一种光学点结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光学点结构，包括外层图形区域和十字区域，所述十字区域与外层图形区域的中点重叠，所述外层图形区域包括从上到下依次设置的防焊层、外层图形层和基板，所述十字区域包括从上到下依次设置的十字区域层和基板，所述外层图形层为四个角为内圆角的矩形，所述外层图形层包括四条直线和四条圆弧，所述直线和圆弧交替设置，所述十字区域层位于外层图形层内，所述直线距离十字区域层的最短距离为2～6mil，所述十字区域层包括相互垂直的水平线和垂直线，所述防焊层上设有对应十字区域层的十字槽。本实用新型专利技术的光学点容易被CCD等对位机构识别，提高了对位的效率，该光学点容易被制作，而且不容易发生变形的问题。而且不容易发生变形的问题。而且不容易发生变形的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种光学点结构


[0001]本技术涉及PCB领域，具体的说，尤其涉及一种光学点结构。

技术介绍

[0002]PCB外层的光学对位点(make点)主要作用是：供客户自动上件机CCD对位使用，光学对位点一般为圆形，对于图形密集的HDI板和LED板，圆形对位点与板内圆PAD易混淆，在打件过程中容易出现抓错Make点的问题。
[0003]部分厂家设计出十字光学点，十字光学点制作方案分两种，一是外层蚀刻定义(Etching Define)，即外层制作出光学点图形，防焊将整个图形区域开窗出来，由于在蚀刻过程中药水无法在十字四个边形成循环，导致光学点靠中心区域形成不规则的半铜区，导致光学点变形；二是防焊开窗(On PAD)，即外层加大光学点，防焊在外层图形上做出十字开窗，由于半铜区经过药水蚀刻后铜面非常光滑，加上目前防焊前处理常用的物理处理方法均无法将其有效粗化，导致半铜区与油墨结合力较差，因此极易出现掉油，导致光学点变形。
[0004]目前光学点变形不良率在13％左右，由于现有设备不具备有效检验十字光学点变形的能力，影响光学点的正常使用功能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学点结构，其特征在于：包括外层图形区域(1)和十字区域(2)，所述十字区域(2)与外层图形区域(1)的中点重叠，所述外层图形区域(1)包括从上到下依次设置的防焊层(11)、外层图形层(12)和基板(3)，所述十字区域(2)包括从上到下依次设置的十字区域层(21)和基板(3)，所述外层图形层(12)为四个角为内圆角的矩形，所述外层图形层(12)包括四条直线(121)和四条圆弧(122)，所述直线(121)和圆弧(122)交替设置，所述十字区域层(21)位于外层图形层(12)内，所述直线(121)距离十字区域层(21)的最短距离为2～6mil，所述十字区域层(21)包括相互垂直的水平线和垂直线，所述防焊层(11)上设有对应十字区域层的十字槽(6...

【专利技术属性】
技术研发人员：阙星军，伍胜玉，江新，朱雪晴，夏国伟，施世坤，
申请(专利权)人：胜宏科技惠州股份有限公司，
类型：新型
国别省市：