一种改性耐候母粒及其制备方法与应用技术

本发明专利技术提供了一种改性耐候母粒及其制备方法和应用，所述改性耐候母粒包括颗粒状耐候剂以及包覆于其表面的聚合物层。本发明专利技术提供的改性耐候母粒表面包覆有聚合物层，可以避免颗粒性耐候剂因高温引起的粘性增加造成结块或部分物质析出导致迁移或泄露的现象，继而避免了在应用时耐候剂析出导致的材料稳定性下降，力学性能降低等缺点。

【技术实现步骤摘要】
一种改性耐候母粒及其制备方法与应用
本专利技术属于材料
，涉及一种改性耐候母粒及其制备方法与应用。
技术介绍
随着人类生活质量以及生产技术水平的不断提高，高分子材料已经广泛应用到人类社会生活的各个领域。但高分子材料在加工、贮存和使用的过程中，普遍存在其物理性质、化学性质和力学性能逐渐变差的现象，统称为高分子材料的老化或者降解。为了防止或延缓高分子材料的老化，延长其使用寿命，目前常规做法是加入一些添加剂，例如光稳定剂，其能够干预高分子材料光诱导降解物理化学过程，是最常用也是最重要的高分子材料添加剂之一。目前光稳定剂的品种主要包括二苯甲酮类、苯并三唑类、三嗪类紫外线吸收剂，镍盐类激发态猝灭剂和受阻胺类光稳定剂，受阻胺型光稳定剂的光稳定效果是传统吸收型光稳定剂的2～4倍，且与大部分树脂例如PP、TPO、聚缩醛、聚酰胺等具有良好的相容性，因此目前应用最为广泛。虽然目前的受阻胺型光稳定剂的光稳定性优良，但是部分受阻胺型光稳定剂的熔点较低，在使用或储存运输时较易析出，或易受到温度等因素影响而粘度增加，一方面会导致其结块，影响使用，另外本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种改性耐候母粒，其特征在于，包括颗粒状耐候剂以及包覆于其表面的聚合物层，所述聚合物层的厚度为0.5～100微米，优选为1-20μm。/n

【技术特征摘要】
1.一种改性耐候母粒，其特征在于，包括颗粒状耐候剂以及包覆于其表面的聚合物层，所述聚合物层的厚度为0.5～100微米，优选为1-20μm。


2.根据权利要求1所述的改性耐候母粒，其特征在于，所述颗粒状耐候剂的粒径为0.5～10mm；
所述颗粒状耐候剂为光稳定剂，或者包含基材以及光稳定剂的光稳定剂母粒；优选地，所述光稳定剂为受阻胺型光稳定剂，和/或，所述光稳定剂的熔点低于80℃，优选为20～70℃；
更优选地，所述光稳定剂为2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯，聚[1-(2'-羟乙基)-2.2.6.6-四甲基-4-羟基哌啶丁二酸酯]，2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯与3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸正十六酯的混合物；
最优选地，所述光稳定剂母粒为UV-3853PP5或UV-3808PP5。


3.根据权利要求1所述的改性耐候母粒，其特征在于，形成所述聚合物层的聚合单体选自苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、氯乙烯、乙烯、丙烯中的一种或多种；
优选地，所述聚合单体包括至少一种液态单体，或者所述聚合单体为气态单体；
更优选地，所述聚合单体为液态苯乙烯，或气态乙烯/丙烯。


4.根据权利要求1～3任意一项所述的改性耐候母粒，其特征在于，所述聚合物层是由聚合物单体经本体聚合而成。


5.权利要求1～4任意一项所述改性耐候母粒的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将颗粒状耐候剂与聚合单体混合，进行本体聚合反应；
优选地，所述颗粒状耐候剂与聚合单体的质量比为100:(1～20)；
更优选地，所述聚合单体为液态单体，所述颗粒状耐候剂与聚合单体的质量比为100:(1～9)；或者，所述聚合单体为气态单体，所述颗粒状耐候剂与聚合单体的质量比为100:(5～20)。


6.根据权利要求5所述的方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚广，孙春光，安平，罗海，李海平，
申请(专利权)人：利安隆天津新材料科技有限公司，天津利安隆新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12