盖构件和具有该盖构件的构件供给组件制造技术

本发明专利技术的盖构件为配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过上述开口的构件，该盖构件具有：保护膜，该保护膜具有在该盖构件配置于上述面时覆盖上述开口的形状；以及第1基材层，其与保护膜的一个主面接合。第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在盖构件配置于上述面时，位于保护膜与上述面之间。所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。本发明专利技术的盖构件适合于从构件供给用的片材进行剥离的剥离性的改善。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】盖构件和具有该盖构件的构件供给组件
本专利技术涉及配置于包括具有开口的面的对象物的该面并且防止异物经过上述开口的盖构件和用于供给该构件的构件供给组件。
技术介绍
公知一种配置于包括具有开口的面的对象物的该面并防止异物经过上述开口的盖构件。在专利文献1中公开了一种防水透气构件，其具有防水透气膜、与防水透气膜的表面的周缘部接合的第1双面粘合带以及与防水透气膜的与上述表面相反的一侧的表面的周缘部接合的第2双面粘合带，第1双面粘合带的基材为发泡体。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2015/064028号
技术实现思路
专利技术要解决的问题盖构件通常在配置于内衬片材等构件供给用的片材的状态下供给。在该状态下供给的盖构件在从片材剥离之后，配置于对象物的面。此时，通过吸附、把持来掀起盖构件的最远离片材的层，从而将盖构件从片材剥离，在这样的状态下直接将盖构件配置于保持对象物的面较为高效。最远离的层例如是保护膜、突耳薄膜(日文：タブフィルム)。然而，若从片材剥离盖构件的剥离性较低，则有时掀起盖构件的力本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种盖构件，其配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过所述开口，其中，/n该盖构件具有：/n保护膜，该保护膜具有在所述盖构件配置于所述面时覆盖所述开口的形状；以及/n第1基材层，其与所述保护膜的一个主面接合，/n所述第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在所述盖构件配置于所述面时，位于所述保护膜与所述面之间，/n所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190816 JP 2019-1493861.一种盖构件，其配置于包括具有开口的面的对象物的该面，防止异物经过所述开口，其中，
该盖构件具有：
保护膜，该保护膜具有在所述盖构件配置于所述面时覆盖所述开口的形状；以及
第1基材层，其与所述保护膜的一个主面接合，
所述第1基材层具有包含两个以上的基材薄膜的层叠构造，并且在所述盖构件配置于所述面时，位于所述保护膜与所述面之间，
所述两个以上的基材薄膜具有非发泡薄膜和发泡薄膜。


2.根据权利要求1所述的盖构件，其中，
所述发泡薄膜位于比所述非发泡薄膜远离所述保护膜的位置。


3.根据权利要求1或2所述的盖构件，其中，
在所述第1基材层，位于最远离所述保护膜的位置的所述基材薄膜为所述发泡薄膜。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的盖构件，其中，
所述保护膜具有厚度方向上的透气性。


5.根据权利要求1～3中任一项所述的盖构件，其中，
所述保护膜包含聚四氟乙烯拉伸多孔质膜。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的盖构件，其中，
所述保护膜的内聚力为2.0N/20mm以下。


7.根据权利要求1～6中任一项所述的盖构件，其中，
所述第1基材层在与所述保护膜的主面垂直地看时，具有与所述保护膜的外周一致的外周。


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【专利技术属性】
技术研发人员：菅谷阳辅，木上裕贵，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP