一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，属于ITO靶材加工技术领域，该离心喷雾造粒工艺包括以下步骤：S1、称取In2O3纳米粉末和SnO2纳米粉末，加入去离子水和分散剂，搅拌均匀，得到浆料；S2、将浆料通过砂磨机球磨，然后加入粘结剂和消泡剂，混合均匀后，得到待造粒浆液；S3、通过风机抽取外界空气，以使空气依次经过滤器、加热器和集气管后通过造粒用的罐体内的布气管排入罐体，直至罐体内布满温度为130

【技术实现步骤摘要】
一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺


[0001]本专利技术涉及ITO靶材加工
，更具体地说，它涉及一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺。

技术介绍

[0002]ITO靶材是制备ITO导电玻璃的重要原料。ITO靶材除应用在液晶显示器(LCD)面板外，还可应用在许多电子产品上，如触摸屏、有机发光平面显示器、等离子体显示器、汽车防热除雾玻璃、太阳能电池、光电转换器、透明加热器防静电膜、红外线反射装置等。ITO靶材经溅射后可在玻璃上形成透明ITO导电薄膜，其性能是决定导电玻璃产品质量、生产效率、成品率的关键因素。导电玻璃生产商要求生产过程中能够稳定连续地生产出电阻和透过率均匀、不波动的导电玻璃，故ITO靶材应在整个镀膜过程中保持性能不变。
[0003]经成形工艺处理后的ITO素坯只是半成品，素坯需要进行进一步的烧结处理，以得到ITO靶材。ITO素坯的烧结方法主要包括热等静压法、热压法和常压烧结法。常压烧结法又称气氛烧结法，是指以预压方式制造高密度的靶坯，在一定的气氛和温度下烧结的方法。常压烧结法由于对气氛和温度分别进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，其特征在于：包括以下步骤：S1、按照In2O3/SnO2质量比为9：1的比例，称取纯度大于99.99％的In2O3纳米粉末和SnO2纳米粉末，加入去离子水和分散剂，搅拌均匀，得到浆料；S2、将步骤S1中的所述浆料通过砂磨机球磨10
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30min，然后加入粘结剂和消泡剂，混合均匀后，得到待造粒浆液；S3、通过风机(13)抽取外界空气，以使空气依次经过滤器(12)、加热器(11)和集气管(19)后通过造粒用的罐体(1)内的布气管(9)排入罐体(1)，直至所述罐体(1)内布满温度为130
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240℃的热气；将步骤S2中的所述待造粒浆液通过进料管(7)输送，以使所述待造粒浆液通过雾化器(8)雾化后喷入所述罐体(1)，雾化后的所述待造粒浆液在所述罐体(1)内与热气接触后，形成造粒粉，并从所述罐体(1)上的出料口(4)离心排出，从而得到所需造粒粉。2.根据权利要求1所述的一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，其特征在于：所述待造粒浆液雾化后喷入所述罐体(1)过程中，开启所述罐体(1)底部的电机(5)，以使电机(5)带动所述罐体(1)内底部的托盘(16)转动，所述托盘(16)转动过程中，所述布气管(9)在所述罐体(1)内上下移动。3.根据权利要求2所述的一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，其特征在于：所述托盘(16)上开设有用于热气通过的气孔(17)，所述罐体(1)内的热气通过出气口(14)向外排出，所述出气口(14)位于所述托盘(16)下方且设置在所述罐体(1)侧壁上。4.根据权利要求3所述的一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，其特征在于：所述罐体(1)为圆筒状，所述托盘(16)的俯视投影为圆形且直径与所述罐体(1)内径相同，所述托盘(16)顶面的水平高度由中心向四周逐渐减小，所述出料口(4)位于所述托盘(16)边缘一侧。5.根据权利要求4所述的一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，其特征在于：所述托盘(16)顶面固定有沿所述托盘(16)径向方向设置的隔板(18)，所述隔板(18)设置有多个，多个所述隔板(18)均布在所述托盘(16)上。6.根据权利要求5所述的一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，其特征在于：所述隔板(18)上固定有端面凸轮(20)，所述端面凸轮(20)中心轴与所述罐体(1)、托盘(16)中心轴重合...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐智勇，
申请(专利权)人：株洲火炬安泰新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：