新型光引发剂制造技术

选自酰基氧化膦、α

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】新型光引发剂


[0001]本专利技术涉及新型光引发剂及其在用于制造印刷电路板的可辐射固化的喷墨油墨中的用途。

技术介绍

[0002]印刷电路板(PCB)的生产工作流程正逐渐从标准工作流程向数字工作流程转变，以减少方法步骤的量并降低PCB生产的成本和环境影响，尤其是对于小批量生产。
[0003]喷墨是PCB制造方法的不同步骤中(从焊接掩模上的防蚀涂层到图案印刷)的优选的数字制造技术之一。优选的喷墨油墨是可UV固化的喷墨油墨。
[0004]在例如EP
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A 2725075 (AGFA)和US 7845785 (MARKEM
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IMAJE)中已经公开了喷墨印刷方法和喷墨油墨用于图案印刷，并且在例如EP
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A 2809735 (AGFA)和EP
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A 3000853 (AGFA)中已经公开了喷墨印刷方法和喷墨油墨用于在铜表面上施加防蚀涂层。
[0005]在例如EP
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A 1543704 (AVECIA)和EP
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A 1624001 (TAIYO INK MANUFACTURING)中还已经公开了喷墨印刷方法和喷墨油墨用于施加焊接掩模。
[0006]在不同的生产步骤中，喷墨油墨对不同基材的粘合是至关重要的。为了使粘合性能最大化，通常需要助粘剂。
[0007]现有技术中已经公开了几类助粘剂，它们中的大多数本质上是酸性的。
[0008]WO2004/026977 (AVECIA)公开了一种非水性耐蚀刻喷墨油墨，其包含1
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30重量%的含有一个或多个酸性基团的丙烯酸酯官能单体作为在剥离期间的助粘剂和助溶解剂。
[0009]WO2004/106437 (AVECIA)公开了一种耐蚀刻喷墨油墨，其优选包含(甲基)丙烯酸酯酸性助粘剂，例如(甲基)丙烯酸酯化的羧酸、(甲基)丙烯酸酯化的磷酸酯和(甲基)丙烯酸酯化的磺酸。
[0010]在着色的系统(例如焊接掩模油墨和图案油墨)中，酸性助粘剂通常干扰颜料分散，导致油墨有限的稳定性。这可能对工业印刷系统在PCB印刷中的可靠性具有影响，导致不可接受的生产能力损失。
[0011]因此，还需要设计无需酸性助粘剂的可喷射的可辐射固化的制剂。

技术实现思路

[0012]本专利技术的目的是提供新型光引发剂及其在用于PCB制造的可辐射固化的喷墨油墨中的用途，其特征在于对各种基材良好的粘合，同时保持可辐射固化的喷墨油墨优异的喷射和稳定性性能。
[0013]本专利技术的目的通过根据权利要求1所述的光引发剂实现。
[0014]已经发现包含如在权利要求1所定义的光引发剂的可辐射固化的组合物对各种基材具有优异的粘合，而无需酸性助粘剂。
[0015]本专利技术的其它目的将从下文的描述中变得显而易见。
具体实施方式
[0016]定义在例如单官能可聚合化合物中的术语“单官能”是指可聚合化合物包括一个可聚合基团。
[0017]在例如双官能可聚合化合物中的术语“双官能”是指可聚合化合物包括两个可聚合基团。
[0018]在例如多官能可聚合化合物中的术语“多官能”是指可聚合化合物包括多于两个可聚合基团。
[0019]术语“烷基”是指烷基中对于每个碳原子数可能的所有变体，即，甲基；乙基；对于三个碳原子：正丙基和异丙基；对于四个碳原子：正丁基、异丁基和叔丁基；对于五个碳原子：正戊基、1,1
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二甲基
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丙基、2,2
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二甲基丙基和2
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甲基
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丁基等。
[0020]除非另有说明，否则取代或未取代的烷基优选为C1‑
C6‑
烷基。
[0021]除非另有说明，否则取代或未取代的烯基优选为C2‑
C6‑
烯基。
[0022]除非另有说明，否则取代或未取代的炔基优选为C2‑
C6‑
炔基。
[0023]除非另有说明，否则取代或未取代的烷芳基优选为包括一个、两个、三个或更多个C1‑
C6烷基的苯基或萘基。
[0024]除非另有说明，否则取代或未取代的芳烷基优选为包括苯基或萘基的C7‑
C
20
‑
烷基。
[0025]除非另有说明，否则取代或未取代的芳基优选为苯基或萘基。
[0026]除非另有说明，否则取代或未取代的杂芳基优选为被一个、两个或三个氧原子、氮原子、硫原子、硒原子或其组合取代的五元或六元环。
[0027]在例如取代的烷基中的术语“取代的”是指烷基可以被除了通常存在于这样的基团中的原子(即，碳和氢)以外的其它原子取代。例如，取代的烷基可以包括卤素原子或硫醇基。未取代的烷基仅含有碳和氢原子。
[0028]除非另有说明，否则取代的烷基、取代的烯基、取代的炔基、取代的芳烷基、取代的烷芳基、取代的芳基和取代的杂芳基优选被选自以下的一个或多个成分取代：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基和叔丁基、酯、酰胺、醚、硫醚、酮、醛、亚砜、砜、磺酸酯、磺酰胺、
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Cl、
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Br、
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I、
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OH、
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SH、
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CN和
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NO2。
[0029]光引发剂根据本专利技术的光引发剂选自酰基氧化膦、α
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羟基
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酮和α
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氨基
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酮，被至少一个脂肪族二硫化物进一步官能化。
[0030]脂肪族二硫化物定义为其中两个硫原子键合到饱和碳原子的二硫化物，意味着所述碳原子不是芳族或杂芳族环、双键或三键的一部分。
[0031]在优选的实施方案中，光引发剂具有根据式I的化学结构，
其中R1、R3和R5独立地选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基或杂芳基和OR8，R2和R4独立地选自氢、酰胺、磺酰胺、氨基甲酸酯、脲基、酯和醚，R6选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基或杂芳基和OR8，R7选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基或杂芳基和酰基，R8选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基和取代或未取代的芳基或杂芳基，条件是R1至R8中的至少一个被脂肪族二硫化物取代。
[0032]在特别优选的实施方案中，光引发剂具有根据式II的化学结构，其中L1表示包含不超过20个碳原子的二价连接基团；R
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和R
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独立地选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基和取代或未取本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.光引发剂，其选自酰基氧化膦、α
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羟基
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酮和α
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氨基
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酮，其特征在于所述光引发剂包括至少一个脂肪族二硫化物作为官能团。2.根据权利要求1所述的光引发剂，其具有根据式I的化学结构，其中R1、R3和R5独立地选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基或杂芳基和OR8；R2和R4独立地选自氢、酰胺、磺酰胺、氨基甲酸酯、脲基、酯和醚；R6选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基或杂芳基和OR8；R7选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基或杂芳基和酰基；R8选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基和取代或未取代的芳基或杂芳基；条件是R1至R8中的至少一个被脂肪族二硫化物取代。3.根据权利要求1所述的光引发剂，其具有根据式II的化学结构，其中X选自OH和NR
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R
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；L1表示包含不超过20个碳原子的二价连接基团；R
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和R
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独立地选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基和取代或未取代的芳基或杂芳基；R
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和R
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独立地选自取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的芳烷基；R
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表示取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳烷基；R
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和R
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可以表示形成5
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8元环所必需的原子；R
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和R
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可以表示形成5
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【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：爱克发格法特公司，
类型：发明
国别省市：