一种单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层及其制备方法，涉及表面涂层技术领域。本发明专利技术提供的单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层，具有面心立方晶格单一晶型结构；所述单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层中Cr、Zr、V、Ti、Al为等摩尔比或接近等摩尔比；所述Cr、Zr、V、Ti、Al的摩尔分数独立地为8～20％。本发明专利技术提供的单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层具有高硬度、高结合力和优异耐磨性能。

【技术实现步骤摘要】
一种单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层及其制备方法
本专利技术涉及表面涂层
，具体涉及一种单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层及其制备方法。
技术介绍
氮化物陶瓷涂层如TiN、CrN、TiAlN、CrAlN、TiAlSiN等，因具有高熔点、高硬度、优异的耐磨性能和高温稳定性能，广泛应用于工具、刀具、模具等机械加工以及航空、航天、核能、冶金等机械装备领域。但随着服役环境和工况条件的不断提高，传统氮化物涂层已经无法满足使用要求，采用高熵概念制备新型氮化物高熵陶瓷涂层受到关注。氮化物高熵陶瓷涂层是一种由多种金属元素(五种或五种以上)和氮元素固溶为单一晶型的新型陶瓷，具有较高的熵值。与传统氮化物陶瓷涂层相比，氮化物高熵陶瓷涂层具有更高强度、更高硬度、优异的耐磨性和结构稳定性，在机械工程领域中具有更广阔的应用前景。2004年，T.K.Chen等人率先报道了采用直流磁控溅射技术，分别以FeCoNiCrCuAlMn和FeCoNiCrCuAl为合金靶，制备了(FeCoNiCrCuAlMn)N和(FeCoNiCrCuAl)N高熵陶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层，具有面心立方晶格单一晶型结构；所述单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层中Cr、Zr、V、Ti和Al为等摩尔比或近等摩尔比；所述Cr、Zr、V、Ti、Al的摩尔分数独立地为8～20％。/n

【技术特征摘要】
1.一种单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层，具有面心立方晶格单一晶型结构；所述单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层中Cr、Zr、V、Ti和Al为等摩尔比或近等摩尔比；所述Cr、Zr、V、Ti、Al的摩尔分数独立地为8～20％。


2.根据权利要求1所述的单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层，其特征在于，所述单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层的厚度为1～6μm。


3.根据权利要求1所述的单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层，其特征在于，所述Cr、Zr、V、Ti、Al的摩尔分数独立地为11～15％。


4.权利要求1～3任一项所述的单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层的制备方法，包括以下步骤：
采用多弧离子镀在基底表面沉积单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层。


5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在沉积所述单相结构(CrZrVTiAl)N高熵陶瓷涂层前还包括：采用多弧离子镀在基底表面沉积CrZrVTiAl过渡层。


6.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓红，李红轩，许文举，吉利，周惠娣，陈建敏，
申请(专利权)人：中国科学院兰州化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：甘肃;62