【技术实现步骤摘要】
高密闭清洗机构
本专利技术涉及料斗清洗
,具体为一种高密闭清洗机构。
技术介绍
现有技术中料斗用于存储、加工和运输物料的一种容器,常运用在药剂加工工厂中,但在日常使用过程中料斗内壁上常常会附着有物料,使得操作人员需要定期清洗料斗来确保下次存储别的物料时不会影响物料质量,现有的清洗过程是通过清洗球输送水流或清洁剂对料斗内部进行清洗,使得料斗顶部开口和底部开口在清洗时要保持常开状态,这就导致有些料斗内的物质会在清洗前通过开口泄露到空气中,对人体产生危害。
技术实现思路
针对现有技术不足,本专利技术提供了一种高密闭清洗机构,为解决现有技术中料斗在清洗过程中料斗开口呈常开状态导致料斗内部物质泄露到空气中的问题。为达到上述目的,本专利技术提供了一种高密闭清洗机构,包括箱体,所述箱体内开设有供待清洗料斗放置的容腔,所述容腔内设置有用于封闭住待清洗料斗顶部开口处的第一高密闭无菌分体阀,所述第一高密闭无菌分体阀分为用于安装在待清洗料斗顶部开口处实现待清洗料斗内部密封的第一被动阀和用于与第一被动阀进行对接的第 ...
【技术保护点】
1.一种高密闭清洗机构,其特征在于:包括箱体,所述箱体内开设有供待清洗料斗放置的容腔,所述容腔内设置有用于封闭住待清洗料斗顶部开口处的第一高密闭无菌分体阀,所述第一高密闭无菌分体阀分为用于安装在待清洗料斗顶部开口处实现待清洗料斗内部密封的第一被动阀和用于与第一被动阀进行对接的第一主动阀,所述容腔内设置有用于驱动第一主动阀使其与第一被动阀对接或脱离的驱动装置,所述容腔内还设置有用于穿过第一主动阀和第一被动阀后对料斗内部进行清洗的清洗装置,所述容腔内设置有用于定位待清洗料斗位置以及封闭待清洗料斗底部开口的定位装置。/n
【技术特征摘要】
1.一种高密闭清洗机构,其特征在于:包括箱体,所述箱体内开设有供待清洗料斗放置的容腔,所述容腔内设置有用于封闭住待清洗料斗顶部开口处的第一高密闭无菌分体阀,所述第一高密闭无菌分体阀分为用于安装在待清洗料斗顶部开口处实现待清洗料斗内部密封的第一被动阀和用于与第一被动阀进行对接的第一主动阀,所述容腔内设置有用于驱动第一主动阀使其与第一被动阀对接或脱离的驱动装置,所述容腔内还设置有用于穿过第一主动阀和第一被动阀后对料斗内部进行清洗的清洗装置,所述容腔内设置有用于定位待清洗料斗位置以及封闭待清洗料斗底部开口的定位装置。
2.根据权利要求1所述的一种高密闭清洗机构,其特征在于:所述驱动装置包括两个分别设置在容腔底部两侧的第一气缸,所述第一气缸输出端连接有活塞,两个所述活塞均朝容腔顶部延伸有连接端,两个所述连接端之间连接有连接杆,所述第一主动阀设置在连接杆上且第一主动阀对接端朝向待清洗料斗顶部开口处设置。
3.根据权利要求2所述的一种高密闭清洗机构,其特征在于:两个所述活塞一侧均设置有限位杆,所述限位杆沿容腔高度方向竖立在第一气缸端面上,所述限位杆上沿其长度方向滑移有滑块,所述连接杆两端设置有连接板,两个所述滑块...
【专利技术属性】
技术研发人员:方正,方策,章貌,张勇,吕律,吴国桥,李挺,陈少博,
申请(专利权)人:浙江迦南科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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