二羧酸单酯的制造方法技术

本发明专利技术的课题在于提供一种回收以未反应的原料或杂质的形式存在的多环二羧酸，并将其在单酯化反应中进行利用的多环二羧酸单酯的制造方法。本发明专利技术的二羧酸单酯的制造方法为具有从二羧酸得到二羧酸单酯的单酯化反应工序的二羧酸单酯的制造方法，其中，回收以未反应的原料的形式残留的二羧酸，并将其在单酯化反应工序中再利用，或者，水解以杂质的形式副产的二羧酸二酯，以二羧酸的形式回收，并将其在单酯化反应工序中再利用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】二羧酸单酯的制造方法
本专利技术涉及一种二羧酸单酯的制造方法。
技术介绍
为了消除图像着色或扩大视角，光学补偿片或相位差膜等光学膜被用于各种各样的图像显示装置中。作为光学膜，使用了拉伸双折射膜，但是近年来提出代替拉伸双折射膜而使用具有由液晶性化合物构成的光学各向异性层的光学膜。已知用于形成这种光学各向异性层的液晶性化合物例如通过利用羟基化合物与羧酸化合物的酯化反应来进行合成，所述羟基化合物用于形成位于液晶性化合物的分子中央的骨架(以下，也称为“芯部分”。)，所述羧酸化合物用于形成液晶性化合物的侧链部分(例如，参考专利文献1～4等)。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-031223号公报专利文献2：日本特开2012-097078号公报专利文献3：国际公开第2014/010325号专利文献4：日本特开2016-081035号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题本专利技术人等得到了如下见解：作为用于形成液晶性化合物的侧链部分的羧酸化合物，例如以下述式(3-1)所表示的二环己烷二羧酸单酯等为代表的、具有2个以上的环结构通过单键连接的结构的二羧酸的单酯体(以下，也简称为“多环二羧酸单酯”。)是有用的。另外，下述式(3-1)中，R表示取代基。并且，本专利技术人等明确了在合成多环二羧酸单酯时，若将具有2个以上的环结构通过单键连接的结构的二羧酸(以下，也简称为“多环二羧酸”。)或多环二羧酸的二酯体(以下，也称为“多环二羧酸二酯”。)用作起始物质(原料)，则多环二羧酸以未反应的原料或杂质的形式存在，并且得到了将其回收并作为原料进行利用是很重要的见解。[化学式1]因此，本专利技术的课题在于提供一种回收以未反应的原料或杂质的形式存在的多环二羧酸，并将其在单酯化反应中进行利用的多环二羧酸单酯的制造方法。用于解决技术课题的手段本专利技术人等发现了通过以下构成能够实现上述课题。[1]一种二羧酸单酯的制造方法，其具有从下述式(1)所表示的二羧酸得到下述式(3)所表示的二羧酸单酯的单酯化反应工序，其中，回收以未反应的原料的形式残留的二羧酸，并将其在单酯化反应工序中再利用，或者，水解以杂质的形式副产的下述式(2)所表示的二羧酸二酯，以二羧酸的形式回收，并将其在单酯化反应工序中再利用。[化学式2]其中，上述式(1)～(3)中，n表示1～5的整数。A1及A2分别独立地表示可以具有取代基的芳香族烃环、可以具有取代基的芳香族杂环、可以具有取代基的脂肪族烃环或可以具有取代基的脂肪族杂环，当n为2～5的整数时，多个A2分别可以相同也可以不同。R表示取代基。[2]一种二羧酸单酯的制造方法，其具有从下述式(2)所表示的二羧酸二酯得到下述式(3)所表示的二羧酸单酯的反应工序，其中，回收以杂质的形式副产的下述式(1)所表示的二羧酸，并将其在从二羧酸得到二羧酸单酯的单酯化反应工序中进行利用，或者，在从二羧酸得到二羧酸二酯之后，将其在反应工序中再利用。[化学式3]其中，上述式(1)～(3)中，n表示1～5的整数。A1及A2分别独立地表示可以具有取代基的芳香族烃环、可以具有取代基的芳香族杂环、可以具有取代基的脂肪族烃环或可以具有取代基的脂肪族杂环，当n为2～5的整数时，多个A2分别可以相同也可以不同。R表示取代基。[3]根据[1]或[2]所述的二羧酸单酯的制造方法，其中，上述式(1)～(3)中的A1及A2均表示可以具有取代基的碳原子数6以上的芳香环或可以具有取代基的碳原子数6以上的环烷烃环。[4]根据[1]至[3]中任一项所述的二羧酸单酯的制造方法，其中，上述式(1)～(3)中的A1及A2均表示环己烷环。[5]根据[1]至[4]中任一项所述的二羧酸单酯的制造方法，其中，上述式(1)所表示的二羧酸为下述式(1-1)所表示的化合物，上述式(2)所表示的二羧酸二酯为下述式(2-1)所表示的化合物，上述式(3)所表示的二羧酸单酯为下述式(3-1)所表示的化合物。[化学式4][6]根据[1]所述的二羧酸单酯的制造方法，其中，以未反应的原料的形式残留的二羧酸是通过具有以下回收方法来回收的：分相处理，在单酯化反应工序之后，向反应体系内添加碱性水溶液，然后将二羧酸单酯萃取到有机溶剂中，并且将二羧酸的盐萃取到水溶液中；及析出处理，在分相处理之后，将萃取有二羧酸的盐的水溶液酸性化，并且回收析出的二羧酸。[7]根据[6]所述的二羧酸单酯的制造方法，其中，碱性水溶液为选自包括氢氧化钾水溶液、氢氧化钠水溶液、碳酸钾水溶液、碳酸钠水溶液、碳酸氢钾水溶液及碳酸氢钠水溶液的组中的至少一种水溶液。[8]根据[1]所述的二羧酸单酯的制造方法，其中，以未反应的原料的形式残留的二羧酸是通过具有以下处理的回收方法来回收的：分离处理，在单酯化反应工序之后，向反应体系内添加碱性化合物，并且分离出析出的二羧酸的盐；及析出处理，在分离处理之后，用水系溶剂将二羧酸的盐酸性化，并且回收析出的二羧酸。[9]根据[8]所述的二羧酸单酯的制造方法，其中，碱性化合物为胺化合物。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种回收以未反应的原料或杂质的形式存在的多环二羧酸，并将其在单酯化反应中进行利用的多环二羧酸单酯的制造方法。具体实施方式以下，对本专利技术进行详细说明。以下记载的构成要件的说明有时是根据本专利技术的代表性实施方式而进行的，但本专利技术并不限定于这样的实施方式。另外，在本说明书中，使用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”的前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。并且，在本说明书中，各成分可以单独使用一种对应于各成分的物质，也可以并用两种以上。在此，关于各成分，当并用两种以上的物质时，只要没有特别指定，则关于该成分的含量是指并用的物质的合计含量。[第1方式]本专利技术的第1方式所涉及的二羧酸单酯的制造方法(以下，也简称为“本专利技术的第1制造方法”。)为具有从下述式(1)所表示的二羧酸得到下述式(3)所表示的二羧酸单酯的单酯化反应工序的二羧酸单酯的制造方法。而且，本专利技术的第1制造方法的特征在于，回收以未反应的原料的形式残留的二羧酸，并将其在单酯化反应工序中再利用，或者，水解以杂质的形式副产的下述式(2)所表示的二羧酸二酯，以二羧酸的形式回收，并将其在单酯化反应工序中再利用。[化学式5]其中，上述式(1)～(3)中，n表示1～5的整数。A1及A2分别独立地表示可以具有取代基的芳香族烃环、可以具有取代基的芳香族杂环、可以具有取代基的脂肪族烃环或可以具有取代基的脂肪族杂环，当n为2～5的整数时，多个A2分别可以相同也可以不同。本专利技术的第1制造方法及后述的本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种二羧酸单酯的制造方法，其具有从下述式(1)所表示的二羧酸得到下述式(3)所表示的二羧酸单酯的单酯化反应工序，其中，/n将以未反应的原料的形式残留的所述二羧酸回收，并在所述单酯化反应工序中再利用，或者，/n将以杂质的形式副产的下述式(2)所表示的二羧酸二酯水解，以所述二羧酸的形式回收，并在所述单酯化反应工序中再利用，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180927 JP 2018-1819661.一种二羧酸单酯的制造方法，其具有从下述式(1)所表示的二羧酸得到下述式(3)所表示的二羧酸单酯的单酯化反应工序，其中，
将以未反应的原料的形式残留的所述二羧酸回收，并在所述单酯化反应工序中再利用，或者，
将以杂质的形式副产的下述式(2)所表示的二羧酸二酯水解，以所述二羧酸的形式回收，并在所述单酯化反应工序中再利用，



其中，所述式(1)～(3)中，
n表示1～5的整数；
A1及A2分别独立地表示可以具有取代基的芳香族烃环、可以具有取代基的芳香族杂环、可以具有取代基的脂肪族烃环或可以具有取代基的脂肪族杂环，当n为2～5的整数时，多个A2分别可以相同也可以不同；
R表示取代基。


2.一种二羧酸单酯的制造方法，其具有从下述式(2)所表示的二羧酸二酯得到下述式(3)所表示的二羧酸单酯的反应工序，其中，
将以杂质的形式副产的下述式(1)所表示的二羧酸回收，
将所述二羧酸在从所述二羧酸得到所述二羧酸单酯的单酯化反应工序中进行利用，或者，
在从所述二羧酸得到所述二羧酸二酯之后，在所述反应工序中再利用，



其中，所述式(1)～(3)中，
n表示1～5的整数；
A1及A2分别独立地表示可以具有取代基的芳香族烃环、可以具有取代基的芳香族杂环、可以具有取代基的脂肪族烃环或可以具有取代基的脂肪族杂环，当n为2～5的整数时，多个A2分别可以相同也可以不同；
R表示取代基。


3.根据权利要求1或2所述的二羧酸单酯的制造方法，其中，
所述式(1)～(3)中的A1及A2均表示可以具有取代基的碳原子数6以上的芳香环或可...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边徹，伊藤孝之，吉田有次，吉田爱子，高桥庆太，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP