一种多层堆叠阻隔膜结构制造技术

技术编号:28877998 阅读:80 留言:0更新日期:2021-06-15 23:13
本实用新型专利技术提出一种多层堆叠阻隔膜结构,包括柔性基膜、第二无机物阻隔层、无机物反应层和第一无机物阻隔层,所述柔性基膜的一侧设置所述第二无机物阻隔层,所述第二无机物阻隔层相对所述柔性基膜的另一侧设置所述无机物反应层,所述无机物反应层相对所述第二无机物阻隔层的另一侧设置所述第一无机物阻隔层。本实用新型专利技术将包含缺陷的无机物阻隔层之间,增加一无机物反应层,可以达到10

【技术实现步骤摘要】
一种多层堆叠阻隔膜结构
本技术涉及阻隔膜结构,尤其是涉及一种多层堆叠阻隔膜结构。
技术介绍
现有的阻隔膜结构至少包括柔性基膜和无机物阻隔层,无机物阻隔层于制程过程中,很难避免出现些微之缺陷,如灰尘造成之真孔、弯折造成之裂痕、或是异物等缺陷,因而造成水气、氧气可透过这些缺陷进行渗透。为了改善无机物阻隔层缺陷造成阻隔率下降之问题,有技术于该于第二无机物阻隔层上方,增加第一无机物阻隔层,藉由缺陷位置不同,进而延长水气、氧气渗透的路径,增加阻隔效果。该技术虽可藉由延长水气、氧气的穿透路径增加阻隔效果,但放置时间一长,水气、氧气仍可渗透过去,但无机物阻隔层厚度太厚时,反而更容易出现裂痕缺陷,因此很难达到10-2g/m2.day以下之阻隔效果。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中的问题,提出一种多层堆叠阻隔膜结构,提高阻隔效果。本技术采用的技术方案如下:一种多层堆叠阻隔膜结构,包括柔性基膜、第二无机物阻隔层、无机物反应层和第一无机物阻隔层,所述柔性基膜的一侧设置所述第二无机物阻隔层,所述第二无机物阻隔层相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多层堆叠阻隔膜结构,其特征在于,包括柔性基膜、第二无机物阻隔层、无机物反应层和第一无机物阻隔层,所述柔性基膜的一侧设置所述第二无机物阻隔层,所述第二无机物阻隔层相对所述柔性基膜的另一侧设置所述无机物反应层,所述无机物反应层相对所述第二无机物阻隔层的另一侧设置所述第一无机物阻隔层。/n

【技术特征摘要】
1.一种多层堆叠阻隔膜结构,其特征在于,包括柔性基膜、第二无机物阻隔层、无机物反应层和第一无机物阻隔层,所述柔性基膜的一侧设置所述第二无机物阻隔层,所述第二无机物阻隔层相对所述柔性基膜的另一侧设置所述无机物反应层,所述无机物反应层相对所述第二无机物阻隔层的另一侧设置所述第一无机物阻隔层。


2.根据权利要求1所述的一种多层堆叠阻隔膜结构,其特征在于,所述第一无机物阻隔层和所述第二无机物阻隔层的厚度均设为10nm~500nm之间。


3.根据权利要求1所述的一种多层堆叠阻隔膜结构,其特征在于,所述无机物反...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡文玮
申请(专利权)人:汕头万顺新材集团股份有限公司广东万顺科技有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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