【技术实现步骤摘要】
炉管清洗装置及炉管清洗设备
[0001]本专利技术涉及半导体设备领域,更具体地,涉及一种炉管清洗装置及炉管清洗设备。
技术介绍
[0002]目前,用于清洗炉管(例如石英管)的清洗设备主要分为立式清洗机和卧式清洗机。卧式清洗机是对炉管进行浸泡清洗,立式清洗机是对炉管和晶舟进行喷淋清洗。两者对于炉管的外壁清洗效果都比较明显,但对于炉管内壁的清洗效果却不太理想。炉管内壁的颗粒度直接影响着wafer扩散工艺的合格率,因此,炉管内壁的清洗效果尤为重要。同时,在炉管清洗完成后,通常使用N2枪对炉管表面进行吹扫、干燥,而炉管内壁无法使用气枪吹扫,炉管内壁需要自然干燥。
[0003]如图1所示,卧式清洗机一般采用内喷嘴的形式清洗炉管内壁。进行清洗工艺时,机械手101运输炉管105到达下工艺位,炉管105接触到位于水洗槽102内底部的滚动机构103,滚动机构的滚子104在电机的驱动下,带动炉管105旋转。在水槽的一侧设置有喷嘴106,喷嘴106后接的软管连接到机台纯水管路,通过控制气动阀开闭,使用厂务的去离子水(DIW)对炉管内壁冲洗 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种炉管清洗装置,其特征在于,包括:传动机构、清洗机构和清洗介质管路;所述传动机构与所述清洗机构连接,用于驱动所述清洗机构在炉管内移动;所述清洗介质管路与所述清洗结构连通,用于将清洗介质通入所述清洗机构;所述清洗机构用于喷出所述清洗介质,并在所述清洗介质的反作用力下旋转。2.根据权利要求1所述的炉管清洗装置,其特征在于,所述传动机构包括导轨槽、传输链条、链轮和链轮驱动机构,所述传输链条设置于所述导轨槽内,至少部分所述导轨槽的延伸方向朝向所述炉管的内部,所述清洗机构设置于所述传输链条的一端,所述链轮与所述传输链条驱动配合,所述链轮驱动机构用于驱动所述链轮转动,进而驱动所述传输链条及所述清洗机构在所述炉管内移动。3.根据权利要求2所述的炉管清洗装置,其特征在于,所述导轨槽呈L型,包括垂直于所述炉管轴线的竖直部分和平行于所述炉管轴线的水平部分,所述水平部分的延伸方向朝向所述炉管的内部,所述竖直部分和所述水平部分的连接处为圆弧形,所述链轮在所述连接处与所述传输链条配合,所述链轮驱动机构通过所述链轮驱动所述传输链条时,所述传输链条的一端沿平行于所述炉管轴线的方向移动,所述传输链条的另一端沿垂直于所述炉管轴线的方向移动;所述传输链条包括多个链节,所述链节仅能够向靠近所述链轮的一侧弯曲,所述链节上设有限位过孔,所述清洗介质管路穿过每个所述链节的所述限位过孔与所述清洗结构连通。4.根据权利要求1所述的炉管清洗装置,其特征在于,所述清洗机构包括喷头组件和旋转基座,所述喷头组件与所述旋转基座连接,所述清洗介质管路通过所述旋转基座与所述喷头组件连通,所述喷头组件上设有多个用于清洗所述炉管侧壁并使所述喷头组件旋转的第一喷嘴和多个用于清洗所述炉管顶壁的第二喷嘴。5.根据权利要求4所述的炉管清洗装置,其特征在于,所述旋转基座包括端盖、导流轴盖、限位垫块、旋转主轴、轴承组件和主轴衬套;所述端盖与所述传输链条的一端连接;所述端盖与所述导流轴盖密封连接,二者之间形成导流腔,所述清洗介质管路与所述导流腔连通,所述导流轴盖上设置有导流嘴,所述导流嘴深入所述旋转主轴中的导流通道中;所述限位垫块设置在所述导流轴盖上,所述旋转主轴设置在所述限位垫块上,所述轴承组件套设在所述旋转主轴上,所述主轴衬套套设在...
【专利技术属性】
技术研发人员:王延广,赵宏宇,张敬博,高广新,梁家齐,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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