挡墙材料以及彩膜基板的制作方法技术

本申请公开一种挡墙材料以及彩膜基板的制作方法，所述挡墙材料包括双萘酚偶氮苯衍生物、树脂、聚合物单体、光起始剂以及溶剂。利用本申请提供的挡墙材料制备彩膜基板，能够有效提高彩膜基板的品质。

【技术实现步骤摘要】
挡墙材料以及彩膜基板的制作方法
本申请涉及显示
，具体涉及一种挡墙材料以及彩膜基板的制作方法。
技术介绍
液晶显示装置是目前市场上应用最为广泛的显示产品，其生产工艺技术十分成熟，产品良率高，生产成本相对较低，市场接受度高。通常，液晶显示装置包括液晶显示面板及背光模组。液晶显示面板由彩膜基板、阵列基板以及夹于彩膜基板与阵列基板之间的液晶组成，彩膜基板包括彩膜层和黑色矩阵。由于采用半色调掩模板技术以及正负性光刻胶技术制成彩膜层会造成原料的浪费，现有技术通常采用喷墨打印技术制作彩膜层。喷墨打印彩膜层是通过在非像素开口区制作防止红绿蓝滤光片混色的挡墙，再用喷墨打印的方法在挡墙的开口处打印红绿蓝三种滤光片的油墨，从而可以实现滤光片的高效利用且可以省去曝光显影等制程，将彩膜层的制作极大地简单化。然而，在利用喷墨打印技术制作彩膜层时，固化后的彩膜层与挡墙的段差高达3微米以上，这种段差难以使用平坦层进行补偿，从而影响彩膜基板以及液晶显示装置的品质。
技术实现思路
本申请提供一种挡墙材料以及彩膜基板的制作方法，以解决现有技术中固化后的彩膜层与挡墙之间段差较大的技术问题。本申请提供一种挡墙材料，所述挡墙材料包括双萘酚偶氮苯衍生物、树脂、聚合物单体、光起始剂以及溶剂。可选的，在本申请的一些实施例中，在所述挡墙材料中，各组分的质量百分数为：双萘酚偶氮苯衍生物5％～12％、树脂3％～8％、聚合物单体3％～8％、光起始剂0.2％～1％以及溶剂72％～88％。可选的，在本申请的一些实施例中，所述双萘酚偶氮苯衍生物的结构式为其中，所述R的化学式为-(CH2)nCH3，n为0至25中的任一整数。可选的，在本申请的一些实施例中，所述树脂为碱溶性丙烯酸树脂和聚乙烯醇肉桂酸酯中的一种或多种；所述聚合物单体为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯和双季戊四醇六丙烯酸酯中的一种或多种；所述光起始剂为α-羟基酮类衍生物光起始剂、α-氨基酮类衍生物光起始剂和苯甲酰甲酸酯类光起始剂中的一种或多种；所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、亚甲基双丙烯酰胺、N-甲基吡咯烷酮、3-乙氧基丙酸乙酯、环己酮和二氯甲烷中的一种或多种。相应的，本申请还提供一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板的制作方法包括：提供一基板；在所述基板上设置上述任一项所述的挡墙材料，对所述挡墙材料进行图案化处理以形成挡墙，所述挡墙具有多个第一开口；在所述第一开口内形成彩膜层；对所述挡墙进行光照处理，以去除所述挡墙。可选的，在本申请的一些实施例中，所述在所述基板上设置所述挡墙材料，对所述挡墙材料进行图案化处理以形成挡墙，所述挡墙具有多个第一开口的步骤之前还包括：在所述基板上设置一遮光层，对所述遮光层进行图案化处理，以形成黑色矩阵，所述黑色矩阵具有多个第二开口；其中，所述挡墙位于所述黑色矩阵远离所述基板的一侧，且所述第二开口与所述第一开口对应设置。可选的，在本申请的一些实施例中，所述挡墙在所述基板上的正投影位于所述黑色矩阵在所述基板上的正投影内。可选的，在本申请的一些实施例中，所述黑色矩阵的厚度小于或等于所述彩膜层的厚度。可选的，在本申请的一些实施例中，所述在所述基板上设置所述挡墙材料，对所述挡墙材料进行图案化处理以形成挡墙，所述挡墙具有多个第一开口的步骤包括：在所述基板上设置一遮光层；在所述遮光层上设置所述挡墙材料；经一次曝光显影工艺对所述遮光层和所述挡墙材料进行处理，同时形成黑色矩阵和所述挡墙。可选的，在本申请的一些实施例中，所述对所述挡墙进行光照处理，以去除所述挡墙的步骤包括：采用波长为500纳米至550纳米的光波照射所述挡墙，以使所述挡墙由固态变为液态；采用所述溶剂对液态的所述挡墙进行清洗；对所述彩膜基板进行烘烤。本申请提供了一种挡墙材料和彩膜基板的制作方法，所述挡墙材料包括双萘酚偶氮苯衍生物、树脂、聚合物单体、光起始剂以及溶剂。其中的双萘酚偶氮苯衍生物在波长为500纳米至550纳米的光波照射下，能够从固态转化为液态，从而使得该挡墙材料可由固态转化为液态。因此，利用所述挡墙材料形成挡墙并制作彩膜基板时，可在形成彩膜基板上的彩膜层后，去除挡墙，以解决现有技术中固化后的彩膜层与挡墙之间段差较大的技术问题，从而提高彩膜基板的品质。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本申请实施例提供的彩膜基板的制作方法的第一流程示意图；图2a-2e是本申请实施例提供的彩膜基板的制作方法中步骤101至步骤104得到的结构示意图；图3是图1中步骤104的流程示意图；图4是本申请实施例提供的彩膜基板的制作方法的第二流程示意图；图5a-5f是本申请实施例提供的彩膜基板的制作方法中步骤201至步骤205得到的结构示意图；图6是本申请实施例提供的液晶显示面板的第一结构示意图；图7是本申请实施例提供的液晶显示面板的第二结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。本申请提供一种挡墙材料。挡墙材料包括双萘酚偶氮苯衍生物、树脂、聚合物单体、光起始剂以及溶剂。其中，利用波长为500纳米至550纳米的光波对该挡墙材料进行光照时，该挡墙材料可由固态转化为液态。具体的，光波波长可以是500纳米、520纳米、540纳米、550纳米等，本申请对此不作具体限定。在本申请实施例中，在挡墙材料中，各组分的质量百分数为：双萘酚偶氮苯衍生物5％～12％、树脂3％～8％、聚合物单体3％～8％、光起始剂0.2％～1％以及溶剂72％～88％。利用该挡墙材料制备的挡墙在波长为500纳米至550纳米的光波照射下，能够从固态转化为液态。进一步的，在本申请一实施例中，在用于挡墙的组合物中，各组分的质量百分数为：双萘酚偶氮苯衍生物8％、树脂5％、聚合物单体5％、光起始剂0.6％以及溶剂81.4％。在本实施例提供的挡墙材料中，溶剂能够充分溶解双萘酚偶氮苯衍生物、树脂、聚合物单体以及光起始剂。在本申请本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种挡墙材料，其特征在于，所述挡墙材料包括双萘酚偶氮苯衍生物、树脂、聚合物单体、光起始剂以及溶剂。/n

【技术特征摘要】
20210302 CN 20211023104831.一种挡墙材料，其特征在于，所述挡墙材料包括双萘酚偶氮苯衍生物、树脂、聚合物单体、光起始剂以及溶剂。


2.根据权利要求1所述的挡墙材料，其特征在于，在所述挡墙材料中，各组分的质量百分数为：双萘酚偶氮苯衍生物5％～12％、树脂3％～8％、聚合物单体3％～8％、光起始剂0.2％～1％以及溶剂72％～88％。


3.根据权利要求1所述的挡墙材料，其特征在于，所述双萘酚偶氮苯衍生物的结构式为

其中，所述R的化学式为-(CH2)nCH3，n为0至25中的任一整数。


4.根据权利要求1所述的挡墙材料，其特征在于，所述树脂为碱溶性丙烯酸树脂和聚乙烯醇肉桂酸酯中的一种或多种；
所述聚合物单体为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯和双季戊四醇六丙烯酸酯中的一种或多种；
所述光起始剂为α-羟基酮类衍生物光起始剂、α-氨基酮类衍生物光起始剂和苯甲酰甲酸酯类光起始剂中的一种或多种；
所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、亚甲基双丙烯酰胺、N-甲基吡咯烷酮、3-乙氧基丙酸乙酯、环己酮和二氯甲烷中的一种或多种。


5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法包括：
提供一基板；
在所述基板上设置如权利要求1至4中任一项所述的挡墙材料，对所述挡墙材料进行图案化处理以形成挡墙，所述挡墙具有多个第一开口；
在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：饶夙缔，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44