衍射气溶离子无土栽培电灌器制造技术

衍射气溶离子无土栽培电灌器不但可对植物，还可对微生物、寄生物、滋生物等进行衍射气溶离子栽培。本发明专利技术就是在营养液池内设置成对压电晶片，压电晶片的衍焦点在营养液池的营养液的液面上；电路中，整流电路前设置双向可控硅交流固态调压器。本发明专利技术可成倍缩短培养物的生长周期，具有结构简单、耗能少、易于管理，并能对营养液进行连续消毒的特点。（*该技术在2011年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本专利技术是衍射气溶离子无土栽培电灌器产品，本装置不但可对植物，还可对微生物、寄生物、滋生物等进行衍射气溶离子栽培。现有国内外的无土栽培装置，虽然栽培出的作物具有营养丰富、品质好，而且单位面积的产量可比常规生产高达上百倍等优点。但是构成该类装置主要构件不外乎是液泵、管道，喷嘴，控制部份等，因此结构比较庞大、耗能大、管理复杂，病毒侵入营养液内也不易控制;尤其是作物的吸收营养还保持在常规模式上，生长速度没有显著的提高，因此经济效益并不理想，不易得到推广普及。本专利技术的目的就是针对上述问题，提供一种能使营养液成气溶离子迷雾状的栽培方式、使培养物迅速生长，并且结构简单，同时能对营养液连续灭菌的衍射气溶离子无土栽培电灌器。本专利技术的目的是这样实现的，本专利技术包括营养液池、整流电路、振荡电路、压电晶片，其主要技术特点是在营养池内设置成对压电晶片，成对压电晶片的表面相交的衍射夹角为110°-160°，成对压电晶片的中心点的垂直线相交成衍焦点，衍焦点至压电晶片中心点的距离为30-60毫米，衍焦点在营养液池的营养液的液面上，衍射夹角的角分线同营养液的液面成50°-80°的喷射夹角;电路中整流电路前设置双向可控硅交流固态调压器。本专利技术的主要优点：1、成倍缩短培养物的生长周期：营养液（包括水分子）经衍换能后所产生的气溶离子迷雾流体，-->它是一种载有各种元素异名电荷能量和多种能量场势能压差的高密度微粒。其自身高速旋转，相互吸引不易消失，几十秒钟即可将所有栽培物覆盖，并连续进行自动循环，在其所有的根、茎、叶的接触面上。以电子中和方式吸收交换能量后，还原于液体，由高至低进行液体自动循环，来实施超声波耕培、离子耕培、静电感应耕培、势能压差耕培、活性磁化水耕培、雾培、气培、淋耕、滴灌九种耕培功能，因此可使培养物以惊人的速度生长，例如，一年生的人参栽子，经本装置栽培，4天可拔茎12-15厘米，8天拔茎、枝、叶25-30厘米，17天全开花，25天作成，45天完成一个生长周期，其重量相当于园田参6年以上的重量。本装置尤其对细胞生长、微生物、寄生物、滋生物、菌丝速培，更是快速，例如栽培平菇，从孢子萌发米粒大开始，长到直径为15厘米，仅用36个小时;2、结构简单、耗能少，易于管理：本装置使营养液在衍焦点处以连续不断地爆发形式成气溶微粒、构成迷雾流体，就可推动迷雾流体连续不断的前进，这就避免采用液泵（或气泵）等一些复杂的设备。例如家用本装置的栽培槽总重不超过3公斤，仅是国外无土栽培设备重量的万分之几，耗能最多不超过30瓦。正因为结构简单、紧凑，易为人们掌握，易于家庭或工厂化管理;3、对营养液连续消毒：衍焦点处营养液被改变成迷雾气溶微粒的同时，由于超声波衍射作用，可同时连续起到杀菌消毒的效果，使营养液不易产生病害。-->图1是本专利技术的结构示意图;图2是图1的右视图;图3是本专利技术的电路原理图;图4是本专利技术的实施例的示意图;下面结合附图对本专利技术的具体结构及使用方法作进一步的详细说明：本专利技术包括营养液池3，整流电路D、振荡电路13、压电晶片JT，在整流电路D前设置双向可控硅交流固态调压器14;营养液池3内设置成对压电晶片JT，成对压电晶片JT的表面相交的衍射夹角γ1为110°-160°，成对压电晶片JT的中心点B的垂直线相交成衍焦点A，衍焦点A至压电晶片JT的中心点B的距离为30-60毫米，衍焦点A在营养液池3的营养液4的液面上，衍射夹角γ1的角分线N同营养液4的液面成50°-80°的喷射夹角γ2。见图1、2，机体1的下方设置营养液池3，机体1上方为储液容器6，营养液池3的上方的机体1侧面上具有迷雾体出口9，出口9上设置有由调节钮12所控制的闸门10，以控制迷雾体输出量及输出的方向，营养液4的液面上设置液位传感器5，以此发出指令使之储液容器6里营养液4随时补充到营养液池3内，维持设定的营养液4的液面的高度;营养液池3的底部设置回液孔11、迷雾体经过循环使用后还有部份会还原成液体，就可通过回液孔11再次回到营养液池3中，得到循环使用;机体1底部设置引风的电风扇2，它即可有助于加快迷雾流体循环速度，又可对电气元件进行散热。机体1的上部设置电气箱7，营养液池6的顶部设置盖8。-->见图3，本电路基本上是常规电路，主要区别是在整流电路前设置双向可控硅交流固态调压器14，由此可产生射频激励，为振荡电路13提供较宽的振荡辐度。由双向可控硅交流固态调压器14、整流电路D和继电器Kj组成电源电路，当220V电流经开关K输入后，由双向可控硅交流固态调压器14的调压电阻W调（10-40V）后，送至整流电路D进行全桥整流，R、C是调压器的保护电路，R可采用压敏电阻，L是消除波形对电源所产生的射频干扰，KJ是干簧管的继电器，当营养液池3无营养液4时，传感器5上浮漂开关的磁性材料随之液面移动、接近继电器KJ，继电器KJ接到指令后即可断电。由C1、L1、BG1组成LC振荡电路，R1是偏流电阻，L2是阻尼线圈，Bx是分控保险管，LED是分控显示发光二极管。经D整流电路整流后，送至下一极或多级振荡电路13，起振后的振荡电压由压电晶片JT进行超声衍射换能。该振荡电路13可实行分控显示，可封装制成模块，可相互替换，组合使用。见图4，本装置18实际使用时，可将本装置18置于培养槽17的一侧，培养槽17的底部同本装置18的回液管11相连，培养槽17的上部同本装置18的上部相连，培养槽17的中部设置定植隔板16，定植隔板16的两侧同培养槽17侧面之间留有迷雾体循环通道15。被培养物根、茎、叶的表面尽量接触迷雾体，接触面越大，电灌效果越好。培养槽17所用材料可随意，也可因陋就简，用砖、石、水泥砌成也可。培养槽17可多个重叠使用。本装置18使用的营养液4是常规的营养液;培养物的周期是一-->般同行技术人员是均可掌握的。实施例1：成对压电晶片JT相对衍射夹角γ1的角分线N呈对称设置，衍射夹角γ1为140°，喷射夹角γ2为70°，衍焦点A至压电晶片JT的中心点B的距离均为50毫米。本文档来自技高网...

【技术保护点】
衍射气溶离子无土栽培电灌器，包括营养液池３、整流电路Ｄ、振荡电路１３、压电晶片ＪＴ，其特征在于在整流电路Ｄ前设置双向可控硅交流固态调压器１４；营养液池３内设置成对压电晶片ＪＴ，成对压电晶片ＪＴ的表面相交的衍射夹角γ↓［１］为１１０°－１６０°，成对压电晶片ＪＴ的中心点Ｂ的垂直线相交成衍焦点Ａ，衍焦点Ａ至压电晶片ＪＴ的中心点Ｂ的距离为３０－６０毫米，衍焦点Ａ在营养液池３的营养液４的液面上，衍射夹角γ↓［１］的角分线Ｎ同营养液４的液面成５０°－８０°的喷射夹角γ↓［２］。

【技术特征摘要】
1、衍射气溶离子无土栽培电灌器，包括营养液池3、整流电路D、振荡电路13、压电晶片JT，其特征在于在整流电路D前设置双向可控硅交流固态调压器14；营养液池3内设置成对压电晶片JT，成对压电晶片JT的表面相交的衍射夹角γ1为110°-160°，成对压电晶片JT的中心点B的垂直线相交成衍焦点A，衍焦点A至压电晶片JT的中心点B的距离为30...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯庆江，
申请(专利权)人：冯庆江，
类型：发明
国别省市：22[中国|吉林]