一种基于中红外吸收光谱的高岭石羟基插层/接枝率测试方法技术

本发明专利技术涉及一种基于红外吸收光谱的高岭石羟基插层/接枝率测试方法，包括以下步骤：(1)溴化钾压片法制备样品；(2)利用拟合方法将高岭石的中红外光谱的羟基混合峰拟合为4个单峰，(3)以特征峰在3620.0cm

【技术实现步骤摘要】
一种基于中红外吸收光谱的高岭石羟基插层/接枝率测试方法
本专利技术属于地质样品检测检测领域，具体涉及一种基于红外吸收光谱的高岭石羟基插层/接枝率测试方法。
技术介绍
高岭石是重要的无机非金属矿物，具有重要的科研和工业应用价值。插层与接枝反应是粘土矿物表面处理的常用方法，能给无机矿物晶体引入有机基团，显著改善其表面物化特性。高岭石的化学式是Al2(Si2O5)(OH)4，以氧化物的形式可表示为：Al2O3·2SiO2·2H2O，相对分子质量为258.16，属三斜晶系，a0＝0.514nm，b0＝0.893nm，c0＝0.737nm，α＝91.8°，β＝104.5°，γ＝90°。为硅氧四面体片和铝氧八面体片以1∶1结合组成单层，再由大量单层叠置而成。高岭石晶层内单元结构层仅为五个原子层厚度，形成了独特的准二维的层状结构，层与层之间的空间称为层间域。高岭石基本结构单元层的结构如图1所示。近几十年来，粘土矿物结构的最主要研究方法是X射线衍射方法，用衍射峰的位置与强度来进行物相的定性分析。二次离子质谱是测定矿物中的氢含量的最好方法之一。但本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于红外吸收光谱的高岭石羟基插层/接枝率测试方法，包括以下步骤：/n(1)溴化钾压片法制备样品；/n(2)利用拟合方法将高岭石的中红外光谱的羟基混合峰拟合为4个单峰，拟合的单峰特征峰分别在3620.0cm

【技术特征摘要】
1.一种基于红外吸收光谱的高岭石羟基插层/接枝率测试方法，包括以下步骤：
(1)溴化钾压片法制备样品；
(2)利用拟合方法将高岭石的中红外光谱的羟基混合峰拟合为4个单峰，拟合的单峰特征峰分别在3620.0cm-1附近，3650.0cm-1附近，3668.0cm-1附近，3694.8cm-1附近；
(3)以特征峰在3620.0cm-1的单峰为参考峰，以特征峰在3650.0cm-1附近，3668.0cm-1附近，3694.8cm-1附近三个单峰之一为定量峰；分别测试高岭石原矿样品和待测样品参考峰峰面积和定量峰的峰面积；
(4)设置相关系数
(5)根据公式计算得到样品矿石的羟基插层/接枝率。


2.如权利要求1所述的测试方法，其特征在于，步骤(1)溴化钾压片法制备样品是将待测高岭石样品和KBr混合均匀，压制成膜；待测样品和KBr的质量比例为1:100-200。

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓光，苏文，刘钦甫，
申请(专利权)人：中国科学院地质与地球物理研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11