图形处理方法及装置、电子设备、存储介质制造方法及图纸

技术编号:28977233 阅读:25 留言:0更新日期:2021-06-23 09:22
本公开是关于一种图形处理方法及装置、电子设备、存储介质。所述图形处理方法包括:响应于检测到的第一操作,绘制与所述第一操作对应的第一痕迹;响应于检测到的第二操作,为所述第一痕迹确定匹配图形,并以所述匹配图像更替所述第一痕迹;响应于检测到的第三操作,调用第一函数,所述第一函数响应于检测到的第四操作,对所述匹配图形进行动态调整,生成第一匹配图形。本公开图形绘制方式绘制效率特别高,非常方便用户使用,从而提升了用户的图形绘制体验。

【技术实现步骤摘要】
图形处理方法及装置、电子设备、存储介质
本公开涉及电子设备中图形绘制技术,尤其涉及一种图形处理方法及装置、电子设备、存储介质。
技术介绍
电子设备中一般常安装有图形绘制应用,目前的图形绘制应用能根据用户输入在触摸屏上的滑动轨迹,生成相应的滑动痕迹,以实现用户的涂鸦或图形绘制功能;目前的图形绘制应用中,无论是使用绘制笔还是手指进行绘制,会导致痕迹之间粗细不均,涂鸦线条不流畅,并且,由于绘制应用响应用户输入操作的精细度不够,会导致所绘制的图形很不齐整,特别是在绘制复杂规则图形时,多条线条很难实现对齐。这导致图形绘制应用的使用体验相当不佳。
技术实现思路
本公开提供一种图形处理方法及装置、电子设备、存储介质。根据本公开实施例的第一方面,提供一种图形处理方法,包括:响应于检测到的第一操作,绘制与所述第一操作对应的第一痕迹;响应于检测到的第二操作,为所述第一痕迹确定匹配图形,并以所述匹配图像更替所述第一痕迹;响应于检测到的第三操作,调用第一函数,所述第一函数响应于检测到的第四操作,对所述匹配图形进行动态本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图形处理方法,其特征在于,所述方法包括:/n响应于检测到的第一操作,绘制与所述第一操作对应的第一痕迹;/n响应于检测到的第二操作,为所述第一痕迹确定匹配图形,并以所述匹配图像更替所述第一痕迹;/n响应于检测到的第三操作,调用第一函数,所述第一函数响应于检测到的第四操作,对所述匹配图形进行动态调整,生成第一匹配图形。/n

【技术特征摘要】
1.一种图形处理方法,其特征在于,所述方法包括:
响应于检测到的第一操作,绘制与所述第一操作对应的第一痕迹;
响应于检测到的第二操作,为所述第一痕迹确定匹配图形,并以所述匹配图像更替所述第一痕迹;
响应于检测到的第三操作,调用第一函数,所述第一函数响应于检测到的第四操作,对所述匹配图形进行动态调整,生成第一匹配图形。


2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
响应于检测到所述第一匹配图形的轨迹点与已生成的第二匹配图形或第二痕迹的轨迹点之间的距离小于第一阈值,且小于所述第一阈值的轨迹点位于非相交的线条上,调用第二函数,所述第二函数对所述第一匹配图形进行平移,使小于所述第一阈值的轨迹点之间距离最小的点重合。


3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
响应于检测到的第五操作,绘制与所述第五操作对应的第三痕迹;
响应于检测所述第三痕迹的轨迹点与已生成的第三匹配图形或第四痕迹的轨迹点之间的距离小于第一阈值,且小于所述第一阈值的轨迹点位于非相交的线条上,调用第二函数,所述第二函数对所述第三痕迹进行平移,使小于所述第一阈值的轨迹点之间距离最小的点重合。


4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述匹配图形进行动态调整,包括:
对所述匹配图形进行以下至少之一的调整:
缩放、旋转、移动、改变线条夹角的角度。


5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
响应于检测到所述第一操作的第一属性,绘制所述第一痕迹的宽度与所述第一属性匹配。


6.根据权利要求1至5任一项所述的方法,其特征在于,所述第二操作包括以下操作:
超出第一设定时长按压操作,或连续点击超出第一设定数的点击操作,或第一设定按键被触碰;
所述第三操作包括以下操作:
按压拖动操作,或连续点击超出第二设定数的点击操作,或第二设定按键被触碰。


7.一种图形处理装置,其特征在于,所述装置包括:
第一检测单元,用于检测第一操作;
绘制单元,用于响应于所述第一操作,绘制与所述第一操作对应的第一痕迹;
更替单元,用于响应于所述第一检测单元检测到的第二操作,为所述第一痕迹确定匹配图形,并以所述匹配图像更替所述第一痕迹;
第一调用单元,用于响应于所述第一检测单元检测到的第三操作,调用第一函数;
生成单元,用于通过所述第一函数响应于所述第一检测单元检测...

【专利技术属性】
技术研发人员:张文昊
申请(专利权)人:北京小米移动软件有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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