【技术实现步骤摘要】
一种V73E改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用
本专利技术属于化妆品
，尤其涉及一种V73E改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用。
技术介绍
太阳光到达地球表面的紫外线大多为长波紫外线（UVA）和中波紫外线（UVB），它们能对皮肤的表皮层产生伤害，使皮肤老化甚至导致皮肤癌。为此，开发高性能紫外屏蔽剂已成为化妆品企业急需解决的难题之一。紫外屏蔽剂可分为无机紫外屏蔽剂（如：纳米二氧化钛和纳米氧化锌）和有机紫外屏蔽剂（如：亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚（MBBT）和二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸己酯（DHHB）。但是，这些紫外屏蔽剂成份单一，这就造成其紫外线屏蔽范围窄，不能全波段地阻隔紫外线。为此，通常采用无机-有机紫外屏蔽剂复配使用，以达到优异的全波段紫外线屏蔽效果。然而，无机紫外屏蔽剂为纳米级颗粒，表面能较高；有机紫外屏蔽剂易重结晶，这些特性使得无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂在水性体系中复配使用时存在易团聚、难分散、易沉淀和稳定性差等一系列问题，不能达到纳米级高分散的目的，不能发挥出协同屏蔽紫外线的效果，极...
【技术保护点】
1.一种V73E改性屏蔽剂，其特征在于：该V73E改性屏蔽剂是由有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂而制得，其中，所述的有机聚合物改性剂V73E，其结构式如下：/n
【技术特征摘要】
1.一种V73E改性屏蔽剂，其特征在于：该V73E改性屏蔽剂是由有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂而制得，其中，所述的有机聚合物改性剂V73E，其结构式如下：
，
其中：R1、R2、R3=H或CH3；m=10~50，n=10～100（m、n均为整数）。
2.根据权利要求1所述的V73E改性屏蔽剂，其特征在于：所述的有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂，其质量比为1：（5.5～20.6）：（8～18）。
3.根据权利要求1或2所述的V73E改性屏蔽剂，其特征在于：该V73E改性屏蔽剂是由如下步骤制得的：
1）V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的制备
将异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E混合均匀，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂与有机聚合物改性剂V73E的质量比为0.03～0.1：1；在温度为40℃～50℃条件下搅拌反应1～3小时，然后加入无机紫外屏蔽剂，升温至80℃～95℃，继续搅拌反应3～8小时，制得V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物；其中，所述的异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E的总质量与无机紫外屏蔽剂之比为0.05～0.2：1；
2）V73E改性屏蔽剂的制备
向步骤1）所得的V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物中迅速加入有机紫外屏蔽剂，其中有机紫外屏蔽剂与V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物质量之比为0.5～2：1；在此温度下继续搅拌30～60分钟后，即得V73E改性屏蔽剂。
4.根据权利要求1～3任一项所述的V73E改性屏蔽剂，其特征在于：所述的异氰酸酯基硅烷偶联剂选自3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷或3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷中的一种；所述的无机紫外屏蔽剂选自纳米氧化钛TiO2、纳米氧化锌ZnO、纳米氧化铈CeO2、纳米二氧化铁FeO2、纳米氧化锆ZrO2或纳米氧化镁MgO中的一种；其微观形貌为球状、棒状或片状中的一种；所述的有机紫外屏蔽剂选自苯基苯并咪唑磺酸PBSA、亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚MBBT、乙基己基三嗪酮UVT-150、二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸己酯DHHB、丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷BMDBM或双-乙基己氧苯酚甲氧苯基三嗪BEMT中的一种。
5.根据权利要求3所述的V73E改性屏蔽剂，其特征在于：将V73E改性屏蔽剂用于制备高分散水性浆体，具体是将V73E改性屏蔽剂分散于去离子水中制备高分散水性浆体，所述V73E改性屏蔽剂与去离子水质量之比为0.1～0.4：1，搅拌1～3小时。
6.一种制备如权利要求1或2所述V73E改性屏蔽剂的方法，其特征在于：其制备步骤如下：
1）V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的制备
将异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E混合均匀，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂与有机聚合物改性剂V73E的质量比为0.03～0.1：1；在温度为40℃～50℃条件下搅拌反应1～3小时，然后加入...
【专利技术属性】
技术研发人员：季晓峻，潘柯敏，
申请(专利权)人：上海迪摩化学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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