本实用新型专利技术公开了一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置，包括底板和位于底板顶端一侧的伸缩气缸，伸缩气缸的顶端设有立柱，立柱的顶端设有横向设置的横梁，横梁的底端设有竖直设置的支架，支架的底端设有横向设置的安装板，安装板的底端设有驱动电机，驱动电机的输出端设有磨石，底板的顶端设有工作台，工作台的顶端开设有凹槽，凹槽的顶端设有若干均匀分布的限位柱。有益效果：使得限位柱随着横板一和横板二的移动与陶瓷的外壁进行接触，且能够对大小不同的陶瓷固定在工作台上，防止在磨削陶瓷时发生晃动，大大提高了磨削的精准度，而滑动块与支架的配合，则能够带动磨石进行左右位置的调节，方便用户对陶瓷内弧或外弧进行磨削抛光。进行磨削抛光。进行磨削抛光。
【技术实现步骤摘要】
一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置
[0001]本技术涉及磨削抛光
，具体来说，涉及一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置。
技术介绍
[0002]抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工，抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的。
[0003]高速旋转的抛光轮压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，碳化硼陶瓷是一种新兴的工业材料，它是一种六方晶系的结晶体，具有鳞片状结构，现有的磨削抛光装置，体积较大，不方便移动，且对弧状陶瓷磨削抛光较为不便，对陶瓷磨削不够全面。
[0004]针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
[0005]针对相关技术中的问题，本技术提出一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
[0006]为此，本技术采用的具体技术方案如下：
[0007]一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置，包括底板和位于所述底板顶端一侧的伸缩气缸，所述伸缩气缸的顶端设有立柱，所述立柱的顶端设有横向设置的横梁，所述横梁的底端设有竖直设置的支架，所述支架的底端设有横向设置的安装板，所述安装板的底端设有驱动电机，所述驱动电机的输出端设有磨石，所述底板的顶端设有工作台，所述工作台的顶端开设有凹槽，所述凹槽的顶端设有若干均匀分布的限位柱，所述限位柱通过调节机构与所述工作台相连接，所述调节机构包括位于所述工作台内对称设置的横板一和横板二，所述横板一的顶端一侧设有活动杆，所述横板二的顶端设有与所述活动杆对称设置的衔接杆，所述活动杆与所述衔接杆相互靠近的一侧均设有齿条，两组所述齿条之间设有与其啮合的齿轮，所述齿轮的轴心与位于所述工作台内的正反电机，所述横板一和所述横板二的顶端相对应的与所述限位柱相连接。
[0008]优选的，所述工作台内对称设有套设于所述活动杆和所述衔接杆上的套筒。
[0009]优选的，所述横梁内设有横向设置的丝杆，所述丝杆上套设有与所述支架相连接的滑动块，且所述丝杆的一侧与位于所述横梁内驱动电机输出端相连接。
[0010]优选的，所述底板的底端设有若干均匀分布的移动轮，所述移动轮为固定万向轮。
[0011]优选的，所述限位柱的数量为四个，且所述限位柱上套设有与其相匹配的橡胶圈。
[0012]优选的，所述安装板的顶端一侧设有抛光液箱，所述抛光液箱的底端设有贯穿所述安装板的滴液管，所述滴液管上设有阀门。
[0013]本技术的有益效果为：通过限位柱与调节机构的配合设计，将横板一和横板二向中间平移，使得限位柱随着横板一和横板二的移动与陶瓷的外壁进行接触，且能够对大小不同的陶瓷固定在工作台上，防止在磨削陶瓷时发生晃动，大大提高了磨削的精准度，而滑动块与支架的配合，则能够带动磨石进行左右位置的调节，方便用户对陶瓷内弧或外弧进行磨削抛光。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1是根据本技术实施例的一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置的结构示意图；
[0016]图2是根据本技术实施例的一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置中调节机构的结构示意图。
[0017]图中：
[0018]1、底板；2、伸缩气缸；3、立柱；4、横梁；5、支架；6、安装板；7、驱动电机；8、磨石；9、工作台；10、凹槽；11、限位柱；12、横板一；13、横板二；14、活动杆；15、衔接杆；16、齿条；17、齿轮；18、正反电机； 19、套筒；20、移动轮；21、抛光液箱；22、滴液管；23、丝杆；24、滑动块。
具体实施方式
[0019]为进一步说明各实施例，本技术提供有附图，这些附图为本技术揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本技术的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
[0020]根据本技术的实施例，提供了一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置。
[0021]实施例一；
[0022]如图1
‑
2所示，根据本技术实施例的应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置，包括底板1和位于所述底板1顶端一侧的伸缩气缸2，所述伸缩气缸2的顶端设有立柱3，所述立柱3的顶端设有横向设置的横梁4，所述横梁4的底端设有竖直设置的支架5，所述支架5的底端设有横向设置的安装板6，所述安装板6的底端设有驱动电机7，所述驱动电机7的输出端设有磨石8，所述底板1的顶端设有工作台9，所述工作台9的顶端开设有凹槽10，所述凹槽10的顶端设有若干均匀分布的限位柱11，所述限位柱11通过调节机构与所述工作台9相连接，所述调节机构包括位于所述工作台9内对称设置的横板一12和横板二13，所述横板一12的顶端一侧设有活动杆14，所述横板二13的顶端设有与所述活动杆14对称设置的衔接杆15，所述活动杆14与所述衔接杆15相互靠近的一侧均设有齿条16，两组所述齿条16之间设有与其啮合的齿轮17，所述齿轮17的轴心与位于所述工作台9内的正反电机18，所述横板一12和所述横板二13的顶端相对应的与所述限位柱11相连接。
[0023]实施例二；
[0024]如图1
‑
2所示，所述工作台9内对称设有套设于所述活动杆14和所述衔接杆15上的套筒19，所述横梁4内设有横向设置的丝杆23，所述丝杆 23上套设有与所述支架5相连接的滑动块24，且所述丝杆23的一侧与位于所述横梁4内驱动电机输出端相连接，所述底板1的底端设有若干均匀分布的移动轮20，所述移动轮20为固定万向轮。从上述的设计不难看出，通过丝杆23与滑动块24的配合设计，驱动电机的运作带动丝杆23旋转，使得滑动块24随着丝杆23的旋转进行移动，实现滑动块24通过支架5带动磨石8进行左右平移。
[0025]实施例三；
[0026]如图1
‑
2所示，所述限位柱11的数量为四个，且所述限位柱11上套设有与其相匹配的橡胶圈，所述安装板6的顶端一侧设有抛光液箱21，所述抛光液箱21的底端设有贯穿所述安装板6的滴液管22，所述滴液管22上设有阀门。从上述的设计不难看出，抛光液箱21中的抛光液通过滴液管 22滴下，方便人们对陶瓷进行抛光时使用。
[0027]为了方便理解本技术的上述技术方案，以下就本技术在实际过程中的工作原理本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种应用于氮化硼陶瓷件的内弧磨削抛光装置，其特征在于，包括底板(1)和位于所述底板(1)顶端一侧的伸缩气缸(2)，所述伸缩气缸(2)的顶端设有立柱(3)，所述立柱(3)的顶端设有横向设置的横梁(4)，所述横梁(4)的底端设有竖直设置的支架(5)，所述支架(5)的底端设有横向设置的安装板(6)，所述安装板(6)的底端设有驱动电机(7)，所述驱动电机(7)的输出端设有磨石(8)，所述底板(1)的顶端设有工作台(9)，所述工作台(9)的顶端开设有凹槽(10)，所述凹槽(10)的顶端设有若干均匀分布的限位柱(11)，所述限位柱(11)通过调节机构与所述工作台(9)相连接，所述调节机构包括位于所述工作台(9)内对称设置的横板一(12)和横板二(13)，所述横板一(12)的顶端一侧设有活动杆(14)，所述横板二(13)的顶端设有与所述活动杆(14)对称设置的衔接杆(15)，所述活动杆(14)与所述衔接杆(15)相互靠近的一侧均设有齿条(16)，两组所述齿条(16)之间设有与其啮合的齿轮(17)，所述齿轮(17)的轴心与位于所述工作台(9)内的正反电机(18)，所述横板一(12)和所述横板二(13)的顶端相...
【专利技术属性】
技术研发人员：李克胜，冀坤，李贞太，
申请(专利权)人：潍坊卓宇新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。