一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备制造技术

本发明专利技术涉及新型电子元件技术领域，提供一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，包括机体，所述机体的内部固定连接有放置架，放置架的底部固定连接有热敏电阻，热敏电阻的表面活动连接有推块。该控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，硅片温度到达设定值，热敏电阻的阻值产生相应变化触发驱动机构，驱动机构使推块移动，推块利用联动杆推移推板，推板、弹簧杆对梯形块进行挤压，弧形块对梯形块进行控制，当推块的移动的距离到达设定值，梯形块将弧形块向两侧拨开，梯形块推移活塞，活塞将砂从喷头处喷出，砂对半导体硅片进行冲击损伤，热传递使硅内部金属原子完全移动至损伤处便于处理。至损伤处便于处理。至损伤处便于处理。

【技术实现步骤摘要】
一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备


[0001]本专利技术涉及新型电子元件
，具体为一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，其是一种新型电子元件，由于作为半导体硅片原料的硅元素是是地壳中储量最丰富的元素之一，所以硅元素是取之不尽的，半导体硅片是光伏主要材料的原因之一，硅片上能够集成四千多万个晶体管，硅片是科学进步的标志。
[0003]在现有技术中，半导体硅片在进行被损处理时，铁、铬、镍、锌在硅内部的活动性无法判断，铁、铬、镍、锌的活动性不足，无法在硅片背面遇到损伤点时，全部从内部移动到损伤点，且冲击损伤点使用喷砂法，喷出的砂不进行回收不仅会产生浪费，还会对下一次冲击产生影响，因此一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备应运而生。

技术实现思路

[0004]为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，由以下具体技术手段所达成：
[0005]一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，包括机体，所述机体的内部固定连接有放置架，放置架的底部固定连接有热敏电阻，热敏电阻的表面活动连接有推块，推块的左右两侧均活动连接有联动杆，联动杆的表面活动连接有伸缩杆，联动杆远离推块的一端活动连接有滑块，联动杆的底部活动连接有推板，推板的底部活动连接有弹簧杆，弹簧杆的底部活动连接有梯形块，梯形块的左右两侧均活动连接有弧形块，梯形块的底部固定连接有活塞，活塞的底部活动连接有喷头，滑块的底部活动连接有拐杆，拐杆的底部活动连接有移动套，移动套的底部活动连接有连接杆，连接杆的表面活动连接有挤压板，挤压板的表面活动连接有气囊。
[0006]优选的，所述放置架的顶部固定连接有半导体硅片，放置架为吸热材料，推块的表面活动连接有驱动机构，推块与驱动机构之间活动连接有热敏电阻。
[0007]优选的，所述伸缩杆的顶部活动连接有机体，滑块的背面活动连接有限位槽，机体的内部固定连接有加热装置，加热装置对硅片进行加热。
[0008]优选的，所述弧形块活动安装在机体的内部，弧形块与机体之间活动连接有螺旋弹簧。
[0009]优选的，所述活塞的左右两侧活动连接有砂箱，喷头的正下方且位于机体的内部设置有有半导体硅片，喷头喷出砂正对准硅片。
[0010]优选的，所述移动套通过设置在其底部的连接杆活动连接有挤压板，气囊的开口朝向放置架。
[0011]本专利技术具备以下有益效果：
[0012]1、该控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，通过硅片放置在放置架的内部进行稳定，加热装置对硅片进行加热，硅片的温度传递到放置架，热敏电阻实时判断硅片温度，当硅片温度到达设定值，热敏电阻的阻值产生相应变化触发驱动机构，驱动机构使推块移动，推块利用联动杆推移推板，推板、弹簧杆对梯形块进行挤压，弹簧杆会被压缩变形，弧形块对梯形块进行控制，当推块的移动的距离到达设定值，梯形块将弧形块向两侧拨开，弹簧杆恢复原形将梯形块推移，弹簧杆能够增大梯形块的推移速度，弹簧杆间接使喷砂速度加快，梯形块推移活塞，活塞将砂从喷头处喷出，砂对半导体硅片进行冲击损伤，从而实现利用热传递使硅内部金属原子完全移动至损伤处便于处理的效果。
[0013]2、该控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，通过硅片放置在放置架的内部进行稳定，加热装置对硅片进行加热，硅片的温度传递到放置架，热敏电阻实时判断硅片温度，当硅片温度到达设定值，热敏电阻的阻值产生相应变化触发驱动机构，驱动机构使推块移动，推块利用联动杆推移推板，推板、弹簧杆对梯形块进行挤压，弹簧杆会被压缩变形，弧形块对梯形块进行控制，当推块的移动的距离到达设定值，梯形块将弧形块向两侧拨开，弹簧杆恢复原形将梯形块推移，弹簧杆能够增大梯形块的推移速度，弹簧杆间接使喷砂速度加快，梯形块推移活塞，活塞将砂从喷头处喷出，砂对半导体硅片进行冲击损伤，利用热传递使硅内部金属原子完全移动至损伤处便于处理，联动杆带动滑块移动，滑块利用拐杆带动移动套移动，移动套和连接杆配合使用拉伸挤压板，挤压板吸气将砂吸入回收，从而实现回收砂节省资源和防止下一次冲击受到砂影响使硅片变形的效果。
附图说明
[0014]图1为本专利技术放置架结构主视示意图；
[0015]图2为本专利技术伸缩杆结构主视示意图；
[0016]图3为本专利技术滑块结构主视示意图；
[0017]图4为本专利技术气囊结构主视示意图；
[0018]图5为本专利技术梯形块结构主视示意图。
[0019]图中：1、机体；2、放置架；3、热敏电阻；4、推块；5、联动杆；6、伸缩杆；7、滑块；8、推板；9、弹簧杆；10、梯形块；11、弧形块；12、活塞；13、喷头；14、拐杆；15、移动套；16、连接杆；17、挤压板；18、气囊。
具体实施方式
[0020]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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5，一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，包括机体1，机体1的内部固定连接有放置架2，放置架2的顶部固定连接有半导体硅片，放置架2为吸热材料，推块4的表面活动连接有驱动机构，推块4与驱动机构之间活动连接有热敏电阻3，放置架2的底部固定连接有热敏电阻3，热敏电阻3的表面活动连接有推块4，推块4的左右两侧均活动连接有联动杆5，联动杆5的表面活动连接有伸缩杆6。
[0022]伸缩杆6的顶部活动连接有机体1，滑块7的背面活动连接有限位槽，机体1的内部固定连接有加热装置，加热装置对硅片进行加热，联动杆5远离推块4的一端活动连接有滑块7，联动杆5的底部活动连接有推板8，推板8的底部活动连接有弹簧杆9，弹簧杆9的底部活动连接有梯形块10，梯形块10的左右两侧均活动连接有弧形块11，弧形块11活动安装在机体1的内部，弧形块11与机体1之间活动连接有螺旋弹簧，梯形块10的底部固定连接有活塞12，活塞12的左右两侧活动连接有砂箱。
[0023]喷头13的正下方且位于机体1的内部设置有有半导体硅片，喷头13喷出砂正对准硅片，活塞12的底部活动连接有喷头13，滑块7的底部活动连接有拐杆14，拐杆14的底部活动连接有移动套15，移动套15通过设置在其底部的连接杆16活动连接有挤压板17，气囊18的开口朝向放置架2，移动套15的底部活动连接有连接杆16，连接杆16的表面活动连接有挤压板17，挤压板17的表面活动连接有气囊18。
[0024]综上所述，该控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，硅片放置在放置架2的内部进行稳定，加热装置对硅片进行加热，硅片的温度传递到放置架2，热敏电阻3实时判断硅片温度，当硅片温度到达设定值，热敏电阻3的阻值产生相应本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，包括机体(1)，其特征在于：所述机体(1)的内部固定连接有放置架(2)，放置架(2)的底部固定连接有热敏电阻(3)，热敏电阻(3)的表面活动连接有推块(4)，推块(4)的左右两侧均活动连接有联动杆(5)，联动杆(5)的表面活动连接有伸缩杆(6)，联动杆(5)远离推块(4)的一端活动连接有滑块(7)，联动杆(5)的底部活动连接有推板(8)，推板(8)的底部活动连接有弹簧杆(9)，弹簧杆(9)的底部活动连接有梯形块(10)，梯形块(10)的左右两侧均活动连接有弧形块(11)，梯形块(10)的底部固定连接有活塞(12)，活塞(12)的底部活动连接有喷头(13)，滑块(7)的底部活动连接有拐杆(14)，拐杆(14)的底部活动连接有移动套(15)，移动套(15)的底部活动连接有连接杆(16)，连接杆(16)的表面活动连接有挤压板(17)，挤压板(17)的表面活动连接有气囊(18)。2.根据权利要求1所述的一种控制金属原子活动性的节能环保硅片处理设备，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋丹，
申请(专利权)人：超安广州五金有限公司，
类型：发明
国别省市：