设计和制造ＬＳＩ的系统和方法以及电子束数据生成系统技术方案

一种ＬＳＩ设计系统，包括：存储器；数据库，用于存储布图层定义文件；以及控制部件，用于参考数据库以根据所述布图层定义文件在所述存储器中建立多个布图层。多个布图层在要形成的ＬＳＩ的物理层的一个中具有图案的延伸方向。控制部件根据延伸方向将每个图案分成图案结构，并且将每个图案结构指定到多个布图层的对应的一个。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及LSI的设计技术，并且特别涉及用于设计和制造LSI的系统和方法，以及在电子束(EB)描画装置中使用的用于生成EB数据的电子束数据生成系统。
技术介绍
为了减少设计时间并且检查和除去人为错误，必需使用计算机来进行LSI设计。用于LSI设计的软件程序称作CAD(计算机辅助设计)程序。在CAD程序中，定义了多个[布图层(数字化的层)]。设计者通过在计算机上定义的多个布图层中设置希望的图案结构的数据来进行LSI设计。以此方式，在计算机上获得了表示所设计的LSI的图案结构的[布图数据]。这里，要在相同的物理层中形成的图案结构被设置在相同的布图层中。此外，在前面的LSI设计中，必需进行LSI的设计以满足[设计规则]。设计规则详细定义了每个布图层的最小图案尺寸和最小间隔尺寸，以及布图层之间的位置关系。对于希望的器件的形成必需服从设计规则。用于检查所生成的布图数据是否满足设计规则的软件程序称作[DRC(设计规则检查器)]。设计者根据由DRC所输出的错误数据来修改布图数据。根据以此方式生成的布图数据制作用在光刻工艺中的刻线。例如，为了制作具有根据布图数据确定的掩模图案的刻线，使用[电子束(EB)描画设备]。这里，需要将布图数据转换成具有适合于EB描画设备的格式的[EB数据](在下文中，称作[EB数据转换处理])。为此，需要进行诸如中间层逻辑计算和白/黑反转处理的图形计算处理。随着LSI的集成度更高和尺寸更大，布案的数量增加得越来越多。当为前述高度集成的LSI定义的所有布案依次被转换为EB数据时，需要大量的时间。这导致了LSI设计和研发的周期变长。为此，希望提供适合于图形转换处理的布图数据。
技术实现思路
因此，本专利技术的一个目的是提供一种用于设计和制造LSI的系统和方法，以及EB数据生成系统，其中可以减少校验满足设计规则所需的时间和EB数据转换处理所需的时间。本专利技术的另一个目的是提供一种可以简化设计规则的LSI设计技术。在本专利技术的一个方面中，LSI设计系统包括存储器数据库，用于存储布图层定义文件；以及控制部件，用于参考数据库以根据布图层定义文件在存储器中建立多个布图层。多个布图层在要形成的LSI的物理层的一个中具有图案的延伸方向。控制部件根据延伸方向将每个图案分成图案结构，并且将每个图案结构指定到多个布图层的对应的一个。这里，控制部件可以通过结合多个布图层为物理层产生布图数据。此外，控制部件通过指定每个图案结构的顶点将图案结构指定到对应的布图层。此外，延伸方向可以相互垂直。此外，控制部件为要形成的LSI的所有物理层建立多个布图层，并且将每个图案结构指定到对应的布图层。此外，当数据库还存储设计规则文件时，控制部件可以参考设计规则文件以检查多个布图层的每个是否满足在设计规则文件中定义的设计规则。在本专利技术的另一方面中，电子束描画系统包括电子束数据生成系统，用于为要形成的LSI的物理层中的一个生成电子束数据；以及电子束描画设备，用于根据电子束数据描画掩模图案。电子束数据生成系统包括LSI设计系统，用于为物理层生成布图数据；以及转换单元，用于将布图数据转换成电子束数据。LSI设计系统包括存储器；数据库，用于存储布图层定义文件；以及控制部件，用于参考数据库以根据布图层定义文件在存储器中建立多个布图层。多个布图层在物理层中具有图案的延伸方向。控制部件根据延伸方向将每个图案分成图案结构，将每个图案结构指定到多个布图层的对应的一个，并且通过结合多个布图层为物理层产生布图数据。在本专利技术的另一个方面中，可以通过如下步骤实现制造LSI的方法为要制造的LSI的物理层中的一个生成布图数据；根据布图数据制作掩模；以及通过使用该掩模制造LSI。生成布图数据可以通过如下步骤实现根据布图层定义文件在存储器中建立多个布图层，其中多个布图层在LSI的物理层中具有图案的延伸方向；根据延伸方向将每个图案分成图案结构；将每个图案结构指定给多个布图层中对应的一个；及通过结合多个布图层为物理层生成布图数据。这里，指定可以通过指定每个图案结构的顶点将图案结构指定给对应的布图层来实现。此外，延伸方向可以相互垂直。此外，对所有物理层进行生成布图数据。此外，生成布图数据可以通过进一步检查多个布图层的每个是否满足所定义的设计规则来实现。此外，制作掩模可以通过以下步骤来实现为物理层生成电子束数据；以及根据电子束数据描画掩模图案以制作掩模。在本专利技术的另一方面中，布图数据生成方法可以通过以下步骤来实现根据布图层定义文件在存储器中建立多个布图层，其中多个布图层在LSI的物理层中具有图案的延伸方向；根据延伸方向将每个图案分成图案结构；将每个图案结构指定给多个布图层中对应的一个；以及通过结合多个布图层为物理层生成布图数据。附图说明图I是框图，示出了根据本专利技术实施例的LSI设计系统的结构；图2是概念图，示出了在本专利技术的实施例中的LSI设计的例子；图3是示出了根据本专利技术实施例的布图层定义文件的例子的图；图4是概念视图，示出了根据本专利技术实施例的LSI设计系统中的多个布图层；图5A是概念图，示出了根据本专利技术实施例的LSI设计系统的操作；图5B是概念图，示出了根据本专利技术实施例的LSI设计系统的操作；图6是示出了根据本专利技术实施例的布图数据的例子的图；图7是框图，示出了根据本专利技术实施例的EB数据生成系统的结构；以及图8是流程图，示出了根据本专利技术实施例的LSI设计方法。具体实施例方式在下文中，参考附图将根据本专利技术的使用数据库的LSI设计系统、LSI设计方法、以及EB数据生成系统描述如下。图1是框图，示出了根据本专利技术实施例的LSI设计系统的结构。LSI设计系统100包括数据库10、工作存储器20、布图编辑工具30、设计规则校验工具40、控制部件50、输入部件60、输出部件70和存储部件80。LSI设计系统100构造在工作站上，或通过网络相互连接的多个工作站上。控制部件50包括安装在工作站上的诸如中央处理部件(CPU)的程序执行部件。控制部件50连接到各部件，并且控制各部件的操作和进行各部件之间的数据传送和接收。工作存储器20是用于LSI设计的存储区域并且连接到控制部件50。用于LSI设计中的多个[布图层(数字化的层)21]建立在工作存储器20上。数据库10存储用于LSI设计的文件组并且连接到控制部件50。具体地，数据库10具有[布图层定义文件]11和[设计规则文件]12。布图层定义文件11表示在工作存储器20上建立的多个布图层21的定义，这将在后面详细讲述。设计规则文件12表示多个布图层21的[设计规则]。设计规则详细定义了每个布图层21的最小图案尺寸和最小间隔尺寸以及布图层21之间的位置关系。布图编辑工具30可存取(accessibly)地连接到数据库10和工作存储器20。布图编辑工具30由控制部件50所执行的计算机程序来实现。布图编辑工具30响应设计者的指令将图案结构设置在工作存储器20上的布图层21中。通过重复上述操作，将图案结构设置在工作存储器20上的用于LSI设计的多个布图层21中。这样，布图编辑工具30生成表示所设计的LSI的结构的[布图数据]90。设计规则校验工具(DRC)40可存取地连接到数据库10和工作存储器20。设计规则校验工具40由控制部件50所执行的计算机程序来本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种ＬＳＩ设计系统，包括：存储器；数据库，用于存储布图层定义文件；以及控制部件，用于参考所述数据库以根据所述布图层定义文件在所述存储器中建立多个布图层，其中所述多个布图层在要形成的ＬＳＩ的物理层的一个中具有图案的延伸方向，并且所述控制部件根据所述延伸方向将每个所述图案分成图案结构，并且将每个所述图案结构指定到所述多个布图层的对应的一个。

【技术特征摘要】
JP 2004-7-16 2004-2104821.一种LSI设计系统，包括存储器；数据库，用于存储布图层定义文件；以及控制部件，用于参考所述数据库以根据所述布图层定义文件在所述存储器中建立多个布图层，其中所述多个布图层在要形成的LSI的物理层的一个中具有图案的延伸方向，并且所述控制部件根据所述延伸方向将每个所述图案分成图案结构，并且将每个所述图案结构指定到所述多个布图层的对应的一个。2.根据权利要求1的LSI设计系统，其中所述控制部件通过结合所述多个布图层为所述物理层产生布图数据。3.根据权利要求1或2的LSI设计系统，其中所述控制部件通过指定每个所述图案结构的顶点来将所述图案结构指定到所述对应的布图层。4.根据权利要求1或2的LSI设计系统，其中所述延伸方向相互垂直。5.根据权利要求1或2的LSI设计系统，其中所述控制部件对要形成的LSI的所有物理层建立所述多个布图层，并且将每个所述图案结构指定到对应的布图层。6.根据权利要求1或2的LSI设计系统，其中所述数据库还存储设计规则文件，所述控制部件参考所述设计规则文件以检查所述多个布图层的每个是否满足在所述设计规则文件中定义的设计规则。7.一种电子束描画系统，包括电子束数据生成系统，用于为要形成的LSI的物理层中的一个生成电子束数据；以及电子束描画设备，用于根据所述电子束数据描画掩模图案，其中所述电子束数据生成系统包括LSI设计系统，用于为所述物理层生成布图数据；以及转换单元，用于将所述布图数据转换成所述电子束数据，所述LSI设计系统包括存储器；数据库，用于存储布图层定义文件；以及控制部件，用于参考所述数据库以根据所述布图层定义文件在所述存储器中建立多个布图层，所述多个布图层在所述物理层中具有图案的延伸方向，并且所述控制部件根据所述延伸方向将每个所述图案分成图案结构，将每个所述图案结构指定到所述多个布图层的对应的一个，并且通过结合所述多个布图层为所述物理层产生所述布图数据。8.根据权利要求7的电子束描画系统，其中所述控制部件通过指定每个所述图案结构的顶点来将所述图案结构指定...

【专利技术属性】
技术研发人员：绵贯真一，
申请(专利权)人：瑞萨电子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]