【技术实现步骤摘要】
处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法
[0001]本专利技术涉及一种富含缺陷的纳米片的制备方法,特别是处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法。
技术介绍
[0002]由于铀矿开采、核电站运行、核事故/核战争等原因,大量含铀放射性废水排放到环境中。铀具有放射性强、半衰期长、毒性高、易迁移等特点。铀的长期爆炸会对人类健康和生态环境造成相当大的危害。因此,从含铀放射性废水中高效、安全、低成本地分离提取铀是一个迫切而有意义的课题。传统的含铀废水处理技术主要有吸附法、蒸发浓缩法、膜分离技术和化学沉淀法。
[0003]通常,含铀放射性废水系统含有多种可溶性有机物(单宁酸(TA)、柠檬酸、草酸、氨基磺酸酯、乙二胺四乙酸等),它们与铀发生螯合作用,增加了铀处理的难度。光催化技术可以同时降解有机物,并将铀还原成低价产品。在这种情况下,半导体光催化剂被光激发产生电子
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空穴对。光生空穴分解光催化剂表面吸附的水生成羟基自由基。光生电子将氧还原为活性离子氧,进而将有机物降解为二氧化碳和水。因此,光 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、将钨酸钠加入水中,搅拌溶解,然后加入还原剂,搅拌10~20min,加入盐酸溶液A,再次搅拌25~45min,得到混合溶液,将混合溶液转移到高压反应釜中,然后在115~135℃下反应20~30小时,冷却至室温,沉淀经离心分离,用蒸馏水和无水乙醇洗涤数次;然后在真空烘箱中60~70℃下干燥24小时;步骤二、将步骤一干燥后的固体在N2气氛下,400~550℃煅烧2~6小时,冷却至室温,得到富含氧空位的氧化钨纳米片。2.如权利要求1所述的处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法,其特征在于,所述步骤一中,钨酸钠与水的质量比为1:800~1000;所述钨酸钠与还原剂的质量比为1:3~5;所述盐酸溶液A的浓度为5~7mol/L;所述钨酸钠与盐酸溶液A的质量体积比为1g:85~95mL 。3.如权利要求1所述的处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法,其特征在于,所述还原剂为柠檬酸、葡萄糖、抗坏血酸、淀粉、壳聚糖、菊粉中的一种或几种的混合。4.如权利要求1所述的处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法,其特征在于,所述还原剂为质量比为1:2.5~3.5的柠檬酸和葡萄糖。5.如权利要求1所述的处理放射性废水的富含氧空位的氧化钨纳米片的制备方法,其特征在于,所述还原剂为酸解淀粉,所述酸解淀粉的制备方法为:按重量份,将20~25份淀粉加入超临界二氧化碳反应器中,通入二氧化碳,在温...
【专利技术属性】
技术研发人员:何嵘,雷佳,竹文坤,刘欢欢,温逢春,江新颖,董云,李宸,任俨,
申请(专利权)人:西南科技大学,
类型:发明
国别省市:
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