排水管；15
‑
骨架层；16
‑
局部下沉式泵坑。
[0028]本专利技术的技术方案，具有如下优点：
[0029]1.本专利技术提供的用于考古遗址的排水配电系统，包括：遗址保护层，设置在所述考古遗址本体上方；模拟展示装置结构层，设置在所述遗址保护层上方；所述模拟展示装置结构层内设置有排水装置以及配电装置；遗址模拟面层设置在所述模拟展示装置结构层上方。
[0030]本专利技术通过在考古遗址本体上方设置遗址保护层，并在遗址保护层上方设置模拟展示装置结构层，之后将遗址模拟面层设置在所述模拟展示装置结构层上方。通过上述结构有效地在满足遗址保护的前提下，真实传达遗址信息。而且，更为重要的是本专利技术将排水装置以及配电装置设置在模拟展示装置结构层内，从而在有限的埋深空间范围内，尽可能将排水、配电等多种设施集合一体，减少与遗址历史信息无关的展示设备裸露于展示界面，避免设施干扰历史信息传递的问题发生。并且，将排水、配电等多种设施集合一体后，还有效地避免将考古遗址模拟展示设施其配电系统和排水系统需要裸露在展示区域，严重影响考古遗址模拟展示设施其展示效果，导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。
[0031]2.本专利技术提供的用于考古遗址的排水配电系统，所述配电装置设置在所述排水装置侧部；且，所述排水装置包括：垂直高度位置低于所述配电装置的局部下沉式集水坑。
[0032]通过将排水装置设置为均匀垂直高度位置低于所述配电装置的局部下沉式集水坑，再将配电装置设置在所述排水装置侧部不仅可以有效地优化模拟展示装置结构层的空
间布局。而且，还有效地保证配电装置的高度高于局部下沉式集水坑并使排水装置与配电装置完全分隔开，实现干湿分区，避免水渗入配电装置造成安全隐患。上述局部下沉式集水坑同时还实现了泵坑局部下沉，从而尽可能地减少了排水装置对土层的扰动，减少扰动土层的深度值和范围，从而避免对考古遗址本体造成破坏，保护考古遗址本体。
[0033]3.本专利技术提供的用于考古遗址的排水配电系统，所述排水装置还包括：支撑框架，所述支撑框架为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体上方；导水面层，设置在所述支撑框架内且表面具有排水孔，所述导水面层将所述支撑框架分隔成上下两层，所述导水面层和所述支撑框架围成与所述局部下沉式集水坑相连通的排水空间；所述局本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，包括：遗址保护层(1)，设置在考古遗址本体(2)上方；模拟展示装置结构层(3)，设置在所述遗址保护层(1)上方；所述模拟展示装置结构层(3)内设置有排水装置(4)以及配电装置(5)；遗址模拟面层(6)设置在所述模拟展示装置结构层(3)上方。2.根据权利要求1所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述配电装置(5)设置在所述排水装置(4)侧部；且，所述排水装置(4)包括：垂直高度位置低于所述配电装置(5)的局部下沉式集水坑(7)。3.根据权利要求2所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述排水装置还包括：支撑框架(8)，所述支撑框架(8)为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体(2)上方；导水面层(9)，设置在所述支撑框架(8)内且表面具有排水孔(10)，所述导水面层(9)将所述支撑框架(8)分隔成上下两层，所述导水面层(9)和所述支撑框架(8)围成与所述局部下沉式集水坑(7)相连通的排水空间(11)；所述局部下沉式集水坑(7)位于所述排水空间(11)下方。4.根据权利要求3所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述排水空间(11)通过排水沟(12)与所述局部下沉式集水坑(7)相连通。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈同滨，景泉，王琳峰，杨珂珂，李静威，任洁，徐元卿，王旭，王雅芬，朱轶夫，
申请(专利权)人：中国建筑设计研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：