一种光学级AB胶带及其制备工艺制造技术

技术编号:28774865 阅读:39 留言:0更新日期:2021-06-09 11:03
本发明专利技术公开了一种光学级AB胶带,依次包括离型层、丙烯酸压敏胶层、基材层、有机硅压敏胶层、底膜层,所述丙烯酸压敏胶层包括以下质量份数的组份,聚丙烯酸类树脂a 50~80份、低分子量聚丙烯酸类树脂b 5~20份、活性稀释剂单体20~50份、增粘树脂0.1

【技术实现步骤摘要】
一种光学级AB胶带及其制备工艺


[0001]本专利技术涉及胶粘剂
,尤其涉及一种光学级AB胶带及其制备工艺。

技术介绍

[0002]AB胶带是以纸、布或塑料薄膜等为基材,再在上述基材两表面分别均匀涂布不同压敏胶层制成的卷状胶粘带,一般是由基材、胶粘剂层、离型材料三部分组成的。目前市场上提供的应用于钢化玻璃的AB胶,主要是以PET为基材,基材的一面是硅胶,基材的另一面是丙烯酸压敏胶。目前的AB胶带主要应用于普通的2.5D手机屏幕的保护,但随着技术的发展,现在手机屏幕不断在向3D,4D,8D曲面发展,而且曲面弧度更大,现有的AB胶带存在曲面处与钢化玻璃容易剥离的现象,这就需要开发更高剥离强度的AB胶带,对玻璃的剥离力达到3000g/25mm。
[0003]因此,为了满足进一步的需求,需要对现有的AB胶带进行改进升级。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种对玻璃的剥离力达到3500g/25mm以上的光学级AB胶带。
[0005]为实现前述目的,本专利技术提供了一种光学级AB胶带,依次包括离型层、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学级AB胶带,依次包括离型层、丙烯酸压敏胶层、基材层、有机硅压敏胶层、底膜层,其特征在于:所述丙烯酸压敏胶层包括以下质量份数的组份,聚丙烯酸类树脂a 50~80份,低分子量聚丙烯酸类树脂b 5~20份,包含聚丙烯酸活性稀释剂单体20~50份、增粘树脂0.1

3份,偶联剂0.01

2份,光引发剂0.03~5份。2.根据权利要求1所述的光学级AB胶带,其特征在于:所述聚丙烯酸类树脂a、低分子量聚丙烯酸类树脂b各自均由质量百分比为40

87%的软单体、10

40%的硬单体、3

20%的功能单体本体聚合而成。3.根据权利要求2所述的光学级AB胶带,其特征在于:所述聚丙烯酸类树脂a的平均分子量为30

150万,所述低分子量聚丙烯酸类树脂b的平均分子量为10

20万。4.根据权利要求2所述的光学级AB胶带,其特征在于:所述软单体为具有碳原子数为4

20的烷基的丙烯酸烷基酯单体,烷基包含直链或支链中的任一种,所述软单体包括丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯
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乙基己酯、丙烯酸异癸酯、甲基丙烯酸月桂酯和丙烯酸月桂酯中的一种或多种。5.根据权利要求2所述的光学级AB胶带,其特征在于:所述硬单体选自丙烯酸甲酯、醋酸乙烯酯、苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸异冰片酯、四氢呋喃甲基丙烯酸酯中的一种或多种。6.根据权利要求2所述的光学级AB胶带,其特征在于:所述功能单体选自含有羟基的单体、羧基的单体、酰胺基的单体、环氧基的单体、含氮的单体,具体包括丙烯酸2

羟基乙酯、丙烯酸2

羟基丙酯、丙烯酸4

羟基丁酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺、丙烯酸缩水甘油酯、N,N

二乙基丙烯酰胺、N

乙烯基吡咯烷酮中的一种或多种。7.根据权利要求1所述的光学级AB胶带,其特征在于:所述光引发剂包括苯偶姻及其衍生物、苯偶酰及其衍生物、苯乙酮及其衍生物、α

羟烷基苯乙酮、α

胺烷基苯乙酮、酰基膦氧化物类光引发剂中的一种或多种。8.根据权利要求1所述的光学级AB胶带,其特征在于:所述增粘树脂包括松香树脂、石油树脂、萜烯树脂以及这些树脂的改性树脂中的一种或多种,所述偶联剂包括γ

氨丙基三乙氧基硅烷,γ

2,3

环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷,γ

甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的一种或多种。9.根据权利要求1所述的光学级AB胶带,其特征在于:所述活性稀释剂...

【专利技术属性】
技术研发人员:张伟黄链周晓南
申请(专利权)人:江苏晶华新材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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