一种分析天平的防风罩制造技术

技术编号:28839494 阅读:12 留言:0更新日期:2021-06-11 23:37
本实用新型专利技术涉及一种分析天平的防风罩,包括分析天平本体,所述分析天平本体的顶端设置有防风罩;所述防风罩包括固定安装在分析天平本体的顶端的固定框架,所述固定框架的两端贯穿设置有滑槽,所述滑槽内滑动配合有活动框架,所述活动框架的两侧固定安装有限位板,所述限位板的宽度大于滑槽的宽度,所述框架的上端设置有凹槽,所述凹槽内转动安装有转轴,所述转轴上铰接有上框架,所述上框架的自由端与前框架铰接,所述前框架外侧固定安装有把手;所述固定框架、活动框架、上框架和前框架内均固定安装有透明玻璃。本实用新型专利技术具有能够防风,便于样品的输送,使用方便快捷的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种分析天平的防风罩
本技术涉及分析天平
,特别是涉及一种分析天平的防风罩。
技术介绍
分析天平是实验中进行准确称量时最重要的仪器,它可以分为机械类和电子类,分析天平可细分为普通分析天平、空气阻尼天平、半自动光电天平、全自动光电天平和单托盘天平等。电子分析天平称量准确、显示快速清晰并且具有自动检测系统。但是在实际使用过程中,当电子分析天平受到对流风的影响时,会导致待测样品的称量结果不准确,因此分析天平大都需要配置防风罩,防风罩大都为玻璃材质,且为了便于安装,在电子分析天平的顶面上设置有四个支撑杆,这样就导致放入物体是会受到限制,造成取放困难。
技术实现思路
针对上述现有技术的不足,本专利申请所要解决的技术问题是如何提供一种能够防风,便于样品的输送,使用方便快捷的分析天平的防风罩。为了解决上述技术问题,本技术采用了如下的技术方案:一种分析天平的防风罩,包括分析天平本体,所述分析天平本体的顶端设置有防风罩;所述防风罩包括固定安装在分析天平本体的顶端的固定框架,所述固定框架的两端贯穿设置有滑槽,所述滑槽内滑动配合有活动框架,所述活动框架的两侧固定安装有限位板,所述限位板的宽度大于滑槽的宽度,所述框架的上端设置有凹槽,所述凹槽内转动安装有转轴,所述转轴上铰接有上框架,所述上框架的自由端与前框架铰接,所述前框架外侧固定安装有把手;所述固定框架、活动框架、上框架和前框架内均固定安装有透明玻璃,所述固定框架、活动框架、上框架和前框架以及玻璃构成一个罩体,所述分析天平的顶端设置有称量盘,所述称量盘的底端与分析天平相接,所述称量盘位于所述罩体内。这样,在需要进行称量时,手持把手,将前框架和上框架向后转动至分析天平后方,将活动框架沿滑槽推动至分析天平后方,之后将待称量的物品放置在称量盘,然后将活动框架复位,前框架和上框架转动下来,利用固定框架、活动框架、上框架和前框架以及玻璃构成一个罩体,避免称量过程受到对流风的影响,提高称量的准确性。其中,所述限位板正对所述固定框架的表面固定安装有橡胶垫。提高密封性能,减少气流,并且减少固定框架与限位板之间的碰撞,可以更好的进行缓冲。其中,所述上框架和前框架正对所述活动框架和限位板的表面均固定安装有橡胶垫。提高密封性能,减少气流,并且减少上框架与活动框架、前框架与限位板之间的碰撞,可以更好的进行缓冲。其中,所述固定框架相对的两侧呈L形,所述滑槽贯穿所述固定框架设置。可以更好的对活动框架进行导向,提高稳定性。其中,所述分析天平本体的底端固定安装有支脚,所述分析天平的前端下方固定安装有配重块。可以避免在活动框架滑动至分析天平后端时造成的分析天平后倾的情况。本技术具有能够防风,便于样品的输送,使用方便快捷的优点。附图说明图1为本技术所述的一种分析天平的防风罩的结构示意图。图2为图1中活动框架滑动至分析天平后方的结构示意图。图3为图1处于称量状态的示意图。图4为图3的侧视图。图5为图3的俯视图。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步的详细说明。在本技术的描述中,需要理解的是,方位词如“上、下”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,在未作相反说明的情况下,这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术保护范围的限制;方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。如图1-5所示,一种分析天平的防风罩,包括分析天平本体1,所述分析天平本体的顶端设置有防风罩;所述防风罩包括固定安装在分析天平本体的顶端的固定框架2,所述固定框架2的两端贯穿设置有滑槽,所述滑槽内滑动配合有活动框架3,所述活动框架的两侧固定安装有限位板4,所述限位板的宽度大于滑槽的宽度,所述框架的上端设置有凹槽,所述凹槽内转动安装有转轴,所述转轴上铰接有上框架5,所述上框架的自由端与前框架6铰接,所述前框架外侧固定安装有把手7;所述固定框架、活动框架、上框架和前框架内均固定安装有透明玻璃,所述固定框架、活动框架、上框架和前框架以及玻璃构成一个罩体,所述分析天平的顶端设置有称量盘8,所述称量盘的底端与分析天平相接,所述称量盘位于所述罩体内。这样,在需要进行称量时,手持把手,将前框架和上框架向后转动至分析天平后方,将活动框架沿滑槽推动至分析天平后方,之后将待称量的物品放置在称量盘,然后将活动框架复位,前框架和上框架转动下来,利用固定框架、活动框架、上框架和前框架以及玻璃构成一个罩体,避免称量过程受到对流风的影响,提高称量的准确性。其中,所述限位板正对所述固定框架的表面固定安装有橡胶垫。提高密封性能,减少气流,并且减少固定框架与限位板之间的碰撞,可以更好的进行缓冲。其中,所述上框架和前框架正对所述活动框架和限位板的表面均固定安装有橡胶垫。提高密封性能,减少气流,并且减少上框架与活动框架、前框架与限位板之间的碰撞,可以更好的进行缓冲。其中,所述固定框架相对的两侧呈L形,所述滑槽贯穿所述固定框架设置。可以更好的对活动框架进行导向,提高稳定性。其中,所述分析天平本体的底端固定安装有支脚9,所述分析天平的前端下方固定安装有配重块10。可以避免在活动框架滑动至分析天平后端时造成的分析天平后倾的情况。原理:在需要进行称量时,手持把手,将前框架和上框架向后转动至分析天平后方,将活动框架沿滑槽推动至分析天平后方,之后将待称量的物品放置在称量盘,然后将活动框架复位,前框架和上框架转动下来,利用固定框架、活动框架、上框架和前框架以及玻璃构成一个罩体,避免称量过程受到对流风的影响,提高称量的准确性。最后应说明的是:本领域的技术人员可以对本技术进行各种改动和变型而不脱离本技术的精神和范围。这样,倘若本技术的这些修改和变型属于本技术权利要求及其等统计数的范围之内,则本技术也意图包含这些改动和变型。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种分析天平的防风罩,其特征在于,包括分析天平本体,所述分析天平本体的顶端设置有防风罩;所述防风罩包括固定安装在分析天平本体的顶端的固定框架,所述固定框架的两端贯穿设置有滑槽,所述滑槽内滑动配合有活动框架,所述活动框架的两侧固定安装有限位板,所述限位板的宽度大于滑槽的宽度,所述框架的上端设置有凹槽,所述凹槽内转动安装有转轴,所述转轴上铰接有上框架,所述上框架的自由端与前框架铰接,所述前框架外侧固定安装有把手;所述固定框架、活动框架、上框架和前框架内均固定安装有透明玻璃,所述固定框架、活动框架、上框架和前框架以及玻璃构成一个罩体,所述分析天平的顶端设置有称量盘,所述称量盘的底端与分析天平相接,所述称量盘位于所述罩体内。/n

【技术特征摘要】
1.一种分析天平的防风罩,其特征在于,包括分析天平本体,所述分析天平本体的顶端设置有防风罩;所述防风罩包括固定安装在分析天平本体的顶端的固定框架,所述固定框架的两端贯穿设置有滑槽,所述滑槽内滑动配合有活动框架,所述活动框架的两侧固定安装有限位板,所述限位板的宽度大于滑槽的宽度,所述框架的上端设置有凹槽,所述凹槽内转动安装有转轴,所述转轴上铰接有上框架,所述上框架的自由端与前框架铰接,所述前框架外侧固定安装有把手;所述固定框架、活动框架、上框架和前框架内均固定安装有透明玻璃,所述固定框架、活动框架、上框架和前框架以及玻璃构成一个罩体,所述分析天平的顶端设置有称量盘,所述称量盘的底端与分析天平相接,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:李敬鹏杨波刘筱
申请(专利权)人:四川维亚本苑生物科技有限公司
类型:新型
国别省市:四川;51

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1