【技术实现步骤摘要】
一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅
本专利技术涉及光学光栅
，具体涉及一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅。
技术介绍
随着精密位移测量技术的不断发展，精密机械加工和计量装置从1900年的微米尺度不断地突破到了纳米尺度，亚纳米尺度甚至达到了皮米尺度。近年来，研究高精度、高分辨率和长时间测量的位移测量方法成为了重要的研究课题，并在探针显微、光学计量仪器、半导体产业等领域中成为至关重要的角色。光栅干涉仪，又称光栅尺，以光栅作为测量基准，相比于以波长为基准的激光干涉仪位移测量，由于对环境因素不敏感而广泛应用于工业中，而且光栅尺更加便于多维度的位移测量。基于二维光栅的光栅尺精密位移测量近年被研制出来应用于多维度测量，简化了系统的分析和实现，并且有利于提高系统的测量精度。高效率偏振无关光栅不仅有利于提高信号的信噪比还有利于提高信号对比度，进而提高系统的测量分辨率与噪声抑制能力，对光栅位移测量技术的整体发展具有一定的推动作用。与单层介质光栅相比，多层介质光栅提供了更多的优化参数，为了实现偏振无关高效率增加了可能性...
【技术保护点】
1.一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，具有二维周期性间隔设置的脊部和沟槽，其特征在于，所述的二维光栅由上至下为光栅介质层和基底构成光栅结构；所述的光栅介质层为两层介质层，两层介质层组成形状为矩形柱状或圆柱状的脊部。/n
【技术特征摘要】
1.一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，具有二维周期性间隔设置的脊部和沟槽，其特征在于，所述的二维光栅由上至下为光栅介质层和基底构成光栅结构；所述的光栅介质层为两层介质层，两层介质层组成形状为矩形柱状或圆柱状的脊部。
2.根据权利要求1所述的一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，其特征在于，所述的光栅介质层第一层介质材料SiO2，所述的光栅介质层第二层介质材料为HfO2、Ti2O5或Si3N4的任意一种。
3.根据权利要求1所述的一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，其特征在于，所述的基底的材料SiO2。
4.根据权利要求1所述的一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，其特征在于，所述的二维光栅的工作波段以780纳米为中心波长。
5.根据权利要求1所述的一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，其特征在于，当所述的光栅介质层结构为矩形柱状，光栅介质层第二层材料为HfO2且折射率为2.093时，所述的光栅周期为700-770纳米，占空比为0.42-0.56，光栅介质层第一层深度h1为10-390纳米，光栅介质层第二层深度h2为350-420纳米。
6.根据权利要求1所述的一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，其特征在于，当所述的光栅介质层结构为矩形柱状，光栅介质层第二层材料为Ta2O5且折射率为2.114时，所述的光栅周期为700-770纳米，占空比为0.41-0.56，光栅介质层第一层深度h1为10-300纳米，光栅介质层第二层深度h2为...
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