一种干燥室，其用于干燥具有显示区的图案的基底，所述显示区被溶解或悬浮在挥发性载液中的OLED材料润湿，且由干燥边界域彼此隔开。掩模使用与湿润区域相对的蒸汽透过区域和与干燥边界区域相对的蒸汽阻隔区域，来调节真空萃取过程中载液的干燥速率，或在真空萃取之前，通过将湿润区集中限制在足够小以便迅速被载液饱和的腔室内，来调节载液的干燥速率。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于干燥图案化的OLED制剂的系统和方法相关申请的交叉引用本申请要求在2018年7月23日提交的美国临时专利申请第62/702,270号以及在2019年2月28日提交的美国临时专利申请第62/812,143号的优先权，其全部内容以引用的方式并入于此。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)是一种发光二极管(LED)，其中发光组件包括有机材料层或有机材料薄膜。显示设备例如电视、计算机和移动电话，越来越多地包含单独控制的小型OLED阵列作为像素。采用喷墨技术可将溶解于或悬浮于载液中的OLED材料沉积在基底上。在类似于将文字打印到纸上的过程中，通过将OLED制剂的液滴精确地滴入所需的图案中，可以将OLED像素“打印”在合适的基底上。然后，经干燥步骤去除沉积液中的载液从而留下OLED材料。在干燥过程中，要精确控制温度、流量和压力，以去除载液而不对像素造成物理扭曲，以免对显示质量产生不利影响。然而，很难在像素级别上精确地控制压力和温度。因而，像素和显示质量可以随显示区变化。由此，需要能精确且均匀地控制如何去除OLED沉积材料上的载液的工具和方法。附图说明通过示例的方式而非限制的方式结合附图进行详细描述。附图中相同的附图标记表示相似的元件，其中：图1示出用于干燥基底105的干燥室100，所述基底105被图案化为包括由边界域115隔开的多个显示区110。图2详细描述了图1中介绍的基底105和掩模125的部分。图3显示了基底105和掩模125的平面图。图4详细描述了根据另一实施例的干燥室400。图5是根据一个实施例的掩模的平面图。图6是根据另一个实施例的掩模的平面图。图7A-图7C是根据不同实施例的掩模部分的剖视图。
技术实现思路
本文所述的实施例提供了一种干燥室，其包括：设置于外壳内的基底支撑件，所述基底支撑件具有支撑表面；具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域的掩模，所述掩模横跨于所述外壳内的所述基底支撑件的支撑表面且设置成与所述支撑表面相距可调的距离；连接至所述外壳的气源；以及连接至所述外壳的真空源。本文所述的其他实施例提供了一种用于干燥具有湿润区的基底的方法，所述湿润区由干燥边界域隔开且由载液润湿，所述方法包括：将掩模相对于基底进行定向，所述掩模具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域；以及通过所述掩模的蒸汽透过区域从所述基底的所述湿润区吸取载液。本文所述的其他实施例提供了一种干燥室，其包括：基底支撑件，所述基底支撑件用于支撑具有由干燥边界域隔开的湿润区的基底，所述湿润区包括表现出载液蒸汽压的挥发性载液；配气装置，所述配气装置限定所述基底上方的处理空间体积的处理空间，其中所述处理空间体积在五分钟内几乎达到挥发性载液的蒸汽饱和度；以及真空源，所述真空源用于从处理空间中吸取挥发性载液的蒸汽。具体实施方式图1示出用于干燥基底105的干燥室100，所述基底105被图案化为包括由边界域115隔开的多个显示区110。例如，基底105可能是一大块“母玻璃”，其上沉积着大量OLED显示器的像素阵列。边界域115可包括，例如，电子驱动器，但不含像素。当基底105放置在干燥室100的外壳102内的温控支撑件120上进行干燥时，用溶解于或悬浮于挥发性载液中的OLED材料对显示区110进行图案化。边界域115不含像素，因而没有载液。因此，边界域115上方的载液的蒸汽浓度相对较低。基底105表面上这种不均匀的浓度导致边界域115边缘的像素比显示区110的内部像素干燥得更快。干燥不均会形成不均匀的像素，从而降低显示质量。理想地，在界定像素的油墨层是平坦的情况下，例如，不理想的干燥条件会造成堆积或凹陷层。因而，在湿像素阵列上变化的干燥条件会导致像素外观出现明显的不期望变化。基底105上方的刚性掩模125被图案化为包括与湿显示区110相对的蒸汽透过区域以及与干燥区115相对的蒸汽阻挡区域。该掩模是覆盖至少一部分基底支撑件120的覆盖构件，并且通常与基底支撑件120的支撑表面121平行。在这种情况下，支撑表面121和掩模125通常为平面形状。掩模125具有面向支撑表面121的近端表面122和背向支撑表面121的远端表面123。此处，近端表面122和远端表面123均与支撑表面121平行，并且在这种情况下，它们均为平面，而远端表面123可以是任何适当的形状。近端表面122可被塑造成适于控制来自湿润区的气流和气体逸出的形状。因此，在某些方面，近端表面122可不与支撑表面121平行，以提供某些气流或汽化特性，例如，为溶剂逸度、蒸汽流动或蒸汽去除提供或多或少的蒸汽空间。蒸汽阻挡区域的尺寸以及相对于干燥区域115的间隔是一定的，从而在干燥过程中减少边缘像素上方的扩散速度。在图1的示例中，掩模125中的蒸汽透过区域在相应的湿润区上方居中且略小。所获得的掩模125的叠层降低了湿润区边缘附近的载液扩散速度，使得湿润区边缘处与更靠近湿润区中心处以相同的速度进行干燥。选择蒸汽透过区域的尺寸及其相对于基底105的间隔，以使边缘像素和内部像素的干燥时间相同。可以调节掩模125和基底105之间的间隙以增加或减小边缘像素处的载液扩散速度，由此调整边缘像素的干燥时间。此处，蒸汽透过区域被示为与显示区110并置的掩模125中的大开口。在这种情况下，这些开口的形状将与显示区110的形状有关。显示区110的被覆盖边缘的尺寸与显示区110的覆盖区和未覆盖区之间的期望的干燥速度差有关。在沿边缘的宽度轴方向上，显示区110的一个被覆盖边缘的宽度可以是沿边缘的宽度轴方向的显示区110的总宽度的1-10％，这取决于预计边缘加速干燥会影响边缘宽度。应当注意，在某些情况下，相邻显示区110之间的空间可能足够小，以使得湿润区和干燥区之间的大气成分变化不足以引起边缘干燥加速。在这种情况下，不需要覆盖如此小的干燥空间的边缘以调整干燥速度。根据待干燥的显示区110的材料的组成，显示区110之间的干燥区的尺寸在沿宽度轴方向上，小于沿显示区110的沿宽度轴方向的尺寸的1％，在一些情况下显示区110之间干燥区尺寸足够小，从而避免需要调整干燥区附近边缘的边缘干燥速度。在这种情况下，如此处所示，开口可以跨一个以上的显示区110延伸。除了开口之外，还可以使用网孔、筛网或多孔材料来形成蒸汽透过区域。网孔、筛网、多孔材料和开口可以组合使用，从而根据需要提供通过掩模125的特定流型。额外地或替代地，蒸汽透过区域可采用多个开口。在所有这些情况下，蒸汽透过区域通常具有一种材料，通过该材料形成这样或那样的多个开口。该材料从蒸汽透过区域的一侧延伸到另一侧，并与掩模125的边界区连接。蒸汽透过区域的材料的厚度可以等于或不等于边界区的厚度。例如，形成开口和/或通道的蒸汽透过区域的材料的厚度可能小于边界区的厚度。换句话说，蒸汽透过区域可能是掩模的凹陷区域，由此形成这样或那样的多个开口或通道。干燥室100包括起模销130，便于基底的取放。可以垂直地致动基底支撑件120以调节基底105和掩模125之间的间隔。同样地，可以通过本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种干燥室，其包括：/n设置于外壳内的基底支撑件，所述基底支撑件具有支撑表面；/n具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域的掩模，所述掩模横跨于所述外壳内的所述基底支撑件的支撑表面且设置成与所述支撑表面相距可调的距离；以及/n连接至所述外壳的气源；以及/n连接至所述外壳的真空源。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180723 US 62/702,270;20190228 US 62/812,1431.一种干燥室，其包括：
设置于外壳内的基底支撑件，所述基底支撑件具有支撑表面；
具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域的掩模，所述掩模横跨于所述外壳内的所述基底支撑件的支撑表面且设置成与所述支撑表面相距可调的距离；以及
连接至所述外壳的气源；以及
连接至所述外壳的真空源。
2.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模具有延伸穿过所述外壳的掩模支撑件。
3.根据权利要求2所述的干燥室，其中所述掩模支撑件位于所述掩模的两个相对侧。
4.根据权利要求1所述的干燥室，其进一步包括在所述掩模和所述真空源之间的配气元件。
5.根据权利要求4所述的干燥室，其进一步包括外围蒸汽阻挡层，所述外围蒸汽阻挡层包围所述掩模和所述配气元件之间的间隙。
6.根据权利要求4所述的干燥室，其中所述气源在向所述蒸汽阻隔层外部提供气流的位置处与所述外壳偶联。
7.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模包括从所述掩模的近端表面向所述支撑表面延伸的壁。
8.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述基底支撑件包括温控元件。
9.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模包括刚性材料，所述刚性材料设置于所述基底上方且与所述基底隔开。
10.根据权利要求1所述的干燥室，其中每个蒸汽透过区域具有单个开口、多个开口、网孔、筛网或多孔材料。
11.一种用于干...
【专利技术属性】
技术研发人员：康诺F·马迪根，亚历山大·苏康·高，
申请(专利权)人：科迪华公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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