显示面板的制作方法和显示面板技术

本发明专利技术实施例公开了一种显示面板的制作方法和显示面板，该显示面板的制作方法包括：提供基板；在基板上形成半导体层和多层无机层，其中，无机层分布于显示区和透光区；半导体层分布于显示区，且半导体层设置于无机层之间；在显示区对应的过孔位置形成预设厚度的光阻层；同时刻蚀过孔位置和透光区，以在过孔位置形成过孔图案，在透光区形成盲孔图案。相对于现有技术，本发明专利技术实施例提供的技术方案通过一道刻蚀工艺就能够同时对过孔位置和透光区进行刻蚀，分别形成过孔图案和盲孔图案，能够显示面板在制作过程中，减少在不同位置形成孔区时的刻蚀次数，从而降低刻蚀工艺的繁琐度，进而有利于提高显示面板的制作效率。进而有利于提高显示面板的制作效率。进而有利于提高显示面板的制作效率。

【技术实现步骤摘要】
显示面板的制作方法和显示面板


[0001]本专利技术实施例涉及显示
，尤其涉及一种显示面板的制作方法和显示面板。

技术介绍

[0002]主动矩阵有机发光二极管(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes，AMOLED)显示面板凭借其轻薄、可弯曲、发光能效高等优点，成为当前显示领域的主流产品。
[0003]针对具有盲孔的显示面板，需要去除孔区中的无机层以提升孔区摄像头的拍照效果，而现有技术在显示面板的制作过程中需要多道掩膜、刻蚀工艺形成盲孔，技术工艺较为繁琐。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种显示面板的制作方法和显示面板，以降低显示面板刻蚀工艺的繁琐度。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板具有透光区、围绕所述透光区的显示区，该显示面板的制作方法包括：提供基板；
[0006]在所述基板上形成半导体层和多层无机层；其中所述无机层分布于所述显示区和所述透光区；所述半导体层分布于所述显示区，且所述半导体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，所述显示面板具有透光区、围绕所述透光区的显示区，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成半导体层和多层无机层；其中所述无机层分布于所述显示区和所述透光区；所述半导体层分布于所述显示区，且所述半导体层设置于所述无机层之间；在所述显示区对应的过孔位置形成预设厚度的光阻层；同时刻蚀所述过孔位置和所述透光区，以在所述过孔位置形成过孔图案，在所述透光区形成盲孔图案。2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述过孔位置包括不同刻蚀深度的过孔，其中，所述预设厚度由所述半导体层对应的过孔位置和所述透光区的膜层差异参数决定。3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述膜层差异参数包括所述半导体层对应的过孔位置所对应的所述无机层的厚度、所述透光区对应的所述无机层的厚度以及刻蚀速率。4.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在所述显示区对应的过孔位置形成预设厚度的光阻层，包括：在所述无机层远离所述基板一侧涂覆所述光阻层；刻蚀所述光阻层，以使所述过孔位置对应的所述光阻层的厚度为预设厚度，且所述透光区对应的所述光阻层被完全刻蚀。5.根据权利要求4所述的显示面板的制作方法，其特征在于，采用半色调掩膜版刻蚀所述光阻层，所述半色调掩膜版包括全透光区、不透光区和半透光区；所述半透光区对应所述过孔位置，所述全透光区对应所述透光区。6.根据权利要求5所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：金玉，陆蕴雷，王恩来，马明冬，张鹏辉，黄佳兵，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：