【技术实现步骤摘要】
用于时计的控制表冠
本专利技术涉及一种用于时计的控制表冠,该控制表冠能够与中间件配合以操纵属于所述控制表冠的控制杆,所述中间件包括沿着主轴线的至少一个主凹槽,以用于接收被包括在所述控制表冠中的管,该控制表冠包括表冠主体,该表冠主体能够安装成使得其围绕所述主轴线旋转并且设置成由使用者操纵以操纵所述控制杆,并且所述表冠主体覆盖所述管和所述控制杆两者。本专利技术涉及一种包括这种中间件和至少一个这种控制表冠的时计表壳。本专利技术涉及一种时计、特别是手表,其包括这种表壳和/或至少一个这种控制表冠。本专利技术涉及用于时计的控制机构的领域。
技术介绍
时计通常包括支持技术指示的部件,例如分度扇区或识别产品的支撑元件,例如标志、名称或类似元件,并且还可以包括外部部件,该外部部件必须以特定的定向组装,以便既不造成不方便也不伤害使用者。对这些部件进行分度必须保证功能性,特别是所需的防水密封。这些部件通常被拧紧,这需要创建附加机构以确保其正确定向:这些机构导致增加的部件数量和额外的生产成本。由OFFICINEPANERAMI提交的专利文献CH711600A1描述了一种推件式表冠,其包括设置有中心延伸部的表冠和推件,该中心延伸部能够连接到钟表机芯的上条柄轴,该推件能够抵抗弹性作用而相对于表冠进行轴向位移,该推件式表冠还包括能够穿过表壳的壁并紧固到其上的管,表冠在该管上枢转。该表冠包括锁定装置,该锁定装置防止推件的致动,除非表冠放置在相对于管的至少一个预定的角度位置。由ROLEX提交的专利文献E ...
【技术保护点】
1.一种用于时计(1000)的控制表冠(10),其能够与中间件(20)配合以操纵属于所述控制表冠(10)的控制杆(4),所述中间件(20)包括沿着主轴线(D1)的至少一个主凹槽(21),以用于接收被包括在所述控制表冠(10)中的管(1),所述控制表冠包括表冠主体(8),所述表冠主体能够安装成使得其围绕所述主轴线(D1)旋转并且设置成由使用者操纵以操纵所述控制杆(4),并且所述表冠主体(8)覆盖所述管(1)和所述控制杆(4)两者,其特征在于,所述管(1)包括中空部(11),以允许所述控制杆(4)通过和/或所述控制杆被引导成围绕平行于所述主轴线(D1)的轴线(D2)旋转,并且其特征在于,所述控制表冠(10)包括封闭盖(7),所述封闭盖设置成通过被包括在所述管(1)中的分度装置(12)与被包括在所述封闭盖(7)中的互补分度装置(71)之间的配合在相对于所述中间件(20)的固定的角度位置处紧固到所述管(1),以在所述中间件(20)和所述封闭盖(7)之间轴向地封闭所述表冠主体(8),其特征在于,所述中空部(11)是偏心的,以允许所述控制杆(4)通过和/或所述控制杆被引导成围绕平行于所述主轴线(D ...
【技术特征摘要】
20191121 EP 19210665.61.一种用于时计(1000)的控制表冠(10),其能够与中间件(20)配合以操纵属于所述控制表冠(10)的控制杆(4),所述中间件(20)包括沿着主轴线(D1)的至少一个主凹槽(21),以用于接收被包括在所述控制表冠(10)中的管(1),所述控制表冠包括表冠主体(8),所述表冠主体能够安装成使得其围绕所述主轴线(D1)旋转并且设置成由使用者操纵以操纵所述控制杆(4),并且所述表冠主体(8)覆盖所述管(1)和所述控制杆(4)两者,其特征在于,所述管(1)包括中空部(11),以允许所述控制杆(4)通过和/或所述控制杆被引导成围绕平行于所述主轴线(D1)的轴线(D2)旋转,并且其特征在于,所述控制表冠(10)包括封闭盖(7),所述封闭盖设置成通过被包括在所述管(1)中的分度装置(12)与被包括在所述封闭盖(7)中的互补分度装置(71)之间的配合在相对于所述中间件(20)的固定的角度位置处紧固到所述管(1),以在所述中间件(20)和所述封闭盖(7)之间轴向地封闭所述表冠主体(8),其特征在于,所述中空部(11)是偏心的,以允许所述控制杆(4)通过和/或所述控制杆被引导成围绕平行于所述主轴线(D1)并与其分离的副轴线(D2)旋转。
2.根据权利要求1所述的控制表冠(10),其特征在于,所述表冠主体(8)包括能够接收在所述封闭盖(7)下方的垫圈(6)的沉孔(83)。
3.根据权利要求1或2所述的控制表冠(10),其特征在于,所述表冠主体(8)包括齿或内花键(81),所述齿或内花键被设置成与被包括在所述控制杆(4)中的齿或相应的外花键(43)配合,以驱动所述控制杆(4)旋转。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的控制表冠(10),其特征在于,所述表冠主体(8)包括攻丝(82),该攻丝能够与螺母(5)的螺纹(52)以互补的方式配合...
【专利技术属性】
技术研发人员:K·克维钦斯基,G·威勒米耶,
申请(专利权)人:斯沃奇集团研究及开发有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士;CH
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