一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，包括滚轮、机壳和第一腔室，所述机壳底端的四个拐角处固定连接有滚轮，所述机壳的内部分别设置有第一腔室、第二腔室和第三腔室，所述第一腔室内部设置有消毒机构，所述第二腔室内部设置有循环机构，所述第三腔室内部的一侧固定连接有超声波发生器，所述第三腔室内部顶端的两侧均固定连接有除湿机构，所述机壳的一侧固定连接有输送管道。本实用新型专利技术通过设置有进水管道、水泵、出水管道、水箱、过滤网和阀门，装置在工作时水泵将水箱内部的水抽出输送到清洗管道，然后利用喷头输送到清洗框内部，清洗结束后，拧动阀门，清洗框内部的水流入水箱的内部，再经过过滤网过滤残渣。

【技术实现步骤摘要】
一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机
本技术涉及半导体清洗机
，具体为一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机。
技术介绍
随着科技发展的越来越迅速，我们日常生活中所需要使用到的半导体物品也越来越多，那么清洗半导体的问题也变成了重点关注的问题，现有的半导体清洗机还存在很多不足，大部分清洗机没有循环利用水资源，浪费水资源。在实现本技术的过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题没有得到解决：(1)传统的半导体柜式清洗机，没有循环利用水资源的机构，导致浪费水资源，提高成本；(2)传统的半导体柜式清洗机，装置在工作时，清洗完的半导体依然潮湿，取出还会沾染较多污渍；(3)传统的半导体柜式清洗机，半导体在清洗完成后，没有放置消毒的地方，导致清洗完的物品没有进一步消毒。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，以解决上述
技术介绍
中提出没有水循环提高成本、半导体干燥后得不到除湿和干燥后的半导体没有放置消毒区域的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种水资本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，包括滚轮(1)、机壳(2)和第一腔室(3)，其特征在于：所述机壳(2)底端的四个拐角处固定连接有滚轮(1)，所述机壳(2)的内部分别设置有第一腔室(3)、第二腔室(5)和第三腔室(10)，所述第一腔室(3)内部设置有消毒机构(14)，所述第二腔室(5)内部设置有循环机构(4)，所述第三腔室(10)内部的一侧固定连接有超声波发生器(6)，所述第三腔室(10)内部顶端的两侧均固定连接有除湿机构(9)，所述机壳(2)的一侧固定连接有输送管道(7)，且输送管道(7)的一侧固定连接有清洗管道(8)，所述清洗管道(8)的底端均匀固定连接有喷头(11)，所述第三腔室...

【技术特征摘要】
1.一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，包括滚轮(1)、机壳(2)和第一腔室(3)，其特征在于：所述机壳(2)底端的四个拐角处固定连接有滚轮(1)，所述机壳(2)的内部分别设置有第一腔室(3)、第二腔室(5)和第三腔室(10)，所述第一腔室(3)内部设置有消毒机构(14)，所述第二腔室(5)内部设置有循环机构(4)，所述第三腔室(10)内部的一侧固定连接有超声波发生器(6)，所述第三腔室(10)内部顶端的两侧均固定连接有除湿机构(9)，所述机壳(2)的一侧固定连接有输送管道(7)，且输送管道(7)的一侧固定连接有清洗管道(8)，所述清洗管道(8)的底端均匀固定连接有喷头(11)，所述第三腔室(10)内部的底端均匀设置有清洗框(13)，所述机壳(2)的另一侧固定连接有控制器(12)。


2.根据权利要求1所述的一种水资源重复使用的半导体柜式清洗机，其特征在于：所述循环机构(4)由进水管道(401)、水泵(402)、出水管道(403)、水箱(404)、过滤网(405)和阀门(406)组成，所述水箱(404)设置在第二腔室(5)内部的底端，所述水箱(404)内部的顶端活动连接有过滤网(405)，所述水箱(404)一侧的顶部固定连接有水泵(402)，所述水箱(404)一侧的顶部设置有出水管道(403)，所述水泵(402)的输入端固定连接在出水管道(403)的顶端，所述水泵(402)的输出端固定连接在输送管道(7)的底端，所述水箱(404)顶端的中间位置处设置有进水管道(401)，所述进水管道(401)的一端设置有阀门(406)。...

【专利技术属性】
技术研发人员：周焱文，
申请(专利权)人：武汉普昊科技有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42