【技术实现步骤摘要】
一种摩擦副体系以及柔性显示装置
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种摩擦副体系及其形成方法以及一种柔性显示装置。
技术介绍
微电子、光电子、集成电路制造是衡量一个国家地位和综合国力的重要标志之一，是当今世界竞争最激烈、发展最迅速的领域，只有掌握先进的微电子及光电子制造技术才能有效地控制成本和扩大生产规模，才能在激烈的市场竞争中生存和发展。微电子及光电子先进制造作为国民经济的基础产业、先导产业、支柱产业和战略性产业，对我国国民经济、国家安全、人民生活和社会进步正在发挥着越来越重要的作用。柔性显示技术正逐渐改善人们的生活和交流，并显著推进着信息可视化。近年来，柔性显示的优势日益突出，柔性电子与作为平板显示的LCD、OLED和等离子体显示相比，具有超薄、质量轻、耐用、储存量大、设计自由，可挠曲、可收卷和耐冲击等性能，广泛适用于移动电话、个人数字助理PDA、笔记本电脑、商标、安全身份文件、电子书、电子海报、汽车仪表板、RF识别系统、传感器、环境显示、医疗、普通照明、机器人感觉皮肤等工业、民用及军事行业，柔性显示器还可以让...
【技术保护点】
1.一种摩擦副体系，包括：摩擦副，所述摩擦副包含两个接触面，其中一接触面上形成有二硫化钼薄膜，与其相接触的另一接触面上形成有金刚石薄膜。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种摩擦副体系，包括：摩擦副，所述摩擦副包含两个接触面，其中一接触面上形成有二硫化钼薄膜，与其相接触的另一接触面上形成有金刚石薄膜。
2.根据权利要求1所述的摩擦副体系，其特征在于，所述摩擦副的材质均包括金属。
3.根据权利要求1所述的摩擦副体系，其特征在于，所述摩擦副的材质均为不锈钢。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的摩擦副体系，其特征在于，所述二硫化钼薄膜为层状二硫化钼薄膜，所述金刚石薄膜为金刚石(111)面高取向薄膜。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的摩擦副体系，其特征在于，所述二硫化钼薄膜的厚度为10nm～1000nm，所述金刚石薄膜的厚度为10nm～1000nm。
6.一种柔性显示装置，包括柔性屏主体和权利要求1～5中任意一项所述的摩擦副体系。
7.根据权利要求6所述的柔性显示装置，其特征在于，所述摩擦副体系中，所述摩擦副包括可卷曲支撑件和滑卷组件，所述二硫化钼薄膜和所述金刚石薄膜分别形成在所述可卷曲支撑件和所述滑卷组件相接触的两个接触面上。
技术研发人员：郝潇鸣，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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