涂层剂、硬化物及膜制造技术

提供一种涂层剂、硬化物及膜。本公开提供的涂层剂，包括：玻璃化转变温度为30℃～110℃且羟基值为30mgKOH/g～150mgKOH/g的含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物(A)、聚异氰酸酯(B)、以及选自由体积平均粒径为1.5μm～6.5μm的二氧化硅粒子及含有氮原子的有机粒子所组成的群组中的一个以上的粒子(C)。组中的一个以上的粒子(C)。

【技术实现步骤摘要】
涂层剂、硬化物及膜


[0001]本公开涉及一种涂层剂、硬化物及膜。

技术介绍

[0002]本领域中正在开发含有粒子的涂层剂。例如，专利文献1(日本专利特开2018
‑
027642号公报)公开一种使用此种涂层剂制造的膜。
[0003][现有技术文献][0004][专利文献][0005][专利文献1]日本专利特开2018
‑
027642号公报

技术实现思路

[0006][专利技术所要解决的问题][0007]但是，含有粒子的涂层剂中存在产生粒子的沉降或分离，涂层剂的稳定性变差的问题点。
[0008]另外，考虑到成本方面，涂层剂的基材最近有薄膜化的倾向。因此，为了防止涂布涂层剂后，在硬化时收缩等基材损伤，要求涂层剂在更低的温度下硬化(低温硬化性)。
[0009]进而，除了要求稳定性、低温硬化性以外，对于涂层剂还要求对未处理的基材的基材密合性、被粘物为溶剂系的情况下涂布时的耐溶剂性。
[0010]因此，本专利技术所要解决的问题在于提供一种具有良好的稳定性、低温硬化性、基材本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂层剂，包括：含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物(A)，其玻璃化转变温度为30℃～110℃且羟基值为30mgKOH/g～150mgKOH/g；聚异氰酸酯(B)；以及选自由体积平均粒径为1.5μm～6.5μm的二氧化硅粒子及含有氮...

【专利技术属性】
技术研发人员：山崎彰寛，桥本祐希，东本彻，
申请(专利权)人：荒川化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：