【技术实现步骤摘要】
检测方法、检测设备、检测装置及存储介质
本申请涉及检测
，更具体而言，涉及一种检测方法、检测设备、检测装置、及非易失性计算机可读存储介质。
技术介绍
工业检测过程，尤其是在对半导体工件(例如晶圆)的检测过程中，主要是在工件转动时，通过激光光源发出的光线反射到探测器后对工件表面进行检测。然而，由于工业检测的过程固定，只能以固定的检测精度检测工件，难以满足不同的检测精度需求。
技术实现思路
本申请实施方式提供一种检测方法、检测设备、检测装置、及非易失性计算机可读存储介质。本申请实施方式的检测方法应用于检测设备，所述检测设备包括承载装置、光源组件、及图像采集装置，所述检测方法包括：获取所述工件上待检测的目标区域及所述图像采集装置检测工件的目标速率，所述目标区域为所述工件的部分区域，所述目标速率为单位时间内所述图像采集装置的采集范围；根据所述目标速率及所述目标区域确定所述承载装置的目标转速；根据所述目标区域及所述目标转速确定所述图像采集装置的第一目标频率，所述第一目标频率为所述图像采集装置的采集频率；及根据...
【技术保护点】
1.一种检测方法，其特征在于，应用于检测设备，所述检测设备包括承载装置、光源组件、及图像采集装置，所述承载装置用于承载工件，所述光源组件用于照射所述工件，所述图像采集装置用于采集所述工件被照射区域的图像以用作检测，所述检测方法包括：/n获取所述工件上待检测的目标区域及所述图像采集装置检测工件的目标速率，所述目标区域为所述工件的部分区域，所述目标速率为单位时间内所述图像采集装置的采集范围；/n根据所述目标速率及所述目标区域确定所述承载装置的目标转速；/n根据所述目标区域及所述目标转速确定所述图像采集装置的第一目标频率，所述第一目标频率为所述图像采集装置的采集频率；及/n根据所...
【技术特征摘要】
1.一种检测方法，其特征在于，应用于检测设备，所述检测设备包括承载装置、光源组件、及图像采集装置，所述承载装置用于承载工件，所述光源组件用于照射所述工件，所述图像采集装置用于采集所述工件被照射区域的图像以用作检测，所述检测方法包括：
获取所述工件上待检测的目标区域及所述图像采集装置检测工件的目标速率，所述目标区域为所述工件的部分区域，所述目标速率为单位时间内所述图像采集装置的采集范围；
根据所述目标速率及所述目标区域确定所述承载装置的目标转速；
根据所述目标区域及所述目标转速确定所述图像采集装置的第一目标频率，所述第一目标频率为所述图像采集装置的采集频率；及
根据所述目标转速调节所述承载装置的转速，并根据所述第一目标频率控制所述图像采集装置获取图像。
2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述检测方法还包括：
根据所述目标区域及所述目标转速确定所述光源组件的第二目标频率，所述第二目标频率为所述光源组件照射所述工件的照射频率；及
根据所述第二目标频率控制所述光源组件照射所述工件。
3.根据权利要求2所述的检测方法，其特征在于，所述检测方法还包括：
根据所述第二目标频率确定所述图像采集装置的开启频率；及
根据所述图像采集装置的开启频率控制所述图像采集装置的开启或关闭。
4.根据权利要求2所述的检测方法，其特征在于，所述光源组件包括光源，所述根据所述第二目标频率控制所述光源组件照射所述工件，包括：
根据所述第二目标频率确定所述光源的开启频率；及
根据所述光源的开启频率控制所述光源的开启或关闭。
5.根据权利要求2所述的检测方法，其特征在于，所述光源组件包括光源及挡光件，所述根据所述第二目标频率控制所述光源组件照射所述工件，包括：
根据所述第二目标频率确定所述挡光件的遮挡频率；及
根据所述遮挡频率控制所述挡光件遮挡所述光源。
6.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述目标转速包括第一目标转速及第二目标转速，所述第一目标转速小于所述第二目标转速，
所述检测方法还包括：
获取所述工件在所述承载装置上的初始位置及所述工件上无需检测的非目标区域；
所述根据所述目标转速调节所述承载装置的转速，包括：
根据所述所述目标区域、所述非目标区域、所述初始位置、所述第一目标转速、及所述第二目标转速获取转速变化曲线，所述转速变化曲线为所述检测设备在检测时所述承载装置的转速随时间变化的曲线；
根据所述转速变化曲线调节所述承载装置在所述目标区域的转速；及
根据所述转速变化曲线调节所述承载装置在所述非目标区域...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈鲁，魏林鹏，方一，张嵩，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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