钛基板连续镀金属硫化物的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于钛基板连续镀金属硫化物的设备，属于镀膜设备技术领域。包括真空箱体(10)，箱体(10)内设置有托辊组(2)，托辊组(2)的上方左侧和右侧分别设置有喷头A(4)和喷头B(5)，喷头A(4)和喷头B(5)均成直线排布，且喷涂宽度不大于单个托辊的长度，喷头A(4)和喷头B(5)喷射方向的交点位于托辊组(2)的下侧。本装置将镀层金属和硫分别经过高能热源和普通热源加热融化或蒸发，在负压高速气体的推动下经过喷嘴产生纳米喷雾，并且在同一平面相遇，经反应后沉积在基板表面形成镀膜。解决现有的连续性气相沉积金属硫化物的生产设备存在镀膜颗粒粗大，硫污染设备内部腔壁等问题。

【技术实现步骤摘要】
钛基板连续镀金属硫化物的装置
本技术公开了一种钛基板连续镀金属硫化物的装置，属于镀膜设备

技术介绍
化学气相沉积简称CVD是利用气态物质在一固体表面进行化学反应，生成固态沉积物的过程。是近十几年发展起来的制备无机物新材料的新技术。它广泛的应用于提纯物质，制备新晶体，特别是用于制备导体、半导体或者介电的单晶、多晶或者玻璃态涂层或者薄膜。然而，现有的化学气相沉积设备大多体积庞大、构造复杂、造价昂贵。同时在生产镀膜的过程中，现有的连续性气相沉积金属硫化物生产设备存在镀膜颗粒粗大，硫对设备腔体内部污染较大，难以清洁等问题。而且随着科学技术的发展，现有的连续性气相沉积金属硫化物设备存在生产速度较慢，生产速度不满足需求等问题。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是现有的连续性气相沉积金属硫化物的生产设备存在镀膜颗粒粗大，生产速度较慢的问题。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：钛基板连续镀金属硫化物的装置，包括真空箱体，箱体内设置有托辊组，托辊组的上方左侧设置有若干用于喷涂金属的喷头A，右侧设置有若干用于喷涂硫的喷头本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.钛基板连续镀金属硫化物的装置，其特征是：包括真空箱体(10)，箱体(10)内设置有托辊组(2)，托辊组(2)的上方左侧设置有若干用于喷涂金属的喷头A(4)，右侧设置有若干用于喷涂硫的喷头B(5)，喷头A(4)和喷头B(5)的喷射方向朝向托辊组(2)，喷头A(4)和喷头B(5)均成直线排布，且喷涂宽度不大于单个托辊的长度，喷头A(4)和喷头B(5)喷射方向的交点位于托辊组(2)的下侧。/n

【技术特征摘要】
1.钛基板连续镀金属硫化物的装置，其特征是：包括真空箱体(10)，箱体(10)内设置有托辊组(2)，托辊组(2)的上方左侧设置有若干用于喷涂金属的喷头A(4)，右侧设置有若干用于喷涂硫的喷头B(5)，喷头A(4)和喷头B(5)的喷射方向朝向托辊组(2)，喷头A(4)和喷头B(5)均成直线排布，且喷涂宽度不大于单个托辊的长度，喷头A(4)和喷头B(5)喷射方向的交点位于托辊组(2)的下侧。


2.如权利要求1所述的钛基板连续镀金属硫化物的装置，其特征是：所述喷头A(4)的进料管(9)上设置有高能热源，喷头B(5)的进料管(9)上设置有普通热源。


3.如权利要求2所述的钛基板连续镀金属硫化物的装置，其特征是：所述喷头A(4)的进料管(9)包括交汇的金属注入管和保护气管，高能热...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖勇川，钟璨宇，赖奇，彭富昌，刘翘楚，崔晏，赵曦光，肖传海，陈金良，廖先杰，
申请(专利权)人：攀枝花学院，
类型：新型
国别省市：四川;51