环境遮蔽渲染方法、装置、存储介质及电子设备制造方法及图纸

本公开涉及图像处理领域，具体涉及一种环境遮蔽渲染方法、一种环境遮蔽渲染装置、一种计算机可读存储介质和一种电子设备。该环境遮蔽渲染方法包括确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。本公开的环境遮蔽渲染方法能够在模拟环境遮蔽效果的同时，降低CPU的开销。

【技术实现步骤摘要】
环境遮蔽渲染方法、装置、存储介质及电子设备
本公开涉及图像处理领域，具体涉及一种环境遮蔽渲染方法、一种环境遮蔽渲染装置、一种计算机可读存储介质和一种电子设备。
技术介绍
在实时渲染的应用中，当角色处于室内或者大面积阴影内部时，脚下就失去了明暗对比。对于PC或者游戏主机而言，一般采用屏幕空间的环境遮蔽效果来解决这个问题，但是在移动平台，由于受性能以及发热的限制，需要一种更轻量的解决方案。在现有技术中，通常采用两种方法来解决这个问题：一种是使用面片，通过在角色脚下创建一个面片，使用一张圆形的纹理采取alphablend进行绘制。但这种方法在地面有坡度或者凹凸不平时，可能会造成错误的遮挡关系，或者采用软粒子的方式柔和插入到地面的硬边，但阴影效果较差。另一种是利用projector的方式进行阴影绘制，首先通过projector的视景体裁剪出处于projector内的模型，然后对这些模型传入projector的投影矩阵再渲染一遍，以得到采样uv。但这种方法需要CPU做一次视景体裁剪，消耗CPU性能，另外，被投影的模型需要再渲染一遍，如果模型面数巨大，则造成比较大的CPU开销。需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种环境遮蔽渲染方法、一种环境遮蔽渲染装置、一种计算机可读存储介质和一种电子设备，旨在模拟环境遮蔽效果的同时，降低CPU的开销。本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。根据本公开实施例的一个方面，提供了一种环境遮蔽渲染方法，包括：确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点，包括：获取位于相机坐标空间的目标对象对应的渲染模型；根据所述渲染模型计算视景体模型；渲染所述视景体模型并进行深度测试，以标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点。根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述渲染所述视景体模型并进行深度测试，以标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点，包括：渲染所述视景体模型的第一面得到第一渲染模型，对所述第一渲染模型进行深度测试，计算第一模板数值；渲染所述视景体模型的第二面得到第二渲染模型，对所述第二渲染模型进行深度测试，基于第一模板数值计算第二模板数值；根据所述第二模板数值标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点。根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述视景体模型的第一面包括面向相机的一面或远离相机的一面。根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述方法还包括：计算所述采样点的世界坐标，包括：渲染所述视景体模型以获取所述采样点的深度值；根据所述采样点的深度值计算所述采样点的世界坐标。根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图，包括：利用投影组件将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，以获取透视矩阵；根据所述透视矩阵和所述采样点的世界坐标计算投影贴图；采样阴影纹理，并根据所述阴影纹理将所述投影贴图生成所述纹理贴图。根据本公开的一些实施例，基于前述方案，所述确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，包括：根据所述采样点的投影位置坐标和世界坐标计算所述采样点的高度差；以及设置环境遮蔽渐变距离；根据所述高度差和所述环境遮蔽渐变距离计算所述环境遮蔽渲染值。根据本公开实施例的第二个方面，提供了一种环境遮蔽渲染装置，包括：标记模块，用于确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；投影模块，用于将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；绘制模块，用于确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。根据本公开实施例的第三个方面，提供了一种一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述程序被处理器执行时实现如上述实施例中的环境遮蔽渲染方法。根据本公开实施例的第四个方面，提供了一种电子设备，其特征在于，包括：一个或多个处理器；存储装置，用于存储一个或多个程序，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行时，使得所述一个或多个处理器实现如上述实施例中的环境遮蔽渲染方法。本公开示例性实施例可以具有以下部分或全部有益效果：在本公开的一些实施例所提供的技术方案中，一方面，将目标对象处于投影空间内的像素点标记为采样点，然后将所述采样点通过透视变换投影至透视空间并计算纹理贴图，最后根据所述纹理贴图绘制上所述目标对象的环境遮蔽图像。一方面，通过标记投影空间内的像素点为采样点可以避免对目标对象的视景体做一遍裁剪，保证了环境遮蔽效果的同时，也省去了CPU计算，从而可以应用于移动端减少性能以及发热的限制；另一方面，在绘制环境遮蔽图像时只将采样点投影至透视空间，做一些模拟环境遮蔽的计算，从而避免渲染全部的投影模型，在模型面数巨大或复杂时也有不错的环境遮蔽效果。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：图1示意性示出本公开示例性实施例中一种使用面片的环境遮蔽渲染方法的示意图；图2示意性示出本公开示例性实施例中一种环境遮蔽渲染方法的流程示意图；图3示意性示出本公开示例性实施例中一种视景体模型的示意图；图4示意性示出本公开示例性实施例中一种处于视景体模型投影空间内采样点的示意图；图5示意性示出本公开示例性实施例中一种环境遮蔽渲染装置的组成示意图；图6示意性示出本公开示例性实施例中一种计算机可读存储介质的示意图；图7示意性示出本公开示例性实施例中一种电子设备的计算机系统的结构示意图。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。此外，所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种环境遮蔽渲染方法，其特征在于，包括：/n确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；/n将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；/n确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。/n

【技术特征摘要】
1.一种环境遮蔽渲染方法，其特征在于，包括：
确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点；
将所述采样点通过透视变换投影至透视空间，并基于所述采样点的世界坐标确定纹理贴图；
确定所述采样点的环境遮蔽渲染值，并根据所述环境遮蔽渲染值和所述纹理贴图渲染与所述目标对象对应的环境遮蔽图像。


2.根据权利要求1所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述确定目标对象位于投影空间内的像素点以标记为采样点，包括：
获取位于相机坐标空间的目标对象对应的渲染模型；
根据所述渲染模型计算视景体模型；
渲染所述视景体模型并进行深度测试，以标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点。


3.根据权利要求2所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述渲染所述视景体模型并进行深度测试，以标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点，包括：
渲染所述视景体模型的第一面得到第一渲染模型，对所述第一渲染模型进行深度测试，计算第一模板数值；
渲染所述视景体模型的第二面得到第二渲染模型，对所述第二渲染模型进行深度测试，基于第一模板数值计算第二模板数值；
根据所述第二模板数值标记处于所述视景体模型投影空间内的像素点作为所述采样点。


4.根据权利要求3所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述视景体模型的第一面包括面向相机的一面或远离相机的一面。


5.根据权利要求1所述的环境遮蔽渲染方法，其特征在于，所述方法还包括：计算所述采样点的世界坐标，包括：
渲染所述视景体模型以获取所述采样点的深度值；
根据所述采样点的深度值...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴黎辉，
申请(专利权)人：网易杭州网络有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33