一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统技术方案

本发明专利技术公开了一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统，包括以下步骤：步骤一、以MRI图像中，髁突最大截面图像为测量对象，描绘髁突与下颌支形态，并在下颌支后缘选择髁突向后最突出的一点和下颌角向后最突的一点，连接两点形成一条下颌支后缘切线，即为垂直参考线。步骤二、垂直与下颌支后缘切线，做一直线与下颌骨乙状切迹相切，确定水平参考线。有益效果：从而能够建立稳定的TMJ MRI测量体系，效果：可以有效的评价髁突高度，并进行治疗前后的比较，评价治疗效果；通过综合评价盘髁距离、关节盘长度和髁突高度，可以评估TMJ器质性病变的严重程度，从而指导治疗方案的制定、预测治疗效果。

【技术实现步骤摘要】
一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统
本专利技术涉及上颞下颌关节定量测量分析
，具体来说，涉及一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统。
技术介绍
颞下颌关节(TMJ)的磁共振成像(MRI)能同时对关节内部钙化、非钙化组织进行有效成像，是对这一关节内部结构是否存在异常最有效的手段；同时，由于其对患者不造成辐射伤害，故被认为安全性高于T。TMJMRI也是疾病诊断、预后判断和疗效评价中不可缺少的措施；而很多患者在诊断过程中并不需要接受T检查。因此，从MRI中获得量化的TMJ评价指标十分重要。测量中，参考线的设置非常重要。没有可靠的参考系，就无法进行定量测量。以往的研究中，确定参考线使用最多的是三圆法：1.选择髁突最大截面的磁共振影像；2.描记髁突、下颌支骨皮质外侧轮廓；3.在髁突最上方画一个内切圆，分别与髁突轮廓的前、后、上边界相切，描记圆心；4.经过上述圆心，在其下方做第二个内切圆，与髁突前后轮廓相切，描记第二圆心；5.经过上述第二圆心，在其下方做第三个内切圆，与髁突前后轮廓相切，描记第三圆心；6.连接第一个、第三个圆心，所得的直线即为髁突长轴，也就是TMJMRI的垂直参考线y；7.经过髁突长轴方向上、髁突轮廓的最上点，做一条与髁突相切、与髁突长轴向垂直的直线，就是水平参考线x。如图1所示，以髁突心态位参照的测量系便于评价髁突的高度、宽度、关节盘与髁突的位置关系等，但是由于髁突头部形态多变异，如图2-3所示，三个内切圆的大小和分布并不稳定，导致参考系出现倾斜、偏移，给测量带来误差。针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统包括以下步骤：步骤一、以MRI图像中，髁突最大截面图像为测量对象，描绘髁突与下颌支形态，并在下颌支后缘选择髁突向后最突出的一点和下颌角向后最突的一点，连接两点形成一条下颌支后缘切线，即为垂直参考线。步骤二、垂直与下颌支后缘切线，做一直线与下颌骨乙状切迹相切，确定水平参考线。步骤三、在垂直参考线的方向上，髁突头部轮廓中最高的点即为髁突顶点。步骤四、髁突顶点到水平参考线的距离即为髁突的高度，髁突顶点到关节盘后缘的距离为关节盘移位的距离。步骤五、节窝的轮廓在垂直参考线上最高的一点记为关节窝点关节结节的轮廓在垂直参考线上最低的一点记为关节结节点，上述两点到水平参考线距离的差值即为关节窝的深度。步骤六、髁突顶点与关节窝点到水平参考线距离的差值即为关节间隙的宽度。步骤七、关节盘前缘中点到关节盘中点的距离加关节盘后缘中点到盘中点的距离，即为关节盘长度。进一步的，当关节盘变形无法识别盘中点时，前缘和后缘的中点连线即为关节盘长度。与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：从而能够建立稳定的TMJMRI测量体系，效果：1.可以有效的评价髁突高度，并进行治疗前后的比较，评价治疗效果；2.通过综合评价盘髁距离、关节盘长度和髁突高度，可以评估TMJ器质性病变的严重程度，从而指导治疗方案的制定、预测治疗效果；3.建立了具有广范一致性、稳定性的评价体系，可用于不同个体间的横向比较，是进行TMJ盘移位临床研究，尤其是横断面研究不可缺少的手段。其中，关节窝的深度(也就是关节结节相对与关节窝的高度)决定了关节盘手术复位的难易程度，是指导手术方式选择的重要指标。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有技术中三圆法确定髁突长轴的结构示意图；图2是采用三圆法的同一位患者，由于右侧关节出现骨吸收，其头部形态改变，导致内切圆大小、位置变化的结构示意图；图3是采用三圆法的大体形态相近的关节，由于其头部形态变异，导致测量系方向变化的结构示意图；图4是根据本专利技术实施例的一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统中垂直参考线的结构示意图；图5是根据本专利技术实施例的一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统中水平参考线的结构示意图；图6是根据本专利技术实施例的一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统中髁突的高度的结构示意图；图7是根据本专利技术实施例的一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统中关节盘移位的距离的结构示意图；图8是根据本专利技术实施例的一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统中关节窝的深度和关节间隙的宽度的结构示意图；图9是根据本专利技术实施例的一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统中关节盘长度的结构示意图。具体实施方式下面，结合附图以及具体实施方式，对专利技术做出进一步的描述：实施例一：请参阅图4-9，根据本专利技术实施例的一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统，包括以下步骤：S101、如图4所示，以MRI图像中，髁突最大截面图像为测量对象，描绘髁突与下颌支形态，并在下颌支后缘选择髁突向后最突出的一点和下颌角向后最突的一点，连接两点形成一条下颌支后缘切线，即为垂直参考线。S103、如图5所示，垂直与下颌支后缘切线，做一直线与下颌骨乙状切迹相切，确定水平参考线。S105、在垂直参考线的方向上，髁突头部轮廓中最高的点即为髁突顶点。S107、如图6所示，髁突顶点到水平参考线的距离即为髁突的高度，髁突顶点到关节盘后缘的距离为关节盘移位的距离。S109、如图7-8所示，节窝的轮廓在垂直参考线上最高的一点记为关节窝点关节结节的轮廓在垂直参考线上最低的一点记为关节结节点，上述两点到水平参考线距离的差值即为关节窝的深度。S111、如图8所示，髁突顶点与关节窝点到水平参考线距离的差值即为关节间隙的宽度。S113、如图9所示，关节盘前缘中点到关节盘中点的距离加关节盘后缘中点到盘中点的距离，即为关节盘长度。在进一步的实施例中，当关节盘变形无法识别盘中点时，前缘和后缘的中点连线即为关节盘长度。通过本专利技术的上述方案，从而能够建立稳定的TMJMRI测量体系，效果：1.可以有效的评价髁突高度，并进行治疗前后的比较，评价治疗效果；2.通过综合评价盘髁距离、关节盘长度和髁突高度，可以评估TMJ器质性病变的严重程度，从而指导治疗方案的制定、预测治疗效果；3.建立了具有广范一致性、稳定性的评价体系，可用于不同个体间的横向比较，是进行TMJ盘移位临床研究，尤其是横断面研究不可缺少的手段。其中，关节窝的深度(也就是关节结节相对与关节窝的高度)决定了关节盘手术复位的难易程度，是指导手术方式选择的重要指标。...

【技术保护点】
1.一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤一、以MRI图像中，髁突最大截面图像为测量对象，描绘髁突与下颌支形态，并在下颌支后缘选择髁突向后最突出的一点和下颌角向后最突的一点，连接两点形成一条下颌支后缘切线，即为垂直参考线。/n步骤二、垂直与下颌支后缘切线，做一直线与下颌骨乙状切迹相切，确定水平参考线。/n步骤三、在垂直参考线的方向上，髁突头部轮廓中最高的点即为髁突顶点。/n步骤四、髁突顶点到水平参考线的距离即为髁突的高度，髁突顶点到关节盘后缘的距离为关节盘移位的距离。/n步骤五、节窝的轮廓在垂直参考线上最高的一点记为关节窝点关节结节的轮廓在垂直参考线上最低的一点记为关节结节点，上述两点到水平参考线距离的差值即为关节窝的深度。/n步骤六、髁突顶点与关节窝点到水平参考线距离的差值即为关节间隙的宽度。/n步骤七、关节盘前缘中点到关节盘中点的距离加关节盘后缘中点到盘中点的距离，即为关节盘长度。/n

【技术特征摘要】
1.一种磁共振图像上颞下颌关节定量测量分析系统，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、以MRI图像中，髁突最大截面图像为测量对象，描绘髁突与下颌支形态，并在下颌支后缘选择髁突向后最突出的一点和下颌角向后最突的一点，连接两点形成一条下颌支后缘切线，即为垂直参考线。
步骤二、垂直与下颌支后缘切线，做一直线与下颌骨乙状切迹相切，确定水平参考线。
步骤三、在垂直参考线的方向上，髁突头部轮廓中最高的点即为髁突顶点。
步骤四、髁突顶点到水平参考线的距离即为髁突的高度，髁突顶点到关节盘后缘的距离为关节盘...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢千阳，杨驰，陈敏洁，白果，刘芷扬，李佩伦，
申请(专利权)人：上海交通大学医学院附属第九人民医院，
类型：发明
国别省市：上海;31