防水型近红外光谱成像仪制造技术

技术编号:28693529 阅读:26 留言:0更新日期:2021-06-02 03:22
本实用新型专利技术公开了一种防水型近红外光谱成像仪,包括:光谱仪主体,其内部设置有光源端头,所述光源端头的下方设置有限位框架;安装垫套,其设置在所述光源端头的外部,且安装垫套与光谱仪主体螺钉固定连接;防水隔套,其安装在所述安装垫套的外部,所述防水隔套的下端设置有光源出口;集水仓,其设置在限位框架的下方,且集水仓与光谱仪主体的底座一体成型设置。其实现了对红外光谱成像仪光源端头防水密封保护的效果,样品所携带的水可以得到有效的收集排出,从而避免了光源端头常常会因为进水的原因导致损坏的问题。

【技术实现步骤摘要】
防水型近红外光谱成像仪
本技术涉及红外光谱仪
,尤其涉及一种防水型近红外光谱成像仪。
技术介绍
红外光谱仪是利用物质对不同波长的红外辐射的吸收特性,进行分子结构和化学组成分析的仪器。红外光谱仪通常由光源,单色器,探测器和计算机处理信息系统组成。根据分光装置的不同,分为色散型和干涉型。对色散型双光路光学零位平衡红外分光光度计而言,当样品吸收了一定频率的红外辐射后,分子的振动能级发生跃迁,透过的光束中相应频率的光被减弱,造成参比光路与样品光路相应辐射的强度差,从而得到所测样品的红外光谱,红外光谱仪连接计算机后成像,应用于染织工业、环境科学、生物学、材料科学、高分子化学、催化、煤结构研究、石油工业、生物医学、生物化学、药学、无机和配位化学基础研究、半导体材料、日用化工等研究领域。现有的红外光谱成像仪在使用的过程中防水性能较差,光源端头常常会因为进水的原因导致损坏的问题,影响红外光谱成像仪的使用寿命,为此,我们提供一种防水型近红外光谱成像仪。
技术实现思路
本技术的一个目的是解决至少上述问题,并提供至少后面将说明的优点。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防水型近红外光谱成像仪,其特征在于,包括:/n光谱仪主体,其内部设置有光源端头,所述光源端头的下方设置有限位框架;/n安装垫套,其设置在所述光源端头的外部,且安装垫套与光谱仪主体螺钉固定连接;/n防水隔套,其安装在所述安装垫套的外部,所述防水隔套的下端设置有光源出口;/n集水仓,其设置在限位框架的下方,且集水仓与光谱仪主体的底座一体成型设置;/n出口基板,其设置在所述光源出口的内部,所述出口基板设置有四个,且出口基板与光源出口一体成型设置。/n

【技术特征摘要】
1.一种防水型近红外光谱成像仪,其特征在于,包括:
光谱仪主体,其内部设置有光源端头,所述光源端头的下方设置有限位框架;
安装垫套,其设置在所述光源端头的外部,且安装垫套与光谱仪主体螺钉固定连接;
防水隔套,其安装在所述安装垫套的外部,所述防水隔套的下端设置有光源出口;
集水仓,其设置在限位框架的下方,且集水仓与光谱仪主体的底座一体成型设置;
出口基板,其设置在所述光源出口的内部,所述出口基板设置有四个,且出口基板与光源出口一体成型设置。


2.如权利要求1所述的防水型近红外光谱成像仪,其特征在于,四个所述出口基板的一端均设置有启闭翻板,且启闭翻板与出口基板通过合页活动连接,四个启闭翻板的中心位置安装有闭合磁铁块,且闭合磁铁块与启闭翻板的中心位置吸附安装。


3.如权利要求1所述的防水型近红外光谱成像仪,其特征在于,所述限位框架的内部设置有样品池,且样品池与限位框架一体成型设置,所述样品池的中心位...

【专利技术属性】
技术研发人员:曾瑜王曼远
申请(专利权)人:武汉智普天创科技有限公司
类型:新型
国别省市:湖北;42

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