一种线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，包括：氨处理槽，所述氨处理槽用于盛装含有氨水和/或无机铵盐溶液，或用于盛装无机铵盐固体；至少一个氨配制槽，所述的氨配制槽用于盛装碱性蚀刻液和/或碱性蚀刻废液和/或碱性蚀刻再生配制溶液，或者用于配制碱性蚀刻子液；气体引流装置，所述的气体引流装置用于将气体从所述的氨处理槽引流至所述的氨配制槽中。过该装置能在不使用液氨的情况下实现对碱性蚀刻液进行氨源的补充，也能在碱性蚀刻废液再生为碱性蚀刻子液的过程中实现氨源的安全添加。

【技术实现步骤摘要】
一种线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置
本技术属于线路板蚀刻废液回收领域，具体涉及一种线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置。
技术介绍
在现有的印刷线路板（PCB）制作过程中，蚀刻是重要的一步。蚀刻是指将覆铜箔基板上不需要的铜用蚀刻液以化学反应方式予以除去，使其形成所需要的电路图形。碱性氯化铜氨蚀刻液（下面简称碱性蚀刻液）是目前最常见的线路板蚀刻液之一，其主要成份为铜盐、氯化铵、氨和清水，并可选有碳酸盐及其它可选的添加剂，所述的碳酸盐通常采用碳酸铵和/或碳酸氢铵。在实际的生产过程中，为了保持碱性蚀刻液的成分稳定，需要不断地加投补充液来维持蚀刻。所述的补充液通常为氨水和/或氯化铵和/或铵盐和/或添加剂的水溶液，含有一种以上成分时业内统称为碱性蚀刻子液。碱性蚀刻过程的化学反应式为：Cu+2NH4Cl+2NH3+1/2O2→Cu(NH3)4Cl2+H2O。蚀刻液工艺控制的参数：PH值范围为6.7～10.5；铜离子浓度30～200g/L。氨是碱性蚀刻液中的主要成分之一，也是碱性蚀刻过程最主要的活性反应物。氨具有挥发性，在实际的生产过程中需要及时对逸出的氨进行抽排处理。如此一来，生产过程中因氨的挥发和蚀刻液尾气被抽排处理致使碱性蚀刻液中的氨浓度会有所降低，需要及时地补充氨从而迅速解决蚀刻液缺氨的工艺问题。另一方面，在蚀刻生产过程中不断加投补充液，不可避免地导致蚀刻槽内的碱性蚀刻液增多而溢出槽外，形成碱性蚀刻废液。对于使用碱性蚀刻液的生产厂商而言，每日都有大量碱性高铜离子浓度的蚀刻废液需要处理。目前业界除了将该废液外售给环保公司进行处理以外，也有部分厂商采用萃取电解再生法和/或直接电解再生法的设备在工厂内对其进行取铜回收废液再生循环利用。在取铜后为能将废液循环回用，需要对回收工艺中在提取铜后所产出而且还含有一定量的铜离子溶液按碱性蚀刻工艺要求作重新调配再生处理。所述碱性蚀刻废液在取铜后剩余的在重新调配再生的溶液为碱性蚀刻再生配制溶液，对所述碱性蚀刻再生配制溶液在投补加氯盐和/或氨和/或添加剂和/或清水配制完成后得出来的溶液在业界里称为碱性蚀刻再生子液。因此，无论是在蚀刻过程中对碱性蚀刻液的处理，还是对碱性蚀刻废液的再生处理，都离不开对氨进行补充的过程。目前用于补充碱性蚀刻液或碱性蚀刻废液再生过程中补充氨的氨源一般为氨水和液氨。由于在使用时需要考虑溶液的体积变化，直接加投氨水会使得其他成分的浓度下降而无法正常循环，令再生过程失去意义。而液氨由于在添加后不会导致溶液的体积显著增加，因而在目前得到更为广泛的使用。然而，相比于氨水，液氨更容易发生氨气的泄漏。液氨泄漏在空气中变化为有毒的氨气，与空气在适度混合后会有爆炸可能，属于重大危险源，为安全生产埋下了隐患。因此，目前在使用液氨进行生产时，一方面需要操作人员特别谨慎，另一方面需要使用更多的安全设施防止危险的发生，为企业的生产增加了成本负担。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，通过该装置能在不使用液氨的情况下实现对碱性蚀刻液进行氨源的补充，也能在碱性蚀刻废液再生为碱性蚀刻子液的过程中实现氨源的安全添加。本技术的目的通过以下技术方案实现：一种线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，包括：氨处理槽，所述氨处理槽用于盛装含有氨水和/或无机铵盐溶液，或用于盛装无机铵盐固体；至少一个氨配制槽，所述的氨配制槽用于盛装碱性蚀刻液和/或碱性蚀刻废液和/或碱性蚀刻再生配制溶液，或者用于配制碱性蚀刻子液；气体引流装置，所述的气体引流装置用于将气体从所述的氨处理槽引流至所述的氨配制槽中。本技术的工作原理如下：将置于氨处理槽中的氨水和/或无机铵盐溶液和/或无机铵盐固体，通过加投碱性物质和/或加热处理令其中的氨和/或铵成分形成氨气逸出，并将所逸出的氨气通过所述的气体引流装置引流至所述的氨配制槽中，安全地加入所述氨配制槽所盛装的碱性蚀刻液/碱性蚀刻废液/碱性蚀刻再生配制溶液/正在配制的碱性蚀刻子液中，作为氨源，对相应溶液中的氨含量进行补充。如此一来，能避免在碱性蚀刻液或碱性蚀刻废液的处理过程中使用液氨，从而提高了处理过程的安全性；另一方面又能解决使用氨水的情况下，溶液的体积增大使得各成分的浓度下降的问题，使这生产废液再生循环回用的环保工艺符合国家安全生产法则的要求。当所述的氨处理槽中的氨气逸尽后，剩余的物质经过简单处理后即可排放，不会带来成本的负担。当所述氨配制槽中盛放的为碱性蚀刻液和/或碱性蚀刻再生配制溶液时，所述溶液还可以采用碳酸铵和/或碳酸氢铵进行调整，使溶液在一定的含氨量下而配制出来的碱性蚀刻再生子液和在蚀刻生产过程中蚀刻液因其溶液中的游离氨较少使到氨的挥发量会有所减少，从而减轻环保污染。所述的氨配制槽和氨处理槽均可以分别设置出入料口和排气口。所述的气体引流装置采用能对液体和气体混合的装置，包括但不限于对气体使用离心式风机直接打入溶液作气浮搅拌混合的装置、管道喷淋式气液混合装置和水溶液真空射流（文丘里混合器）装置。优选地，选用水溶液真空射流装置，利用所述氨配制槽中的液体作混合的液体，与从所述氨处理槽中排出的氨气形成气液混合体，能更有效地吸收氨气。为了更好地实现氨处理槽中氨气的逸出，所述的氨处理槽设置有加热源，以对所述的氨处理槽进行加热。盛放于所述氨处理槽中的氨水、无机铵盐，在受热的情况下会加速挥发或者热分解反应而逸出氨气，且逸出得更为彻底。所述的加热源可以为直接热源或间接热源。所述的加热源可以采用液浴加热、干式热传导加热、辐射式加热、电热式浸棒加热和液体传热介质管道浸入式温度热量交换器。优选地，选用电热式浸棒作为加热源以方便控制。更优选地，选用热水作为液体传热介质，以热水管浸入式温度热量交换器进行加热，在工艺应用中更安全和易控。本技术可以用在碱性蚀刻过程中直接在碱性蚀刻生产线上对碱性蚀刻液补充氨成分：所述的氨配制槽与碱性蚀刻生产线连接，在蚀刻生产的过程中按照实时的需求，将氨配制槽中已添加氨源的溶液输送至蚀刻生产线上，实现对碱性蚀刻液中氨源的实时补充。本技术所述各结构之间连接时，均可以设置阀门和/或泵浦，从而控制溶液在各结构之间输送的开启与关停，或调整通过的流量大小。本技术也可以使用在碱性蚀刻废液进行取铜后调配碱性蚀刻再生子液时补充氨成分。在所述的氨配制槽与碱性蚀刻生产线连接、且两者之间设置有泵浦和/或阀门的情况下，可以设置所述泵浦和/或阀门自动根据碱性蚀刻生产线上检测装置的检测结果控制开启或关停或调整通过的流量大小，以进行氨配制槽中溶液的加投。作为本技术的一种优选实施方式，所述的氨配制槽设有温度冷热交换器，以实现对所述氨配制槽的温度控制。在加热的情况下，能加速氨配制槽中溶液的挥发，达到加速浓缩的目的；在制冷的情况下，能使氨源溶解于溶液的过程中放出的热量快速冷却，从而加速氨源的溶解过程并减少逸出浪费。本技术可以在所述的氨配制槽和/或氨处理槽中设置搅拌装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，其特征在于，包括：/n氨处理槽，所述氨处理槽用于盛装含有氨水和/或无机铵盐溶液，或用于盛装无机铵盐固体；/n至少一个氨配制槽，所述的氨配制槽用于盛装碱性蚀刻液和/或碱性蚀刻废液和/或碱性蚀刻再生配制溶液，或者用于配制碱性蚀刻子液；/n气体引流装置，所述的气体引流装置用于将气体从所述的氨处理槽引流至所述的氨配制槽中。/n

【技术特征摘要】
20190821 CN 2019107761434;20190905 CN 2019108398681.一种线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，其特征在于，包括：
氨处理槽，所述氨处理槽用于盛装含有氨水和/或无机铵盐溶液，或用于盛装无机铵盐固体；
至少一个氨配制槽，所述的氨配制槽用于盛装碱性蚀刻液和/或碱性蚀刻废液和/或碱性蚀刻再生配制溶液，或者用于配制碱性蚀刻子液；
气体引流装置，所述的气体引流装置用于将气体从所述的氨处理槽引流至所述的氨配制槽中。


2.根据权利要求1所述的线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，其特征在于，所述的氨处理槽设置有加热源，以对所述的氨处理槽进行加热。


3.根据权利要求1所述的线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，其特征在于，所述的氨配制槽与碱性蚀刻生产线连接。


4.根据权利要求1所述的线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，其特征在于，所述的氨配制槽设有温度冷热交换器，以实现对所述氨配制槽的温度控制。


5.根据权利要求1～4任一项所述的线路板碱性蚀刻液的无液氨处理装置，其特征在于，设置冷凝收集器，以对氨配制槽中溶液生成的气体进行冷凝处理。

【专利技术属性】
技术研发人员：叶涛，
申请(专利权)人：叶涛，
类型：新型
国别省市：广东;44