亲水性且特别是水溶性的DBOV-衍生物制造技术

技术编号:28566983 阅读:19 留言:0更新日期:2021-05-25 18:04
本发明专利技术涉及具有通式(1)的化合物,其中在所述通式(1)中,残基R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】亲水性且特别是水溶性的DBOV-衍生物本专利技术涉及二苯并[hi,st]卵苯(DBOV)的亲水性且特别是水溶性的衍生物,其特别适用于超分辨率显微术。超分辨率显微术表示显微术技术,其具有比光的衍射极限高的分辨率,即,其具有比λ/(2N.A.)高的横向分辨率,其中N.A.是数值孔径,并且λ是所用光的波长。超分辨率显微术技术的突出实例是单分子定位显微术(SMLM)和受激发射损耗显微术(STED)。SMLM技术基于使用荧光团(即在通过吸收辐射被激发之后发光的荧光化合物)作为标志物,其具有低占空比。具有低占空比的荧光团的特征在于-当用激发辐射激发时-它们处于“开”态(即辐射发射状态)的时间段除以它们处于“关”态(即,分别为非发射基态或“暗态”)的时间段的比率是低的。换句话说,所使用的荧光团显示(随时间而观察)带有在时间轴上具有短峰宽的发射峰的荧光发射光谱,其中两个发射峰之间的时间间隔相当长。具有低占空比的荧光团也显示具有良好的闪烁性质。因此,当样品中的部分用相应荧光团分子标记的样品被激光激发时,例如当细胞中的微管用相应荧光团分子标记的细胞被激光激发时,在每个时间点,仅有相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.具有通式(1)的化合物:/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181003 EP 18198506.0;20181009 EP 18199447.61.具有通式(1)的化合物:



通式(1)
其中在所述通式(1)中,R1至R8和Ar相同或不同并且彼此独立地选自氢、未取代的烃基、取代的烃基和无机基团,其中R1至R8和Ar中的至少一个是亲水性基团。


2.根据权利要求1所述的化合物,其中在所述通式(1)中,R1至R8和Ar中的至少一个是亲水性基团,其选自阴离子基团、阳离子基团和不带电荷的基团,所述不带电荷的基团包含一个或多个选自以下的基团:无机酸基团、有机酸基团、酯基团、酰胺基团、羟基、硫醇基团、氨基、醛基团、酮基团、丙烯酰基、醚基团、硫醚基团及其任意组合。


3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中在所述通式(1)中,R1至R8和Ar中的至少一个是亲水性基团,其选自季氨基、亚铵盐基团、吡咯烷鎓盐基团、吡咯啉鎓盐基团、吡唑烷鎓盐基团、吡唑烷鎓盐基团、咪唑啉鎓盐基团、咪唑烷鎓盐基团、哌啶鎓盐基团、吡啶鎓盐基团、哌嗪鎓盐基团、吗啉鎓盐基团、硫代吗啉鎓盐基团、噁嗪盐基团、噻嗪盐基团、吲哚啉鎓盐基团、吲哚盐基团、硫酸根基团、磷酸根基团、硝酸根基团、磺酸根基团、羧酸基团、磺酸基团、次磺酸基团、亚磺酸基团、膦酸基团、氧次膦酸基团、次膦酸基团、糖基团、酯基团、酰胺基团、羟基、硫醇基团、氨基、醛基团、酮基团、丙烯酰基、醚基团、硫醚基团、巯基、糖苷键、肽键、三唑基团及其任意组合。


4.根据权利要求3所述的化合物,其中在所述通式(1)中,R1至R8和Ar中的至少一个是亲水性基团,其选自季氨基、亚铵盐基团、吡啶鎓盐基团、硫酸根基团、磺酸根基团、羧酸基团、磺酸基团、酯基团、酰胺基团、醚基团、三唑基团及其任意组合。


5.根据权利要求3或4所述的化合物,其中在所述通式(1)中,R1至R8和Ar中的至少一个是亲水性基团,其选自具有重复数为2至20个的烷氧基单元的聚亚烷基二醇基团、包含一至五个且优选二至四个各自具有重复数为2至20个的烷氧基单元的聚亚烷基二醇基团的基团、磺酸根基团、季铵基、一个或多个酰胺基团、一个或多个亚胺基团和一个或多个吡啶鎓基团。


6.根据权利要求3至5中任一项所述的化合物,其中在所述通式(1)中,R1至R8和Ar中的至少一个是苯基,其被二至五个聚亚烷基二醇基团取代,优选被二至五个聚乙烯基取代,且更优选被二至五个四甘醇基团、五甘醇基团或六甘醇基团取代。


7.根据前述权利要求中任一项所述的化合物,其中在所述通式(1)中,R1至R8和Ar中的至少两个是亲水性基团,且优选至少R3和R8是亲水性基团。


8.根据前述权利要求中任一项所述的化合物,其在23℃下在水中的溶解度为至少0.01g/l,优选至少0.05g/l,且更优选至少0.1g/l。


9.根据前述权利要求中任一项所述的化合物,其中在所述通式(1)中,R1至R8和Ar中不是前述亲水性基团的那些相同...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈强成田明光K·米伦S·帕雷克M·博恩刘晓敏
申请(专利权)人:马克斯·普朗克索赔科学公司
类型:发明
国别省市:德国;DE

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