一种阵列基板及液晶显示面板制造技术

本申请提供一种阵列基板及液晶显示面板。包括衬底基板以及阵列设置在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元包括多个子像素及位于相邻所述子像素之间的黑色矩阵，所述子像素包括彩色子像素和白色子像素；其中，所述彩色子像素为反射率大于85％的反射型彩色光阻层。本申请通过在衬底基板上将彩色子像素和白色子像素交替排布，从而增加对应液晶显示面板的亮度，实现彩色显示模式；同时，所述彩色子像素为反射率大于85％的反射型彩色光阻层，外界光线在所述彩色子像素上直接反射，极大的提高了光的反射率，从而提升亮度。从而提升亮度。从而提升亮度。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及液晶显示面板


[0001]本申请涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及液晶显示面板。

技术介绍

[0002]现在市场上的阅读器基本都是黑白阅读器，不能进行彩色画面的阅读，这其实对读者的观感有很大影响。阅读器无背光源，其原理是通过反射外界环境光进行显示和阅读，属于反射型的显示屏。在室内环境下，环境光的亮度和反射光的强度决定了阅读器的浏览体验；同时，亮度也是反射型薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor
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Liquid Crystal Display，简称TFT
‑
LCD)的重要指标之一。
[0003]目前，为了提高亮度，最常用的方法是采用金属反光，并通过在金属表面设置凹凸结构，把反射的图像和眩光分开，使入射光得到分散，达到相应的视角和亮度的需求；通常情况下，当采用RGB彩色显示时，由于光线需要两次经过RGB彩色光阻，会使得像素的透过率明显下降；实际操作中，若采用彩色显示模式，将会使阅读器的显示亮度下降至原本的1/3左右，严重影响阅读器的浏览体验。

技术实现思路

[0004]本申请提供了一种阵列基板及液晶显示面板，用以提高彩膜光阻的反射率，使液晶显示面板的显示质量得到改善。
[0005]为实现上述功能，本申请提供的技术方案如下：
[0006]一种阵列基板，包括衬底基板以及阵列设置在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元包括多个子像素及位于相邻所述子像素之间的黑色矩阵，所述子像素包括彩色子像素和白色子像素；其中，所述彩色子像素为反射率大于85％的反射型彩色光阻层。
[0007]在本申请的阵列基板中，所述彩色光阻层的组分包括质量分数在6％～10％之间的高分子树脂、质量分数在6％～40％之间的反射型颜料、质量分数在0～5％之间的反应单体、质量分数在0～0.2％之间的光引发剂体系、质量分数在0.1％～0.2％之间的添加剂以及质量分数在50～80％之间的溶剂。
[0008]在本申请的阵列基板中，所述反射型颜料的显色粒子包含有具有核壳结构的聚合物微球粒子。
[0009]在本申请的阵列基板中，所述反射型颜料包括红色反射型颜料、绿色反射型颜料以及蓝色反射型颜料。
[0010]在本申请的阵列基板中，所述聚合物微球粒子的粒径范围在150纳米～300纳米之间。
[0011]在本申请的阵列基板中，所述白色子像素的材料包括光刻胶，所述光刻胶包括质量分数在6％～10％之间的高分子树脂、质量分数在5％
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50％之间的纳米粒子、质量分数在0～5％之间的反应单体、质量分数在0～0.2％之间的光引发剂体系、质量分数在0.1％～0.2％之间的添加剂以及质量分数在50～80％之间的溶剂。
[0012]在本申请的阵列基板中，所述纳米粒子为二氧化钛，所述纳米粒子的粒径范围在150纳米～300纳米之间。
[0013]在本申请的阵列基板中，所述阵列基板还包括设置于所述衬底基板和所述子像素之间的多个薄膜晶体管、位于所述多个薄膜晶体管和所述子像素之间的第一绝缘层、位于所述子像素远离所述多个薄膜晶体管一侧的第二绝缘层以及位于所述第二绝缘层远离所述子像素一侧的多个像素电极。
[0014]在本申请的阵列基板中，所述彩色子像素包括红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素。
[0015]本申请提供了一种液晶显示面板，包括上述任一所述的阵列基板以及对盒基板，所述阵列基板与所述对盒基板之间设置有液晶层
[0016]本申请的有益效果：本申请通过在衬底基板上将彩色子像素和白色子像素交替排布，从而增加对应液晶显示面板的亮度，实现彩色显示模式；同时，所述彩色子像素为反射率大于85％的反射型彩色光阻层，外界光线在所述彩色子像素上直接反射，相对于现有技术而言减少了所述彩色子像素对外界光线的吸收极大的提高了光的反射率，从而提升亮度。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为现有反射型显示装置的子像素的光线示意图；
[0019]图2为本申请所提供的阵列基板的结构示意图；
[0020]图3为本申请所提供的阵列基板的子像素的光线示意图；
[0021]图4为本申请实施例所提供的阵列基板的结构示意图；
[0022]图5为本申请实施例所提供的红绿蓝三原色的反射率频谱图；
[0023]图6为本申请实施例所提供液晶显示面板的结构示意图。
具体实施方式
[0024]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
[0025]请参阅图1，现有反射型显示装置的子像素的光线示意图。
[0026]现有技术中，所述显示装置包括衬底基板100以及阵列设置在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元包括多个子像素210及位于相邻所述子像素210之间的黑色矩
array)技术是指在阵列基板上增加一层彩色滤光膜制备液晶显示装置，从而在阵列基板上就实现了RGB三原色，避免了阵列基板和彩膜基板的对位操作，以便液晶显示装置更好的进行全彩显示。
[0042]可以理解的是，所述阵列基板为COA阵列基板仅用于举例说明，本实施例对所述阵列基板的结构不做具体限制。
[0043]在本实施例中，所述衬底基板100的材料包括但不限于聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、三醋酸纤维薄膜或其他柔性材料，进一步的，在本实施例中，所述衬底基板100为PI基板，主要为聚酰亚胺，PI材料可以有效的提高基板的透光率。
[0044]在本实施例中，所述像素单元包括多个子像素210及位于相邻所述子像素210之间的黑色矩阵220，所述子像素210包括彩色子像素211和白色子像素212。本实施例通过在所述衬底基板100将所述彩色子像素211和所述白色子像素212交替排布，从而增加对应液晶显示面板的亮度，实现彩色显示模式。
[0045]具体地，所述彩色子像素211包括红色子像素2111、绿色子像素2112以及蓝色子像素2113，所述黑色矩阵220位于所述红色子像素2111与所述绿色子像素2112之间、所述绿色子像素2112与所述蓝色子像素2113之间、所述蓝色光阻213层和所述白色子像素本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板以及阵列设置在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元包括多个子像素及位于相邻所述子像素之间的黑色矩阵；所述子像素包括彩色子像素和白色子像素；其中，所述彩色子像素为反射率大于85％的反射型彩色光阻层。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述彩色光阻层的组分包括质量分数在6％～10％之间的高分子树脂、质量分数在6％～40％之间的反射型颜料、质量分数在0～5％之间的反应单体、质量分数在0～0.2％之间的光引发剂体系、质量分数在0.1％～0.2％之间的添加剂以及质量分数在50％～80％之间的溶剂。3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述反射型颜料的显色粒子为包含有具有核壳结构的聚合物微球粒子。4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述反射型颜料包括红色反射型颜料、绿色反射型颜料以及蓝色反射型颜料。5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述聚合物微球粒子的粒径范围在150纳米～300纳米之间。6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述白色子像素的材料包括光刻胶，...

【专利技术属性】
技术研发人员：于晓平，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：