基板处理装置、开闭基板收容容器的盖的方法制造方法及图纸

基板处理装置具有基板处理部和控制部。基板处理部具有加载埠，该加载埠构成为配置收容有至少一个基板的基板收容容器。基板处理部构成为从配置于加载埠的基板收容容器取出基板，并且对该基板实施一系列的处理。控制部构成为控制配置于加载埠的基板收容容器的盖的开闭。在将基板收容容器配置于加载埠后，控制部控制为打开盖。在基板处理部发生了异常状态并经过了预先决定的时间、并且在从基板收容容器取出的基板中没有能够回收至所述基板收容容器中的基板的情况下，控制部控制为关闭盖。控制部控制为关闭盖。控制部控制为关闭盖。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置、开闭基板收容容器的盖的方法


[0001]本公开涉及一种基板处理装置、开闭基板收容容器的盖的方法。

技术介绍

[0002]在专利文献1中公开了一种基板收容容器的吹扫方法，该方法在持续地向基板收容容器内供给干燥气体的状态下打开所述基板收容容器的盖，在所述基板收容容器内的基板的处理结束后关闭盖，并且停止供给所述干燥气体。根据专利文献1所记载的基板收容容器的吹扫方法，通过将基板收容容器内保持为低湿度的状态来防止在基板收容容器内生成SiO2、氢氟酸，由此能够将基板收容容器内的基板维持在良好的状态。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2013
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179287号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开所涉及的技术抑制微粒附着于在基板收容容器内处于待机状态的基板。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的一个方式具有：基板处理部，其具有加载埠，该加载埠构成为配置收容有至少一个基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板处理装置，具有：基板处理部，其具有加载埠，该加载埠构成为配置收容有至少一个基板的基板收容容器，所述基板处理部构成为从配置于所述加载埠的所述基板收容容器取出基板，并对该基板实施一系列的处理；以及控制部，其构成为控制配置于所述加载埠的所述基板收容容器的盖的开闭，在将所述基板收容容器配置于所述加载埠之后，所述控制部控制为打开所述盖，在所述基板处理部发生了异常状态并经过了预先决定的时间、并且从所述基板收容容器取出来的基板中没有能够回收至所述基板收容容器中的基板的情况下，所述控制部控制为关闭所述盖。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制部构成为控制所述基板处理部，在经过了所述预先决定的时间后，所述控制部控制为将所述能够回收的基板回收至所述基板收容容器中，在将所述能够回收的基板回收至所述基板收容容器之后，所述控制部控制为关闭所述盖。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，在所述基板处理部发生了异常状态的情况下，所述控制部控制为停止所述一系列的处理，在所述异常状态在经过所述预先决定的时间之前被解除了的情况下，所述控制部控制为不关闭所述盖并再次开始所述一系列的处理。4.根据权利要求2或3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤荣几，高塚宏行，向山达也，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：