具有干涉涂层的高耐磨性光学制品制造技术

本发明专利技术涉及一种光学制品，所述光学制品具有根据ASTM F735‑81标准确定的、大于或等于7的拜耳值，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有厚度大于或等于250nm的单层子层、以及多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体。比率：(I)大于或等于1.5，和/或在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的高折射率层的沉积。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有干涉涂层的高耐磨性光学制品本专利技术涉及一种光学制品，所述光学制品包括涂覆有多层透明干涉涂层、典型地减反射涂层的基材，具有改进的耐磨性和良好的耐热性，特别是涉及一种眼科镜片，并且涉及一种制造这种光学制品的方法。对光学基材的至少一个主表面涂覆若干涂层以便为成品制品赋予附加的或改进的光学特性或机械特性是本领域的惯常做法。这些涂层通常指定为功能涂层。可以用于赋予多种机械特性和/或光学特性的各种涂层可以是耐冲击涂层、耐磨涂层和/或耐划伤涂层、减反射涂层和/或反射涂层、和/或防污层和/或防雾层。在文献中可以找到改进对环境引起的划伤敏感的光学制品的耐磨性的不同方法。例如，比如在JP2003-195003和JP2003-294906中已经提出了增加减反射涂层的总厚度，其中描述了一种镜片，所述镜片涂覆有底漆涂层、硬涂层、以及7层减反射涂层，所述减反射涂层包括交替的SiO2层和TiO2层，后者在离子辅助下沉积并且已知对于光降解作用是敏感的。US8982466涉及一种光学镜片，所述光学镜片具有硬涂层和多层减反射涂层，其中，由TiO2制成的高折射率层总共具有小于4本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有：/n-厚度大于或等于250nm的单层子层，/n-多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体，其中：/n所述光学制品具有根据ASTM F735-81标准确定的大于或等于7的拜耳值，并且/na)比率：/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181018 EP 18306373.41.一种光学制品，所述光学制品包括具有至少一个主面的基材，所述至少一个主面依次涂覆有：
-厚度大于或等于250nm的单层子层，
-多层干涉涂层，所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体，其中：
所述光学制品具有根据ASTMF735-81标准确定的大于或等于7的拜耳值，并且
a)比率：



大于或等于1.5，和/或
b)所述干涉涂层包括至少一个折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm的高折射率层，并且通过在所述高折射率层形成时借助于离子束轰击所述高折射率层在离子辅助下执行所述干涉涂层的、折射率大于1.55且厚度大于或等于15nm、距所述基材最远的所述高折射率层的沉积。


2.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层具有大于或等于300nm、优选地大于或等于350nm的厚度。


3.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层是基于SiO2的层。


4.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层与所述干涉涂层直接接触。


5.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层的沉积是在低于1.6×10-4mBar的压力下在真空室中进行的。


6.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述子层的沉积是在真空室中进行的，在所述沉积过程中不向所述真空室中供应补充气体。


7.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述比率RD大于或等于2、优选地大于或等于2.1。


8.根据前述权利要求中任一项所述的光学制品，其中，所述光学制品具有根据所述ASTMF735-81标准确定的大于或等于8的拜耳...

【专利技术属性】
技术研发人员：Y·莫伊桑，J·阿尔伯克基达席尔瓦，Y·费尔腾，N·迈特尔，C·瓦伦蒂，
申请(专利权)人：依视路国际公司，
类型：发明
国别省市：法国;FR