镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层电解液及涂层制备方法技术

本发明专利技术公开了一种镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层电解液及涂层制备方法。镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层的电解液的组成为：硅酸盐、铈盐、氟化物、锆盐、氢氧化钠、柠檬酸、醋酸盐等。镁合金表面制备微弧氧化低氟自封孔涂层的方法解决了传统微弧氧化自封孔涂层中大量使用含氟试剂的问题，从而提升膜层的耐蚀性、耐磨性等性能。耐磨性等性能。耐磨性等性能。

【技术实现步骤摘要】
镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层电解液及涂层制备方法


[0001]本专利技术属于金属表面处理的领域，具体是涉及一种镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层电解液及涂层制备方法。

技术介绍

[0002]镁合金是一种轻质结构材料，其密度约为钢的1/5，锌的1/4，铝的2/3。此外，镁合金还具有比强度高、铸造性好、电磁屏蔽效果好等优点，广泛应用在航天、航空、交通、电子产品等领域。然而镁合金差耐蚀性能严重制约了它在工业上的应用。为了提升镁合金的工业应用价值，镁合金表面有效的防护措施是必不可少的。
[0003]微弧氧化技术是一种利用电化学方法在材料表面产生火花放电，在热化学、等离子体化学和电化学共同作用下生成陶瓷氧化膜层的技术。微弧氧化技术具有工艺简单、效率高、处理工件能力强、制备涂层与基底结合牢固等优点，广泛用于铝、镁、钛等合金表面涂层的制备。传统的镁合金微弧氧化技术制备的涂层表面常为多孔结构，高的孔隙率及大的孔径往往会给侵蚀性离子提供通道，使镁合金基体遭受腐蚀。
[0004]微弧氧化自封孔工艺可以改善涂层的结构，从而提升其耐蚀性能。然而微弧氧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层的电解液，其特征在于，电解液的组成为：硅酸盐8~28 g/L，铈盐5~10 g/L，氟盐0.5~2 g/L，锆盐3~8 g/L，氢氧化钠2 g/L，醋酸盐1~7 g/L，通过柠檬酸控制pH在10
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13。2.如权利要求1所述的镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层的电解液，其特征在于，所述硅酸盐为硅酸钠，铈盐为硝酸铈或硫酸铈，氟盐为氟化钠或氟化钾，所述锆盐为硝酸氧锆，醋酸盐为醋酸铅、醋酸铝、醋酸锌中的一种或任意两种的混合或三种。3.一种镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一，样品前处理 将镁合金工件先用砂纸打磨至1000#、脱脂、清洗、干燥后安置到电解槽中；步骤二，电解液的配置 按照权利要求1或2所述的电解液进行配置，并对电解液进行超声处理，超声30 min；步骤三，微弧氧化 将步骤二配置的电解液置于电解槽中，将前处理后的工件浸入电解液中，然后进行微弧氧化。4.根据权利要求3所述的镁合金表面微弧氧化低氟自封孔涂层的制备方法，其特征在于，电...

【专利技术属性】
技术研发人员：张跃忠，王新明，刘宝胜，卫英慧，
申请(专利权)人：太原科技大学，
类型：发明
国别省市：