一种吡唑的纯化装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种吡唑的纯化装置，包括放置台，所述放置台上设有蒸馏结构；其中，蒸馏结构包含有：一对结构相同的支撑柱、放置板、蒸馏箱、进液管、若干结构相同加热管、出料管、接收瓶以及冷却组件；一对所述支撑柱安装在所述放置台上壁面上，所述放置板安装在一对所述支撑柱上壁面上，所述蒸馏箱放置在所述放置板上壁面上，所述蒸馏箱上壁面开设有进液孔，所述进液管安装在所述蒸馏箱上壁面开设的进液孔上，若干所述加热管安装在所述放置台上壁面上，若干所述加热管位于一对所述支撑柱之间，本实用新型专利技术涉及精密半导体制备辅料加工设备技术领域，解决了现有的吡唑混合溶液存在需要进行对吡唑提纯的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种吡唑的纯化装置
本技术涉及精密半导体制备辅料加工设备领域，具体为一种吡唑的纯化装置。
技术介绍
随着半导体行业的发展，对光刻胶剥离液提出了更高的的要求，本专利涉及的产品吡唑，是第四代水性光刻胶中的核心辅料，第四代水性光刻胶能更好的去除氮化钛掩模，更对铜、钴、钽、氮化钽等金属；氧化硅、BDII低介电材料等具有良好的基材兼容性，第四代水性光刻胶去除液成品对金属离子的要求较高，成品metal＜20ppb，作为该配方中起到缓蚀剂作用的吡唑也提出了更高的要求，对其metal要求小于20ppb，国内吡唑的生产厂家生产的该产品主要应用在农药行业，产品的金属离子含量一般在1000ppb,如果应用在第四代水性光刻胶的配方中，会严重影响成品的金属离子含量，本专利技术有效的将吡唑的金属离子控制在10ppb以下，并减少了其它杂质的含量，使其能完全满足第四代水性光刻胶的要求，吡唑可作为某些光敏材料单体的侧链，具有广泛的应用，在用作某些光敏材料单体时，由于吡唑溶于水，当需要使用吡唑进行精密半导体制备的辅料进行生产时，需要现将吡唑的水溶液对吡唑进行提纯，现有的吡唑混合溶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种吡唑的纯化装置，包括放置台(1)，其特征在于，所述放置台(1)上设有蒸馏结构；/n其中，蒸馏结构包含有：一对结构相同的支撑柱(2)、放置板(3)、蒸馏箱(4)、进液管(5)、若干结构相同加热管(6)、出料管(7)、接收瓶(8)以及冷却组件；/n一对所述支撑柱(2)安装在所述放置台(1)上壁面上，所述放置板(3)安装在一对所述支撑柱(2)上壁面上，所述蒸馏箱(4)放置在所述放置板(3)上壁面上，所述蒸馏箱(4)上壁面开设有进液孔，所述进液管(5)安装在所述蒸馏箱(4)上壁面开设的进液孔上，若干所述加热管(6)安装在所述放置台(1)上壁面上，若干所述加热管(6)位于一对所述支撑柱(2)之间...

【技术特征摘要】
1.一种吡唑的纯化装置，包括放置台(1)，其特征在于，所述放置台(1)上设有蒸馏结构；
其中，蒸馏结构包含有：一对结构相同的支撑柱(2)、放置板(3)、蒸馏箱(4)、进液管(5)、若干结构相同加热管(6)、出料管(7)、接收瓶(8)以及冷却组件；
一对所述支撑柱(2)安装在所述放置台(1)上壁面上，所述放置板(3)安装在一对所述支撑柱(2)上壁面上，所述蒸馏箱(4)放置在所述放置板(3)上壁面上，所述蒸馏箱(4)上壁面开设有进液孔，所述进液管(5)安装在所述蒸馏箱(4)上壁面开设的进液孔上，若干所述加热管(6)安装在所述放置台(1)上壁面上，若干所述加热管(6)位于一对所述支撑柱(2)之间，若干所述加热管(6)位于所述放置板(3)下方，所述接收瓶(8)安装在所述放置台(1)上壁面上，所述接收瓶(8)位于一对所述支撑柱(2)右侧，所述蒸馏箱(4)右壁面开设有出料口，所述接收瓶(8)上壁面开设有入料口，所述出料管(7)一端安装在所述蒸馏箱(4)右壁面开设的出料口，所述出料管(7)另一端安装在所述接收瓶(8)上壁面开设的入料口，出料管(7)倾斜放置。


2.根据权利要求1所述的一种吡唑的纯化装置，其特征在于，所述冷却组件包含有：循环泵(9)、散热水箱(10)、风机(11)、冷却管(12)以及第一水...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雷，陈志清，徐鹏飞，
申请(专利权)人：势润化学科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31