设计存储器寄存器的方法和系统技术方案

一种用于设计寄存器布图的系统和方法。根据本发明专利技术的一些实施例，技术规格结合项目规格以形成一组项目特定布图约束。该项目特定约束可用于形成布图。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总体涉及集成电路设计领域。更特别是，本专利技术涉及使设计和 布图定制存储器寄存器的过程至少部分自动化的系统和方法。
技术介绍
先前基于真空管制造电子计算设备(例如计算机)。后来半导体器件 代替真空管，在半导体器件中，第一分离的半导体器件在每个设备基底上具有一个晶体管。随后半导体制造技术的改进使得可以以集成电路(IC)形式将多个晶体管放置在单个基底上。作为该集成的结果，使得更多的独 立的功能和复杂系统成为可能。第一小自集成电路(SSI) IC在单个芯片上具有非常少的器件二 极管、晶体管、电阻器和电容器(没有任何电感器)，这使得可在单个器 件上制造一个或多个逻辑门。进一步制造计算设备利用了大规模集成 (LSI)IC，其在单个IC上具有至少一千个逻辑门。对基于计算设备的LSI的自然后继为基于计算设备的超大规模集成电 路(VLSI-在一个芯片上有数以万计的门)。当前的IC制造技术已经远 远超过了该特征，而且今天的微处理器具有数百万的门和数亿的单个晶体 管。因此，VLSI电路的设计过程从较简单的过程^A成为现代的复杂集成 电路，在所述简单的过程中，初始时将较少的电路置于电路布图，在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设计寄存器布图的方法，包括：从技术规格和项目规格获得一组项目特定布图约束。

【技术特征摘要】
US 2006-11-2 11/555,7471.一种设计寄存器布图的方法，包括从技术规格和项目规格获得一组项目特定布图约束。2. 根据权利要求1的方法，还包括使用所述项目特定布图约束修改通 用寄存器形成规则。3. 根据权利要求2的方法，还包括将所述修改的通用寄存器形成规则用于定制寄存器设计要求，以形成寄存器布图。4. 根据权利要求l的方法，其中所述项目规格包括选自于以下^t的 一个或多个参数晶体管尺寸、晶体管特征、金属互联规则、制造网格、 每个寄存器的最大位数、标准寄存器布图拓朴、逻辑/电工作计算方法、以 及时钟信号分布方法。5. 根据权利要求2的方法，其中所述通用寄存器形成规则包括选自于 以下参数的一个或多个参数用于所述寄存器中的存储单元的晶体管尺寸、 电源位置、本地时钟緩沖器尺寸、时钟信号的结构、以及时钟信 号电容负载。6. 根据权利要求3的方法，其中所述定制寄存器设计要求包括选自于 以下参数的一个或多个参数位数、时钟底板的位置和尺寸、锁存类型、 信号驱动强度、极性、可测试性选项和布图中的数据流方向。7. 根据权利要求3的方法，其中所述寄存器布图是选自于以下形式的 一种或多种形式逻辑示意图、符号图、和物理布图。8. 根据权利要求3的方法，其中所述寄存器布图是可执行代码。9. ...

【专利技术属性】
技术研发人员：O杰瓦，N阿米特，A马加里特，RA菲洛维尔，A拉法耶维奇，L戈伦，A图利，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]